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一种可降解多嵌段聚合物的制备方法技术

技术编号:5097117 阅读:237 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
本发明专利技术公开了一种可降解多嵌段聚合物的制备方法。它是在溶剂存在的条件下,将1摩尔端基官能团为卤素的聚合物与0.5~5摩尔自由基捕捉剂、2~10摩尔的金属铜或铜盐和2~10摩尔的多胺加入反应器中,搅拌,脱氧后,10~100℃反应0.1~24小时,得到可降解多嵌段聚合物。本发明专利技术合成方法简单、反应条件温和,可以用于合成不同单体类型、嵌段数不同的多嵌段聚合物制备,嵌段数可以超过30段。本发明专利技术还可以使用主链为不同单体、端基官能团为卤素的聚合物,与自由基捕捉剂反应制备可降解多嵌段共聚物。当加热到一定温度,该多嵌段聚合物可以发生降解,得到单分散的低分子量齐聚物。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及聚合物的制备方法,尤其涉及。
技术介绍
多嵌段聚合物由不同聚合物链段链接而成,根据链接的聚合物不同,可以表现 出不同的性能。例如,将软链段与硬链段链接,轻水与疏水链段链接或者结晶与非结晶 链段链接,得到的多嵌段共聚物的材料就能表现出一些非常规的性能或者形态。可以用 于新型表面活性剂、热塑性弹性体以及聚合物共混的增容剂的开发。传统的多嵌段共聚物合成方法主要有两种。第一种是往活性聚合体系中不断加 入新的不同单体,一段段地制备聚合物,可称之为逐段法。第二种是首先合成具有不同 末端官能团的低聚物,然后低聚物之间通过官能团之间的反应使其键合形成多嵌段共聚 物,可称之为偶联法。在上述两种方法中,第一种方法需要经过多步添加新单体,进行 聚合反应。新单体的引入不可避免会引入杂质使得活性中心失活,产生低于预期嵌段数 的聚合物。另一方面,由于是逐段合成的策略,该方法合成得到的嵌段数不可能很高。 第二种方法合成的嵌段数取决于端基的反应程度,当端基反应程度不高时,很难得到高 嵌段数的聚合物。
技术实现思路
本专利技术的目的是克服现有技术的不足,提供。可降解多嵌段聚合物的制备方法是在溶剂存在的条件下,将1摩尔端基官能团 为卤素的聚合物与0.5 5摩尔自由基捕捉剂、2 10摩尔的金属铜或铜盐和2 10摩 尔的多胺加入反应器中,搅拌,脱氧后,10 100°C反应0.1 24小时,得到可降解多嵌 段聚合物。2.根据权利要求1所述的,其特征在于所述 的自由基捕捉剂为下式所示的亚硝基化合物(Al),二苯乙烯化合物(A2)或硫酮化合物 (A3)权利要求1.,其特征在于在溶剂存在的条件下,将1摩尔 端基官能团为卤素的聚合物与0.5 5摩尔自由基捕捉剂、2 10摩尔的金属铜或铜盐和 2 10摩尔的多胺加入反应器中,搅拌,脱氧后,10 100°C反应0.1 24小时,得到 可降解多嵌段聚合物。2.根据权利要求1所述的,其特征在于所述的 自由基捕捉剂为下式所示的亚硝基化合物(Al),二苯乙烯化合物(A2)或硫酮化合物 (A3)3.根据权利要求1所述的,其特征在于所述的金 属铜为铜粉、铜丝或铜片。4.根据权利要求3所述的,其特征在于所述的铜 盐为氧化亚铜、硫化亚铜、碲化亚铜、硒化亚铜、溴化亚铜、氯化亚铜或碘化亚铜。5.根据权利要求1所述的,其特征在于所述的 多胺为2,2,-联吡啶、4,4,-二(5-壬基)-2,2,-联吡啶、1,10-菲咯啉、N, N,N,,N,-四甲基乙二胺、N-丙基-(2-吡啶基)甲胺、2,2, 6,,2” -三联 吡啶、4,4,,4” -三(5-壬基)-2,2, 6,,2” -三联吡啶、N,N,N,,N”, N” _五甲基二乙基三胺、N,N-二(2-吡啶基甲基)辛胺、1,1,4,7,10,10-六甲 基三乙基四胺、三胺或三胺。6.根据权利要求1所述的,其特征在于所述的端基为卤素的聚合物为α-溴化聚苯乙烯,α,ω-溴化聚苯乙烯、 叔丁酯、α,ω-溴化聚丙烯酸叔丁酯、α,ω-溴化聚己内酯、α 烯-b_聚丙烯酸叔丁酯、α,ω-溴化聚环氧乙烷-b_聚环氧丙烷或α 烯-b_聚丙烯。α-溴化聚丙烯酸 ω-溴化聚苯乙 ,ω-溴化聚苯乙全文摘要本专利技术公开了。它是在溶剂存在的条件下,将1摩尔端基官能团为卤素的聚合物与0.5~5摩尔自由基捕捉剂、2~10摩尔的金属铜或铜盐和2~10摩尔的多胺加入反应器中,搅拌,脱氧后,10~100℃反应0.1~24小时,得到可降解多嵌段聚合物。本专利技术合成方法简单、反应条件温和,可以用于合成不同单体类型、嵌段数不同的多嵌段聚合物制备,嵌段数可以超过30段。本专利技术还可以使用主链为不同单体、端基官能团为卤素的聚合物,与自由基捕捉剂反应制备可降解多嵌段共聚物。当加热到一定温度,该多嵌段聚合物可以发生降解,得到单分散的低分子量齐聚物。文档编号C08F293/00GK102010490SQ20101050450公开日2011年4月13日 申请日期2010年10月12日 优先权日2010年10月12日专利技术者张成裕, 王齐 申请人:浙江大学本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种可降解多嵌段聚合物的制备方法,其特征在于在溶剂存在的条件下,将1摩尔端基官能团为卤素的聚合物与0.5~5摩尔自由基捕捉剂、2~10摩尔的金属铜或铜盐和2~10摩尔的多胺加入反应器中,搅拌,脱氧后,10~100℃反应0.1~24小时,得到可降解多嵌段聚合物。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:张成裕王齐
申请(专利权)人:浙江大学
类型:发明
国别省市:86

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