配模抛光装置制造方法及图纸

配模抛光装置，包括工作台护栏，所述工作台护栏中间设有Ｔ型槽转台，所述Ｔ型槽转台通过伺服电机驱动获取需求的转速，所述Ｔ型槽转台上连接有配模主体单元，所述配模主体单元包括总体呈圆柱体状的底座，所述底座中间有由规则抛光件的尺寸大小和单次抛光量确定的内凹型腔，所述内凹型腔上盖有盖板，所述内凹型腔与盖板之间放置有规则抛光件。本实用新型专利技术的有益效果：能有效解决小尺寸规则抛光件安装定位和边缘效应问题，又便于规划抛光轨迹，补偿高度误差，监测抛光过程和提高抛光效率。（*该技术在2019年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及一种精密加工领域的抛光装置，尤其涉及一种与机器人辅助气囊抛光技术相结合，便于规划抛光轨迹，处理抛光件边缘效应，补偿高度微量误差，监测抛光 过程，重复定位抛光件和提高抛光效率的配模抛光装置。
技术介绍
抛光件应用于工业场合之前，为获取平滑、均匀、高质量的表面，对其进行抛光处 理是必不可少的工艺环节。抛光工艺的实施在保证抛光件面型精度与表面质量的前提下， 能有效改善其表面的耐蚀和耐磨性能，延长其使用寿命。 抛光过程中，安装方式、定位精度、工序安排、轨迹规划、质量监测等都是重要环 节。为方便叙述，此处以规则抛光件为实施对象，结合机器人辅助气囊抛光技术，就本实用 新型所涉及的配模抛光装置的实施背景和必要性展开讨论。 机器人辅助气囊抛光技术充分发挥橡胶气囊柔性可调和机器人辅助的优势，实现模具行业自由曲面抛光的精密、高效和自动化。该技术有效弥补了手工抛光方式作业环境 差、工作效率低、表面质量不稳定的缺点和传统刚性抛光方式接触碰撞、曲面适应性差的劣势。 此处以小尺寸长方体和圆柱体规则抛光件为典型代表，着眼于其安装定位和边缘 效应的处理。 鉴于抛光工艺接触力较小的特点，小尺寸抛光件一般采用胶接方式进行安装和定 位。但该方法的缺点是l.离线检测抛光件时需要破坏原有的固定方式，在一定程度上破 坏其应力分布，影响面型精度；2.胶接方式破坏后会在工作台表面和抛光件表面留有一定 的残迹需要及时处理，影响抛光效率；3.不当的残迹处理会影响抛光件的质量监测，特别 是材料去除量的测定；4.抛光件的重复定位精度得不到有效保证。传统的夹具方式安装 和定位小尺寸抛光件很不适合，具体表现为1.结构尺寸不大匹配，装夹困难；2.抛光过程 中，抛光工具与抛光件之间易产生干涉碰撞。当然，也可采用其他特定方式来进行小尺寸抛 光件的安装定位，比如采用磁性吸附和扩大抛光件尺寸等方式。但磁性吸附容易受工作条 件的限制，同时也不易重复定位；扩大抛光件尺寸能一定程度上解决装夹和干涉问题，但机 械方法还原其尺寸时会影响其面型精度和内部应力分布。 当然，机器人辅助气囊抛光技术应用于规则抛光件的首要问题是边缘效应的处 理。具体表现为l.边缘部分材料去除特性的不稳定和不可控；2.边缘棱角会严重影响气 囊和抛光布的使用寿命。 前面提到的胶接、传统夹具和磁性吸附方式在安装定位方面有特定的缺陷，同时 都未能有效地解决边缘效应问题。尽管扩大抛光件尺寸能解决边缘效应问题，但还原尺寸 后面型精度和内部应力分布是很大的问题。 本技术要解决小尺寸规则抛光件的安装定位和边缘效应问题，提供了一种方便小尺寸规则抛光件安装定位和边缘材料稳定去除的配模抛光装置。 本技术采用的技术方案是 配模抛光装置，其特征在于包括工作台护栏，所述工作台护栏中间设有T型槽转 台，所述T型槽转台通过伺服电机驱动获取需求的转速，所述T型槽转台上连接有配模主体 单元，所述配模主体单元包括总体呈圆柱体状的底座，所述底座中间有由规则抛光件的尺 寸大小和单次抛光量确定的内凹型腔，所述内凹型腔上盖有盖板，所述内凹型腔与盖板之 间放置有规则抛光件。 进一步，所述配模主体单元的底座外圈均布四个光孔，通过螺母螺栓固定于T型 槽转台的四个均布T型槽中。 进一步，所述底座内凹型腔与盖板相配，所述内凹型腔对称分布两个螺纹孔和两 个光孔，所述盖板外圈均布四个光孔，所述内凹型腔与盖板通过两个六角头螺栓和两个圆 锥销固定连接。 进一步，所述盖板是系列化的可更换模块，所述盖板中心区域设有根据规则抛光 件形状、尺寸及单次抛光量的需求设计的配模型腔，所述配模型腔呈线性阵列或圆周阵列状。 