红外吸收化合物、以及含有该化合物的微粒制造技术

一种含有由式（１）表示的化合物的微粒：其中Ｒ１ａ和Ｒ１ｂ可以是相同的或者不同的，并且各自独立地表示烷基、芳基或杂芳基；Ｒ２和Ｒ３各自独立地表示氢原子或者取代基，并且Ｒ２和Ｒ３中的至少之一是吸电子基团；Ｒ２可以结合到Ｒ３以形成环；Ｒ４表示氢原子、烷基、芳基、杂芳基、取代的硼或者金属原子；并且Ｒ４可以共价连接或者配位连接到Ｒ１ａ、Ｒ１ｂ和Ｒ３中的至少之一。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及在近红外区显示出吸收性，但是在可见区不显示吸收性的红外吸收化 合物、以及包括该化合物的微粒。
技术介绍
近红外吸收染料在很宽的领域内用于各种用途。例如，该染料被用于等离子显示 面板(PDP)或CCD的红外切割膜、热射线屏蔽膜中的光学滤波器、或者在一次性记录光盘 (CD-R)中的光热转换材料或者可快速熔化及可固定材料。此外，该染料被用作安全墨水或 者不可见条形码墨水的信息显示材料。对于近红外吸收染料，该染料优良的不可见性，即该 染料是不可见的性能，以及该染料对于近红外区的射线显示出强的吸收性是非常重要的。 此外，对于所有的染料，需要高的耐久性(坚牢度)。作为在400-700nm的波长范围内很难显示吸收性并且不可见性优良的染料，可以 提及氰甲碱染料或者它的J缔合体。然而它们长的次甲基共轭链是柔性的，从而，该染料容 易被异构化以至于吸收波长被改变，或者该染料容易通过加热或者通过与氧或者亲核剂反 应而被分解。相应地，该染料坚牢度比较弱。作为具有刚性骨架和高坚牢度的近红外吸收染料，有由NipponShokubai Co., Ltd.建议的氧钒基萘酞菁染料，以及由BASF AG销售的四萘嵌三苯染料。然而氧钒基萘酞 菁染料的不可见性不足。四萘嵌三苯染料在分子分散状态下具有好的不可见性，例如，在染 料的溶液状态下，然而，当该浓度很高的时候，由于分子缔合在可见区产生了射线的吸收， 以至于不可见性消失。这样，其使用方式受到了限制。作为不可见性优良并且在红外区对射线具有很宽吸收性的染料，有由Nippon Kayaku Co.，Ltd.销售的二亚铵染料。然而，该染料是容易还原的并且在坚牢度上不足。这 样，其使用方式受到限制。如上所述，同时具有优良的不可见性和坚牢度的近红外吸收染料至今还没有销 售。因此，希望开发相互相容地具有这些性能的近红外吸收染料。此外，pyrroropyrrol染料被称为新型红外吸收染料(参见，例如，非专利文献1)。 非专利文献1描述了将pyrroropyrrol染料用于红外荧光染料的研究结果。更具体地，非 专利文献1描述了高荧光量子产率可以通过使pyrroropyrrol染料与硼配位并且通过改进 分子的刚性来获得。作为该骨架基团特有的荧光染料的应用，已知道有机电致发光装置的 应用(参见，例如，专利文献1-3)。通常，为了放出高荧光，荧光染料是以稀释状态使用的，以至于没有引起浓缩淬 灭，并且此外荧光染料与基质材料共沉淀并且以分子分散状态使用。此外，已知这样的荧光 染料通常显示出低的耐光性。日本专利No. 3704748JP-A-2003-027049(〃JP-A“意味着未审查的已公开的本专利申 请) W02003/048268Angewante Chemie International Edition of English, Vol. 46，pp.3750-3753，2007专利技术简述本专利技术提供了在近红外区显示出吸收性但是在400-700nm不显示吸收性，并且具 有优良的不可见性和高坚牢度的红外吸收染料。本专利技术还提供了包含该近红外吸收染料 的染料微粒。此外，本专利技术提供了使用该染料或者染料微粒的组合物和滤光器。为了通过 pyrroropyrrol染料获得上述目标，在坚牢度(特别是耐光性)和不可见性的改进是所要考 虑的主题。