能够检测多点触摸的电阻式触摸屏及其制造方法技术

公开了一种能够检测多点触摸的电阻式触摸屏及其制造方法，其中，形成在透明导电膜上的至少一个或多个单元有效区域形成有金属布线图案，并且，对所有金属布线图案中的一部分应用光刻工程方法，而对剩余部分应用丝网印刷过程，从而通过采用光刻工程过程和丝网印刷过程提供具有精细图案和显著减小的布线电阻的金属布线图案可以制造具有高分辨率的能够检测多点触摸的电阻式触摸屏。

【技术实现步骤摘要】
相关申请的交叉引用本申请要求2009年9月29日提交的韩国专利申请No. 10-2009-0092598的在先 申请日和优先权的权益，其全部内容通过引用合并于此。
本公开涉及一种。技术背景伴随着电子工程和信息技术的不断发展，电子设备在我们日常生活(包括工作环 境)中的使用时间已稳定的增长。近来电子设备的种类已大大地多样化了，更具体地，新设 计的具有新功能的设备涌入诸如笔记本电脑和移动电话之类的便携式电子设备领域。由于 我们在日常生活中遇到的电子设备的种类逐渐多样化，并且电子设备的功能变得精细和复 杂，因此对容易使用且操作直观的用户界面的需求增加。与能够满足需要的输入设备一样，触摸屏设备接收信息(interest)，并且触摸屏 设备广泛地应用于许多电子设备中。触摸屏设备是一种被配置用来检测显示屏上的接触位 置并且通过利用作为输入信息的接触位置来控制包括显示屏的电子设备。图1是现有技术的4线电阻式触摸屏。如图1所示，具有透明导电膜的4线电阻式触摸屏包括形成有电极40、透明导电 膜50和点隔片(dot spacer) 60的下基板10结构；形成有透明导电膜50和电极20的上基 板30结构；以及双面胶，被配置用来将上基板结构和下基板结构贴合，从而使得4线电阻膜 方法的触摸屏可以将信号从外部输入到上基板结构和下基板结构和/或将信号从上基板 结构和下基板结构输出到外部。对触摸输入的位置进行识别，从而使得在触摸输入被输入到上基板30的情况下， 在上基板30、下基板10的透明导电膜上进行物理接触，识别形成在相对的基板的接触点上 的X轴和Y轴电势，以基于电势值间接地识别位置。参照图2A，Y轴方向电势被形成为在Y轴电势产生电极40形成为关于具有预定电 阻值的透明导电膜10的上/下端对称，并且向上/下电极40施加预定电压的情况下，在透 明导电膜10上形成Y轴方向等势线45。通过穿过相对的基板的透明导电膜10的触摸压力来测量和识别Y轴方向电势值， 测量上/下基板上接触点的Y坐标识别。如图2B所示，以下述方法测量X轴电势，在预定 电压施加在X轴方向电极40上的情况下，X轴方向等势线45形成在透明导电膜上，所述X 轴方向电极40对称地形成在具有预定电阻值的透明导电层10的左/右端。通过穿过相对 的基板的透明导电膜10的触摸压力来测量和识别在上/下基板上的接触点的X坐标识别， 所述基板具有形成在X轴方向的电势值。由于结构简单，通过丝网印刷方法，已使用4线电阻膜接触屏的上述结构来形成 电极。但是，由于近来使用了触摸屏的移动终端上的显示设备的功能已变得多样化，因此，由于代替了仅识别一个触摸信号的方式，对于多点触摸屏的需求增加，所以，对能够通过检 测多点触摸信号来驱动的电阻式触摸屏的需求增加。为了制造多点触摸屏，增加电极是不可避免的，更具体地，在将多点触摸屏应用 于移动终端的情况下，现在的趋势是，作为非有效区域的、是屏(有效区域)的边缘的框 (bezel)的尺寸减小到3mm以内。然而，由于形成传统的布线图案的过程的限制，难以批量 生产布线宽度小于80 μ m的布线图案。就是说，由于在用于形成传统的布线图案的丝网印 刷过程中的过程限制，因此难以形成具有细的线宽和线间距的布线结构。实际上，当在传统的丝印方法中线宽和线间距小于200 μ m的情况下，难以在批量 生产期间控制尺寸，从而不能获得稳定的产量，因此批量生产小于80 μ m的布线宽度的布 线结构几乎是不可能的。作为克服所述缺点的方法，尽管已考虑使用光刻工程过程来形成布线，但是仍存 在光刻工程过程在形成使用薄金属型电极材料的布线图案时电阻高的缺点。即使在多电阻式触摸屏中，形成电极图案的布线的数量也增加，使得电极布线图 案变长并使得电阻迅速增大。
技术实现思路
