一种磁控溅射镀膜机制造技术

本实用新型专利技术实施例公开了一种磁控溅射镀膜机，包括传输室、过渡室、溅射室和入＼出口室，还包括设置在入／出口室和传输室的防窜气屏蔽系统，且所述传输室为四级夹缝式防窜气结构的四缓冲室，所述传输室、过渡室、溅射室和入＼出口室的过片缝开口高度及防窜气屏蔽系统的高度设置为３５ｍｍ。使得磁控溅射镀膜机不仅能生产平板玻璃还能生产弯弧玻璃，且能有效防止窜气，通过设置变频器，使得平板玻璃和弯弧玻璃设定不同传输速度，能够保证弯弧玻璃在传输时更加平稳。（*该技术在2019年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及玻璃镀膜
，更具体地说，涉及一种磁控溅射镀膜机。
技术介绍
镀膜玻璃是在玻璃表面涂镀一层或多层金属、合金或金属化合物薄膜，以改变玻 璃的光学性能，满足某种特定要求。低辐射玻璃(Low-E)是在玻璃表面镀由多层银、铜或锡 等金属或其化合物组成的薄膜系，产品对可见光有较高的透射率，对红外线有很高的反射 率，具有良好的隔热性能，主要用于建筑和汽车、船舶等交通工具。磁控溅射镀膜玻璃利用磁控溅射技术可以设计制造多层复杂膜系，可在白色的玻 璃基片上镀出多种颜色，膜层的耐腐蚀和耐磨性能较好，是目前生产和使用最多的产品之ο目前，磁控溅射镀膜玻璃生产线只能生产平板镀膜玻璃，可以生产出质量达到国 家标准的弧高小于25mm的大面积弯弧磁控溅射LOW-E镀膜玻璃还没有，若需要大面积弯弧 磁控溅射LOW-E镀膜玻璃必须在镀膜后再热弯，这样会造成LOW-E镀膜玻璃的辐射率大大 变高，节能性能降低。
技术实现思路
有鉴于此，本技术提供了一种磁控溅射镀膜机，以实现能够生产弯弧玻璃。为实现上述目的，本技术提供如下技术方案一种磁控溅射镀膜机，包括传输室、过渡室、溅射室和入\出口室，还包括设置在 入/出口室和传输室的防窜气屏蔽系统，且所述传输室为四级夹缝式防窜气结构的四缓冲 室，所述传输室、过渡室、溅射室和入\出口室的过片缝开口高度及防窜气屏蔽系统的高度 设置为35mm。优选的上述磁控溅射镀膜机，所述防窜气屏蔽系统具体为设置在传输辊道上的防 窜气夹缝底板和与防窜气夹缝底板平行的防窜气夹缝上盖板。优选的上述磁控溅射镀膜机，还包括用于控制玻璃传输速度的变频器，当平板玻 璃镀膜时，由入/出口室进入传输室的传输速度设定为30米/分，弯弧玻璃镀膜时，将该传 输速度设定为10米/分。从上述的技术方案可以看出，本技术实施例中通过将传输室、过渡室、溅射室 和入\出口室的过片缝开口高度及防窜气屏蔽系统的高度设置为35mm，并将传输室设置为 四级夹缝式防窜气结构的四缓冲室，使得磁控溅射镀膜机不仅能生产平板玻璃还能生产弯 弧玻璃，通过在入/出口室和传输室设置防窜气屏蔽系统，使得能够有效得防止窜气，通过 添加变频器，使得平板玻璃和弯弧玻璃设定不同传输速度，能够保证弯弧玻璃在传输时更 加平稳。附图说明为了更清楚地说明本技术实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例 或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅 是本技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提 下，还可以根据这些附图获得其他的附图。图1为镀膜机的真空仓室排列图；图2为本技术实施例入\出口室结构图；图3为图2的俯视图；图4为本技术实施例传输室的结构图；图5为图4的俯视图。具体实施方式为了引用和清楚起见，下文中使用的技术名词、简写或缩写总结如下下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行 清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例，而不是全部的 实施例。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下 所获得的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围。本技术实施例公开了一种磁控溅射镀膜机，以实现能够生产弯弧玻璃。请参阅图1，图1为镀膜机的真空仓室排列图，镀膜过程中，玻璃基片由大气状态 的入/出口室进入，入/出口室抽真空至3X 10_2mbar时，传输室锁阀开启，玻璃基片进入 传输室，此时传输室和溅射室的气压约为2Xl(T3mbar ；玻璃基片进入传输室后，传输室锁 阀关闭，玻璃进入溅射室进行镀膜，镀完一层膜后到过渡室转向回来再镀膜，然后到达传输 室、入出口室，在入/出口室充气至大气状态时，入/出口室锁阀开启，镀膜后的玻璃从入/ 出口室中传出，完成一次镀膜过程。