硼硅氧烷组合物，硼硅氧烷粘合剂，涂布和层压的基底制造技术

一种硼硅氧烷组合物，它包含每一分子平均具有至少两个链烯基的硼硅氧烷，每一分子平均具有至少两个与硅键合的氢原子的有机基硅化合物，和氢化硅烷化催化剂；一种硼硅氧烷粘合剂，它包括至少一种硼硅氧烷的固化产物；和涂布的基底与层压基底，其中它们各自包括硼硅氧烷粘合剂。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及硼硅氧烷组合物，和更特别地涉及包含下述的硼硅氧烷组合物每一 分子平均具有至少两个链烯基的硼硅氧烷，每一分子平均具有至少两个与硅键合的氢原子 的有机基硅化合物，和氢化硅烷化催化剂。本专利技术还涉及硼硅氧烷粘合剂，它包括至少一种 硼硅氧烷的固化产物。本专利技术进一步涉及涂布的基底和层压的基底，它们各自包括所述硼 硅氧烷粘合剂。
技术介绍
硅氧烷粘合剂因其独特的性能的结合，其中包括高热稳定性、良好的耐湿性，优良 的挠性，高的离子纯度，低的α粒子发射，和对各种基底良好的粘合性，因此可用于各种应 用。例如，硅氧烷粘合剂广泛用于机动车、电子、建筑、器具和航空工业上。然而，当常规的硅氧烷粘合剂暴露于高温下，例如与开放式火焰直接接触而遇到 的高温下时，该粘合剂分解，形成焦炭，典型地一种不粘附的粉末。鉴于前述问题，需要含硅氧烷的组合物，它固化形成具有高的焦炭产率和在暴露 于比粘合剂的分解温度高的温度下之中和之后具有高的粘合性的粘合剂。专利技术概述本专利技术涉及一种硼硅氧烷组合物，它包含(A)选自下述中的硼硅氧烷(i)至少一种具有下式的聚硼硅氧烷= (R12BOv2) im rr [ (SiO(4_z)/2) (OH)丄⑴，至少一种 具有下式的硼硅氧烷=R1aB(OSiR13)3I(II),条件是所述硼硅氧烷化合物每一分子平均具有 至少两个链烯基，和含至少一种具有式(I)的聚硼硅氧烷和至少一种具有式(II)的硼硅氧烷的混合物，条件是在该混合物内聚硼硅氧烷和硼硅氧烷化合物各自每一分子平均具有 至少两个链烯基，其中每一 R1独立地为C1-Cltl烃基或C1-Cltl卤素取代的烃基，1为0-0. 2，m 为 0-0. 5，η 为 0-0. 6，ρ 为 0-0. 7，q 为 0-0. 9，r 为 0-0. 999，s 为 0-0. 5，ν 为 0-0. 05，w 为 0-0. 05，χ 为 0-0. 45，y 为 0-0. 63，ζ 为 0-0. 25，m+n 为 0. 001-0. 58，q+r+s 为 0. 42-0. 999， (p+2q+3r+4s)/(3m+2n)为 1. 01-1000，1+m+n+p+q+r+s 1，禾口 a 为 0、1 或 2。本专利技术进一步涉及涂布的基底，它包括基底；和在该基底表面的至少一部分上的硼硅氧烷粘合剂涂层，其中该粘合剂涂层包括硼 硅氧烷的固化产物，该固化产物如上所述。本专利技术仍进一步涉及层压的基底，它包括第一基底；覆在第一基底上的至少一个额外的基底；和在每一基底的至少一个表面的至少一部分上的硼硅氧烷粘合剂涂层，条件是至少 一部分粘合剂涂层在相邻基底的相对表面之间且与之直接接触，其中该粘合剂涂层包括硼 硅氧烷的固化产物，该固化产物如上所述。