鉴于上述问题而提出本公开，并且本公开的目的是提供一种能够检测多点触摸的 电阻式触摸屏，其通过在形成金属布线图案时采用光刻工程过程和丝网印刷过程提供具有 精细图案和显著减小的布线电阻的金属布线图案而具有高分辨率。在本公开的一个概括方面，提供一种能够检测多点触摸的电阻式触摸屏的制造 方法，其中，所述方法包括金属布线图案形成过程，在金属布线图案形成过程中，形成在透 明导电膜上的一个或多个单元有效区域形成有金属布线图案，并且，在ITO(氧化铟锡)、 IZO(氧化铟锌)和SiO(氧化锌)透明导电膜中的任意一个上所形成的至少一个或多个单 元有效区域上形成布线图案时，对所有金属布线图案中的一部分应用光刻工程方法，而对 剩余部分应用丝网印刷过程。在本公开的一些示例性实施例中，金属布线图案的形成过程如下，通过光刻过程 形成与邻近接线端部分的单元有效区域相连接的m个第一布线图案组，通过丝网印刷过程 形成η个第二布线图案组，或者在透明导电膜上形成整个金属布线图案之后，通过丝网印 刷过程形成除了 m个第一布线图案组之外的η个第二布线图案组，其中整个金属布线图案 的长度(N) =m长度+η长度，其中，N、m和η是自然数，且m≥η。在本公开的一些实施例中，金属布线图案的形成过程可包括在透明导电膜上形 成金属薄膜以形成布线；形成金属布线图案，其中，利用光刻过程，每个金属薄膜都与单元 有效区域连接；以及在除了与邻近接线端部分的单元有效区域相连接的m个第一布线图案 组之外的η个第一布线图案组的布线图案上形成第二布线图案，其中整个金属布线图案的 长度(N) =m的长度+η的长度，其中，N、m和η是自然数，且m≥η。在本公开的一些示例性实施例中，所述光刻过程可包括通过经由曝光、显影和蚀 刻在透明导电膜上涂覆感光材料来形成布线图案的过程。在本公开的一些示例性实施例中，形成所述金属布线图案的导电材料可包括含有 Ag、Al、Cu、Au、Ni、Pd、Sn和Co的材料中的任意一种，或者可以使用由上述材料的二元合金或三元合金形成的材料。在本公开的一些示例性实施例中，所述金属布线图案的线宽可以在ΙΟμπι到 80 μ m的范围内。在本专利技术的另一概括方面，提供一种能够检测多点触摸的电阻式触摸屏，其中，由 形成在具有金属布线图案的透明导电膜上的上板和下板形成触摸屏，所述金属布线图案通 过光刻和丝网印刷过程与单元有效区域的侧端连接，并且其中，形成在上板和下板上的单 元有效区域彼此垂直，并且其中，穿过单元有效区域相连接的金属布线图案的线宽在 ο μ m 到80 μ m的范围内。在本公开的一些示例性实施例中，所述金属布线图案可包括与形成在上板和下板 上的接线端部分邻近的第一布线图案组和除了第一布线图案组之外的第二布线图案组，其 中第二布线图案组被印刷在第一布线图案组的上表面上。在本公开的一些示例性实施例中，所述金属布线图案可包括与形成在上板和下板 上的接线端部分邻近的第一布线图案组和除了第一布线图案组之外的第二布线图案组，其 中，在第一和第二布线图案组之间形成连接图案单元。在本公开的一些示例性实施例中，连接图案单元的数量与整个布线图案的数量相 对应。在本公开的一些示例性实施例中，第一布线图案组的电阻可以在200 Ω到IkQ的 范围内，第二布线图案组的电阻可以在10Ω到30Ω的范围内。根据本公开的的有益效果在于， 通过应用光刻和丝网印刷过程来完成金属布线图案，以实现精细的图案和显著本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种能够检测多点触摸的电阻式触摸屏的制造方法，其中，所述方法包括金属布线图案形成过程，在所述金属布线图案形成过程中，形成在透明导电膜上的至少一个或多个单元有效区域形成有金属布线图案，并且，当在形成在ＩＴＯ（氧化铟锡）、ＩＺＯ（氧化铟锌）和ＺｎＯ（氧化锌）透明导电膜中的任意一个上的至少一个或多个单元有效区域上形成布线图案时，对所有金属布线图案中的一部分应用光刻工程方法，而对剩余部分应用丝网印刷过程。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：洪赫振，
申请(专利权)人：LG伊诺特有限公司，
类型：发明
国别省市：KR[韩国]