在镀膜过程中，玻璃从入/出口室进入传输室时，两个仓室的气压差一个数量级， 这样会导致入/出口室的气体向传输室和溅射室扩散及流动，也就是我们常说的窜气，特 别是为了镀制弯弧玻璃必须把过片缝加高，进一步增加了窜气的数量，窜气会直接影响到 溅射镀膜工艺的稳定性和产品质量，为此，我们设计了五级夹缝和四级缓冲配合的防窜气 结构请参阅图2，图3，图2为本技术实施例入\出口室结构图；图3为图2的俯视图。其中1为锁阀一，2为传输辊道，3为真空泵接口 1(接主真空泵组)，4为真空泵接 口 2 (按辅助真空泵组)，5为防窜气夹缝上盖板，6为防窜气夹缝底板，7为真空室壁，8为过 片缝。为了能够镀弯弧玻璃，将过片缝开口高度及防窜气屏蔽系统的高度调整至35mm， 这样玻璃基片的最大厚度由原来的19mm提高至33mm，弯弧玻璃以6mm基片计算内弧高可达 25mm。由于入/出口室的气压高于传输室和溅射室的气压，过片缝开口高度调整至35mm以 后，就增大了入/出口室到溅射室的窜气量，从而会对溅射室的镀膜过程造成影响，影响最 终的镀膜质量。为了防止窜气在入/出口室设置了防窜气屏蔽系统，其高度和过片缝开口 高度相同均为35mm，防窜气屏蔽系统具体为防窜气夹缝上盖板5和防窜气夹缝底板6，防窜气夹缝底板6设置在传输辊道2上，防窜气夹缝上盖板5设置在防窜气夹缝底板6的上方 且两者平行，夹缝上盖板5和防窜气夹缝底板6之间的空间为夹缝，通过添加了这个夹缝， 使得空气不容易进入传输室，大部分空气被真空泵抽走，减少由入/出口室窜入传输室的 气体。传输辊道2用于运送玻璃片，真空泵接口 1(接主真空泵组)和真空泵接口 2(按辅 助真空泵组)接真空泵用于抽走室内的空气，过片缝8为在各室间传输玻璃片的夹缝，入/ 出口室气压为IOOOmbar时锁阀一可以自动开启关闭。请参阅图4，图5，图4为本技术实施例传输室的结构图，图5为图4的俯视图。1为传输室一室，2为传输室二室，3为传输室三室，4为传输室四室，5为锁阀二，6 为传输辊道，7为真空泵接口，8为防窜气夹缝上盖板，9为防窜气夹缝底板。为了防止入/出口室的空气窜到溅射室，影响镀膜工艺的稳定性，将传输室设计 为四缓冲室的四级夹缝式防窜气结构。空气由入/出口室进入传输室一室1，先进入一个较大的空间进行扩散，在真空泵 接口 7处连接的真空泵组会抽走其中的大部分气体，只有一小部分气体通过由防窜气夹缝 上盖板8和防窜气夹缝底板9组成的夹缝进入传输室二室2，从而完成一级防窜气功能，阻 挡了气体窜入传输室二室2 ；随后的传输室二室2、传输室三室2、传输室四室4同传输室一 室1的功能一样。通过这样的五级夹缝和四级缓冲配合的防窜气结构就防止了入/出口室 的气体窜入溅射室，从而保证的溅射镀膜工艺的稳定性。该镀膜玻璃机在镀膜区的玻璃传输速度较低，平板玻璃或弯弧玻璃的传动都比较 平稳，只是平板玻璃由入/出口室进入传输室的传输速度为30米/分钟，弯弧玻璃的传动 不太平稳。因此，我们利用变频器为平板玻璃和弯弧玻璃设定不同传输速度，平板玻璃由入 /出口室进入传输室的传输速度设定为30米/分，弯弧玻璃镀膜时，将该传输速度降低为 10米/分钟。本说明书中各个实施例采用递进的方式描述，每个实施例重点说明的都是与其他 实施例的不同之处，各个实施例之间相同相似部分互相参见即可。对于实施例本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种磁控溅射镀膜机，包括传输室、过渡室、溅射室和入＼出口室，其特征在于，还包括设置在入／出口室和传输室的防窜气屏蔽系统，且所述传输室为四级夹缝式防窜气结构的四缓冲室，所述传输室、过渡室、溅射室和入＼出口室的过片缝开口高度及防窜气屏蔽系统的高度设置为３５ｍｍ。

【技术特征摘要】
一种磁控溅射镀膜机，包括传输室、过渡室、溅射室和入\出口室，其特征在于，还包括设置在入/出口室和传输室的防窜气屏蔽系统，且所述传输室为四级夹缝式防窜气结构的四缓冲室，所述传输室、过渡室、溅射室和入\出口室的过片缝开口高度及防窜气屏蔽系统的高度设置为35mm。2.如权利要求1所述的磁控溅射镀膜机，其特征在于...

【专利技术属性】
技术研发人员：刘洪良，刘洪国，王树立，杨凯，
申请(专利权)人：黄骅荣达玻璃有限公司，
类型：实用新型
国别省市：13[中国|河北]