本专利技术的硼硅氧烷粘合剂具有高的耐湿性、高的透明度和对各种基底具有优良的 粘合性。而且，硼硅氧烷粘合剂在暴露于比该粘合剂的分解温度高的温度之中和之后具有 高的粘合性，低的可燃性(这通过低的热量释放速度来佐证)和高的焦炭产率。本专利技术的硼硅氧烷粘合剂可用于要求具有高耐湿性、在升高的温度下具有高的粘 合性、低的可燃性和高的透明度的粘合剂的应用中。例如，在制造防火窗和玻璃防火墙中， 该粘合剂可用于粘结玻璃板。参考下述说明、所附权利要求书和附图，本专利技术的这些和其他特征，以及优点将变 得显而易见。附图简述附图说明图1示出了根据本专利技术的层压基底的一个实施方案的截面视图。图2示出了前述层压基底实施方案的截面视图，所述层压基底进一步包括在第二 基底上的第二硼硅氧烷粘合剂涂层，和在第一基底的第二相对表面上的第三硼硅氧烷粘合 剂涂层。专利技术详述此处所使用的符号(B0(3_v)/2) (OH)v和(R1BOi2^2) (OH)w分别表示硼键合到三个氧 原子和两个氧原子上的平均单元式，其中每一氧原子还键合到另一原子，亦即Si或H上。例 如，具有通式(B0(3_v)/2) (OH)v的单一单元(其中ν = 0)可用下述结构式表示权利要求一种硼硅氧烷组合物，它包含(A)选自下述中的硼硅氧烷(i)至少一种具有下式的聚硼硅氧烷(R12BO1/2)lmn(R13SiO1/2)pqrs(I)，(ii)至少一种具有下式的硼硅氧烷化合物R1aB(OSiR13)3 a(II)，和(iii)含(A)(i)和(A)(ii)的混合物，其中每一R1独立地为C1 C10烃基或C1 C10卤素取代的烃基，l为0 0.2，m为0 0.5，n为0 0.6，p为0 0.7，q为0 0.9，r为0 0.999，s为0 0.5，v为0 0.05，w为0 0.05，x为0 0.45，y为0 0.63，z为0 0.25，m+n 为0.001 0.58，q+r+s为0.42 0.999，(p+2q+3r+4s)/(3m+2n)为1.01 1000，l+m+n+p+q+r+s≈1，和a为0、1或2，条件是硼硅氧烷每一分子平均具有至少两个链烯基；(B)每一分子平均具有至少两个与硅键合的氢原子的有机基硅化合物，其用量足以固化所述硼硅氧烷；和(C)氢化硅烷化催化剂。2.权利要求1的硼硅氧烷组合物，其中组分㈧是㈧⑴。3.权利要求1的硼硅氧烷组合物，其中组分(A)是(A)(ii)。4.一种硼硅氧烷粘合剂，它包括硼硅氧烷的固化产物，其中所述硼硅氧烷选自至少 一种具有下式的聚硼硅氧烷=(R12BOv2) J(BOi3-^2) (OH)v]mr[(Si0(4_z)/2) (OH)丄(I)，至少一种具有下式的硼 硅氧烷化合物=R1aB(OSiR13)3I(II),条件是所述硼硅氧烷化合物每一分子平均具有至少两 个链烯基，和含至少一种具有式(I)的聚硼硅氧烷和至少一种具有式(II)的硼硅氧烷化 合物的混合物，条件是在该混合物内聚硼硅氧烷和硼硅氧烷化合物各自每一分子平均具有 至少两个链烯基，其中每一 R1独立地为C1-Cltl烃基或C1-Cltl卤素取代的烃基，1为0-0. 2，m 为 0-0. 