根据本专利技术，提供了下面的方式<1>包含由式(1)表示的化合物的微粒权利要求一种包含由式(1)表示的化合物的微粒其中R1a和R1b是相同的或者不同的，并且各自独立地表示烷基、芳基或杂芳基；R2和R3各自独立地表示氢原子或者取代基，并且R2和R3中的至少之一是吸电子基团；R2可以结合到R3以形成环；R4表示氢原子、烷基、芳基、杂芳基、取代的硼或者金属原子；并且R4可以共价连接或者配位连接到R1a、R1b和R3中的至少之一。FPA00001233268500011.tif2.根据权利要求1的微粒，其中式(1)中的R3是杂环基团。3.根据权利要求1或2的微粒，其中所述微粒是吸收波长范围为700nm-1000nm的红外 线的红外吸收颗粒。4.一种包含根据权利要求1-3中任一项的微粒的组合物。5.一种包含根据权利要求1-3中任一项的微粒的涂布材料。6.一种由式(2)表示的红外吸收化合物其中，Zla和Zlb各自独立地表示形成芳环或者杂芳环的原子团；R5a和R5b各自独立地表 示具有6-20个碳原子的芳基、具有4-20个碳原子的杂芳基、具有1-20个碳原子的烷基、具 有1-20个碳原子的烷氧基、具有1-20个碳原子的烷氧基羰基、羧基、具有1-20个碳原子的 氨基甲酰基、卤原子或者氰基；R5a或R5b可以连接到Zla或者Zlb来形成稠环；R22和R23各自 独立地表示氰基、具有1-6个碳原子的酰基、具有1-6个碳原子的烷氧基羰基、具有1-10个 碳原子的烷基亚硫酰基或者芳基亚硫酰基、或者具有3-20个碳原子的含氮杂芳基，或者R22 和R23彼此连接形成环状酸性核；R4表示氢原子、具有1-20个碳原子的烷基、具有6-20个 碳原子的芳基、具有4-20个碳原子的杂芳基、金属原子、或者具有至少一个选自卤原子、具 有1-10个碳原子的烷基、具有6-20个碳原子的芳基、以及具有4-20个碳原子的杂芳基中 的取代基的取代的硼；并且R4可以与R23共价连接或者配位连接；并且所述化合物可以被进 一步取代。7.由式(3)表示的红外吸收化合物8.由式(4)表示的红外吸收化合物全文摘要一种含有由式(1)表示的化合物的微粒其中R1a和R1b可以是相同的或者不同的，并且各自独立地表示烷基、芳基或杂芳基；R2和R3各自独立地表示氢原子或者取代基，并且R2和R3中的至少之一是吸电子基团；R2可以结合到R3以形成环；R4表示氢原子、烷基、芳基、杂芳基、取代的硼或者金属原子；并且R4可以共价连接或者配位连接到R1a、R1b和R3中的至少之一。文档编号C07F5/02GK101983200SQ20098011203公开日2011年3月2日 申请日期2009年3月27日 优先权日2008年3月30日专利技术者加藤峻也, 新居一巳, 神保良弘 申请人:富士胶片株式会社本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种包含由式（１）表示的化合物的微粒：＊＊＊（１）其中Ｒ↑［１ａ］和Ｒ↑［１ｂ］是相同的或者不同的，并且各自独立地表示烷基、芳基或杂芳基；Ｒ↑［２］和Ｒ↑［３］各自独立地表示氢原子或者取代基，并且Ｒ↑［２］和Ｒ↑［３］中的至少之一是吸电子基团；Ｒ↑［２］可以结合到Ｒ↑［３］以形成环；Ｒ↑［４］表示氢原子、烷基、芳基、杂芳基、取代的硼或者金属原子；并且Ｒ↑［４］可以共价连接或者配位连接到Ｒ↑［１ａ］、Ｒ↑［１ｂ］和Ｒ↑［３］中的至少之一。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：新居一巳，加藤峻也，神保良弘，
申请(专利权)人：富士胶片株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[]