【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及无机化合物制备方法领域,特别涉及。
技术介绍
光谱纯氧化铟被广泛应用在高端电子元件材料,目前常采用的方法为将氢氧化 铟高温850°C灼烧制得氧化铟,该方法制得的氧化铟纯度低、杂质含量高,只能满足铟盐 的制备及玻璃的制造,不能满足高端科技的需要。
技术实现思路
本专利技术的目的在于克服现有技术的不足,提供一种杂质含量低、纯度高的光谱 纯氧化铟的制备方法。本专利技术为实现上述目的,采用以下技术方案1、金属高纯铟与硝酸反应将金属高纯铟置于玻璃烧杯中,加入高纯稀硝酸,金属高纯铟与高纯稀硝酸的 质量份数比为1 4 5,加热170 175°C,待金属高纯铟完全反应后,过滤,得溶液 A;2、合成氢氧化铟将溶液A倒入玻璃烧杯中,加热,温度为60 70°C,边搅拌边加入高纯氨水, 高纯氨水的相对密度为0.88,高纯氨水与步骤1中高纯稀硝酸的体积份数比为1 1 1.5,将pH值调至8.5 9,出现大量的氢氧化铟沉淀,用布氏漏斗抽干,得B;3、灼烧得光谱纯氧化铟将B放置在瓷坩埚中,移入马弗炉内于480 520°C灼烧30分钟 40分钟,升 至680 720°C灼烧2小时,再升至800 820°C灼烧2小时 2小时30分钟,冷却后取 出成品,得光谱纯氧化铟。所述的步骤1中高纯稀硝酸是由相对密度为1.42的硝酸与蒸馏水按体积份数比 为1 1 1.5配制而成。本专利技术所具有的有益效果本专利技术包括金属铟与硝酸反应,制得硝酸铟与高纯氨水反应,合成氢氧化铟, 再进行灼烧得光谱纯氧化铟,本专利技术工艺步骤简单,操作容易控制,生产效率高,制得 的氧化铟纯度高、杂质含量低 ...
【技术保护点】
一种光谱纯氧化铟的制备方法,其特征在于包括:(1)、金属高纯铟与硝酸反应:将金属高纯铟置于玻璃烧杯中,加入高纯稀硝酸,金属高纯铟与高纯稀硝酸的质量份数比为1∶4~5,加热170~175℃,待金属高纯铟完全反应后,过滤,得溶液A;(2)、合成氢氧化铟:将溶液A倒入玻璃烧杯中,加热,温度为60~70℃,边搅拌边加入高纯氨水,高纯氨水的相对密度为0.88,高纯氨水与步骤1中高纯稀硝酸的体积份数比为1∶1~1.5,将pH值调至8.5~9,出现大量的氢氧化铟沉淀,用布氏漏斗抽干,得B;(3)、灼烧得光谱纯氧化铟:将B放置在瓷坩埚中,移入马弗炉内于480~520℃灼烧30分钟~40分钟,升至680~720℃灼烧2小时,再升至800~820℃灼烧2小时~2小时30分钟,冷却后取出成品,得光谱纯氧化铟。
【技术特征摘要】
1.一种光谱纯氧化铟的制备方法,其特征在于包括(1)、金属高纯铟与硝酸反应将金属高纯铟置于玻璃烧杯中,加入高纯稀硝酸,金属高纯铟与高纯稀硝酸的质量 份数比为1 4 5,加热170 175°C,待金属高纯铟完全反应后,过滤,得溶液A ;(2)、合成氢氧化铟将溶液A倒入玻璃烧杯中,加热,温度为60 70°C,边搅拌边加入高纯氨水,高纯 氨水的相对密度为0.88,高纯氨水与步骤1中高纯稀硝酸的体积份数比为1 1 1.5, 将pH值调...
【专利技术属性】
技术研发人员:胡建华,
申请(专利权)人:天津市化学试剂研究所,
类型:发明
国别省市:12[中国|天津]
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