5，η 为 0-0. 6，ρ 为 0-0. 7，q 为 0-0. 9，r 为 0-0. 999，s 为 0-0. 5，ν 为 0-0. 05，w 为 0-0. 05，χ 为 0-0. 45，y 为 0-0. 63，ζ 为 0-0. 25，m+n 为 0. 001-0. 58，q+r+s 为 0. 42-0. 999， (p+2q+3r+4s)/(3m+2n)为 1. 01-1000，1+m+n+p+q+r+s 1，禾口 a 为 0、1 或 2。5.权利要求4的硼硅氧烷粘合剂，其中所述硼硅氧烷是至少一种具有式(I)的聚硼硅 氧烷。6.权利要求4的硼硅氧烷粘合剂，其中所述硼硅氧烷是至少一种具有式(II)的硼硅氧 烷化合物，条件是所述硼硅氧烷化合物每一分子平均具有至少两个链烯基。7.一种涂布的基底，它包括基底；和在该基底表面的至少一部分上的硼硅氧烷粘合剂涂层，其中该粘合剂涂层包括硼硅 氧烷的固化产物，其中所述硼硅氧烷选自至少一种具有下式的聚硼硅氧烷= (R12BOv2) imn(R13Si01/2)p r [ (Si0(4_z)/2) (OH) J s⑴，至少一种具有下式的硼硅氧烷化合物=R1aB (OSiR13) 3_a (II)，条件 是所述硼本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种硼硅氧烷组合物，它包含：　　（Ａ）选自下述中的硼硅氧烷：（ｉ）至少一种具有下式的聚硼硅氧烷：（Ｒ↑［１］↓［２］ＢＯ↓［１／２］）↓［ｌ］［（ＢＯ↓［（３－ｖ）／２］）（ＯＨ）↓［ｖ］］↓［ｍ］［（Ｒ↑［１］ＢＯ↓［（２－ｗ）／２］）（ＯＨ）↓［ｗ］］↓［ｎ］（Ｒ↑［１］↓［３］ＳｉＯ↓［１／２］）↓［ｐ］［（Ｒ↑［１］↓［２］ＳｉＯ↓［（２－ｘ）／２］）（ＯＨ）↓［ｘ］］↓［ｑ］［Ｒ↑［１］ＳｉＯ↓［（３－ｙ）／２］（ＯＨ）↓［ｙ］］↓［ｒ］［（ＳｉＯ↓［（４－ｚ）／２］）（ＯＨ）↓［ｚ］］↓［ｓ］（Ⅰ），（ｉｉ）至少一种具有下式的硼硅氧烷化合物：Ｒ↑［１］↓［ａ］Ｂ（ＯＳｉＲ↑［１］↓［３］）↓［３－ａ］（Ⅱ），和（ｉｉｉ）含（Ａ）（ｉ）和（Ａ）（ｉｉ）的混合物，其中每一Ｒ↑［１］独立地为Ｃ↓［１］－Ｃ↓［１０］烃基或Ｃ↓［１］－Ｃ↓［１０］卤素取代的烃基，ｌ为０－０．２，ｍ为０－０．５，ｎ为０－０．６，ｐ为０－０．７，ｑ为０－０．９，ｒ为０－０．９９９，ｓ为０－０．５，ｖ为０－０．０５，ｗ为０－０．０５，ｘ为０－０．４５，ｙ为０－０．６３，ｚ为０－０．２５，ｍ＋ｎ　为０．００１－０．５８，ｑ＋ｒ＋ｓ为０．４２－０．９９９，（ｐ＋２ｑ＋３ｒ＋４ｓ）／（３ｍ＋２ｎ）为１．０１－１０００，ｌ＋ｍ＋ｎ＋ｐ＋ｑ＋ｒ＋ｓ≈１，和ａ为０、１或２，条件是硼硅氧烷每一分子平均具有至少两个链烯基；　　（Ｂ）每一分子平均具有至少两个与硅键合的氢原子的有机基硅化合物，其用量足以固化所述硼硅氧烷；和　　（Ｃ）氢化硅烷化催化剂。...

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：朱弼忠，
申请(专利权)人：陶氏康宁公司，
类型：发明
国别省市：US[美国]