本技术可与机器人辅助气囊抛光系统相连接，提供特定的工艺参数组合和抛 光轨迹。 所述规则抛光件为不同材质属性、不同尺寸规格的长方体和圆柱体，其单面进行 抛光处理。 本技术的技术构思为按T型槽转台尺寸、规则抛光件尺寸和实际的抛光需 求，在满足技术指标的前提下设计和制作底座与盖板。底座为标准模块，总体呈圆柱体状， 中间有内凹型腔，对称分布两个螺纹孔和两个光孔，外圈均布四个光孔，通过四组T型槽用 螺栓螺母圆周对称地固定于T型槽转台，并通过T型槽转台的伺服电机使其获得所需的旋 转速度。盖板为系列化的可更换模块，与底座内凹型腔实现组合化定位，盖板外圈均布四个 光孔，两个通过六角头螺栓与底座螺纹孔相配，两个通过圆锥销与底座光孔相配，盖板中心 区域根据规则抛光件形状、尺寸及单次抛光量的需求进行配模型腔设计，呈线性阵列或圆 周阵列状，方便轨迹规划，所述配模型腔与规则抛光件的基本尺寸保持一致，以间隙方式配 合，便于规则抛光件的取出与安放。将一定材质属性和尺寸规格的长方体或圆柱体规则抛 光件放置于对应的盖板配模型腔中，在机器人辅助气囊抛光系统的协同作用下，带动机器 人执行末端的气囊抛光工具以一定的姿态、进给速度和行走轨迹作用于盖板和规则抛光件 上，实现规则抛光件的单面抛光处理。在抛光过程中，旋开六角头螺栓，从圆锥销中取出盖 板，规则抛光件或留在原位，或因为磨粒等的粘附作用保持在盖板配模型腔中，取出规则抛 光件后将其进行超声波清洗等处理，实施离线质量监测，盖板则通过圆锥销和底座内凹型 腔安装于原位。质量监测完后，将规则抛光件重新定位于盖板配模型腔中，根据监测数据， 或按原抛光工艺的安排继续抛光过程，或调整参数工艺参数和局部抛光轨迹等。考虑到盖 板配模型腔边缘因抛光而产生材料去除，在多批次规则抛光件的安装定位过程中，需进行 盖板高度的微量补偿，或因规则抛光件本身的高度差异需进行盖板及盖板配模型腔的微量 补偿。这些补偿的实施和调整很成熟也很方便。4 本技术的有益效果在于结构简单、易于设计和制造；组合性能好，满足多变 性需求；方便底座、盖板和规则抛光件的固定、安装、定位与高度的微量补偿；抛光过程中 易于完成规则抛光件的离线质量监测和重复定位；提供一种能解决抛光件边缘去除特性不 稳定和不可控问题的方法；避免抛光件边缘棱角对气囊和抛光布使用寿命的严重影响，很 有现实意义和应用价值。附图说明图1是本技术整体结构示意图。 图2是本技术配模主体单元结构示意图。 图3是本技术配模主体单元的底座结构示意图。 图4-11是本技术系列化盖板结构示意图。 图12-15是本技术规则抛光件示意图。具体实施方式以下结合附图对本技术作进一步描述。 参照图1、图2、图3，配模抛光装置，包括工作台护栏l，所述工作台护栏1中间设 有T型槽转台2，所述T型槽转台2通过伺服电机驱动获取需求的转速，所述T型槽转台2 上连接有配模主体单元3，所述配模主体单元3包括总体呈圆柱体状的底座31 ，所述底座31 中间有由规则抛光件的尺寸大小和单次抛光量确定的内凹型腔37，所述内凹型腔37上盖 有盖板33，所述内凹型腔37与盖板33之间放置有规则抛光件34。 所述配模主体单元3的底座31外圈均布四个光孔，通过螺母螺栓36固定于T型 槽转台2的四个均布T型槽中。 所述底座31的内凹型腔37与盖板33相配，所述内凹型腔37对称分布两个螺纹 孔和两个光孔，所述盖板33外圈均布四个光孔，所述内凹型腔37与盖板33通过两个六角 头螺栓35和两个圆锥销32固定连接。 所述盖板33是本文档来自技高网...

【技术保护点】
配模抛光装置，其特征在于：包括工作台护栏，所述工作台护栏中间设有Ｔ型槽转台，所述Ｔ型槽转台通过伺服电机驱动获取需求的转速，所述Ｔ型槽转台上连接有配模主体单元，所述配模主体单元包括总体呈圆柱体状的底座，所述底座中间有由规则抛光件的尺寸大小和单次抛光量确定的内凹型腔，所述内凹型腔上盖有盖板，所述内凹型腔与盖板之间放置有规则抛光件。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：计时鸣，金明生，张利，袁巧玲，张宪，文东辉，
申请(专利权)人：浙江工业大学，
类型：实用新型
国别省市：86[中国|杭州]