活化剂络合物在碱性过氧化物清洁体系中用于提高较低温度清洁作用的应用制造技术

本发明专利技术提供活化剂络合物在碱性过氧化物清洁体系中用于提高较低温度清洁的应用。将包含活化剂络合物、活性氧源和碱度源的组合物在约５℃－约５０℃的温度下施用于有待清洁的表面。本发明专利技术的方法提供在减少的能耗、水和化学品消耗的情况下提高的污物除去作用。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本公开涉及通过在与常规清洁技术相比降低的温度下在污物上及其中产生气体， 从硬表面上除去污物的方法。背景在许多工业应用如食品和饮料的生产中，硬表面通常被污物如碳水化合物、蛋白 质类和硬度污物(hardness soil)、食品油污物、脂肪污物以及其它污物所污染。这些污物 可能因生产液体和固体食品而产生。碳水化合物污物如纤维素类、单糖类、二糖类、寡糖类、 淀粉、胶质物和其它复杂材料在干燥时会形成坚韧的难以除去的污物，特别是当与其它污 物组分如蛋白质类、脂肪类、油类、无机物及其它组合时。这些碳水化合物污物的除去可能 是个重大问题。类似地，其它物质如蛋白质、脂肪类和油类也会形成难以除去的污物和残 渣。食品和饮料污物当在加工期间被加热时是特别牢固的。食品和饮料在加工期间出 于多种原因而被加热。例如，在乳品厂，将乳制品在巴氏灭菌器(例如HTST-高温短时间巴 氏灭菌器或UHT-超高温巴氏灭菌器)上加热以使乳制品巴氏灭菌。另外，许多食品和饮料 制品由于蒸发而产生或浓缩。原位清洁(CIP)的清洁技术是适于从用于加工典型地液体制品物流如饮料、乳 汁、果汁等的罐、管线、泵和其它工艺设备的内部组件除去污物的特有清洁机制。原位清洁 的清洁包括在不拆卸任何系统组件的情况下使清洁溶液通过系统。最低限度的原位清洁技 术包括使清洁溶液通过设备和然后重新开始正常加工。任何被清洁剂残留物污染的制品会 被弃去。通常原位清洁方法包括施用清洁溶液的第一漂洗、采用饮用水的第二漂洗，然后 重新开始操作。该工艺也可以包括任何其它接触步骤，其中在工艺过程的任何步骤中可以 使漂洗、酸性或碱性功能流体、溶剂或其它清洁组分如热水、冷水等与设备接触。通常省去 最终的饮用水漂洗以便防止在清洁和/或消毒步骤之后设备被细菌污染。常规的原位清洁 方法需要高温，例如约80°C以上。因而，常规的原位清洁技术需要消耗大量的能量和水。因此需要改进的低温方法，其用于除去使用常规清洁技术不容易除去的污物。在 此背景下做出本专利技术。专利技术概述一些方面中，本专利技术涉及使用原位清洁工艺从表面除去污物的方法。所述方法包 括向该表面施用包含下列组分的组合物⑴活化剂络合物；(ii)碱度源；和(iii)活性氧 源。所述组合物在约5°C -约50°C的温度下被施用于所述表面。一些实施方案中，所述活化剂络合物包括过渡金属络合物。另外的实施方案中，所 述过渡金属络合物包含锰离子源。一些实施方案中，所述锰离子源具有选自零、二、三、四、 七及其组合的氧化态。另外的实施方案中，所述锰离子源选自硫酸锰(II)、氯化锰(II)、氧 化锰(II)、氧化锰(III)、氧化锰(IV)、乙酸锰(II)及其混合物。5另外的实施方案中，所述锰离子源用葡糖酸盐组分(gluconatecomposition)络 合。所述碱度源可以选自碱式盐、胺类、烷醇胺类、碳酸盐、硅酸盐及其混合物。一些实施方 案中，所述碱度源包括碱金属氢氧化物。另外的实施方案中，所述碱度源包括氢氧化钠。一 些实施方案中，所述组合物的PH为约11-约14。一些实施方案中，有待清洁的表面选自罐、管线和加工设备。一些实施方案中，所 述加工设备选自巴氏灭菌器、均质器、分离器、蒸发器、过滤器、干燥器、膜、发酵罐、冷却罐、 及它们的组合。一些实施方案中，将所述组合物施用于有待清洁的表面达约10分钟_约60分钟。 另外的实施方案中，所述组合物在与有待清洁的表面上存在的污物接触后基本上分解。另外的实施方案中，所述组合物包含(i)百万分之约50-约200的活化剂络合 物；(ii)约0. 25wt% -约1. 5wt%的碱度源；和(iii)约0. 25wt% -约1. Owt%的活性氧 源。另外的实施方案中，所述组合物进一步包含选自低泡表面活性剂、增效助剂、缓冲剂、抗 微生物组分、以及它们的组合的附加功能成分。一些实施方案中，所述表面活性剂选自醇烷氧基化物、线型烷基苯磺酸盐、醇磺酸 盐胺氧化物、烷基酚乙氧基化物、聚乙二醇酯、Ε0/Ρ0嵌段共聚物及它们的混合物。另外的 实施方案中，所述组合物包含GRAS成分。另外的实施方案中，本专利技术的方法进一步包括在已经将所述组合物施用于有待清 洁的表面之后再施用该组合物，其中将附加的未使用过的活性氧源添加到再施用的组合物 中。一些实施方案中，在再施用该组合物于所述表面之前向该组合物中添加所述附加的活 性氧源。另外的实施方案中，基本上与再施用该组合物于所述表面同时向该组合物中添加 所述附加的活性氧源。另外的实施方案中，在再施用该组合物于所述表面之后向该组合物 中添加所述附加的活性氧源。一些方面中，本专利技术涉及清洁表面的方法。所述方法包括将预处理溶液施用 于所述表面达足以基本上渗透该表面上的污物的时间量；然后将补偿溶液(override solution)施用于所述表面，其中在所述预处理溶液和所述补偿溶液的施用之间没有漂洗 步骤。一些实施方案中，所述预处理溶液包含活性氧源和碱度源，所述补偿溶液包含活化剂 络合物。另外的实施方案中，所述预处理溶液包含活化剂络合物和碱度源，所述补偿溶液包 含活性氧源。另外的实施方案中，所述预处理溶液包含活性氧源和活化剂络合物，所述补偿 溶液包含碱度源。附图简述附图说明图1是显示如实施例1所述的清洁之前和之后的不锈钢板的图。图2是显示如实施例1所述的清洁之后的不锈钢板的图。图3是20°C和40°C下使用不同清洁方法所实现的污物除去平均百分比的图示。图4是显示如实施例3所述清洁之后的不锈钢盘的图。详述一些方面中，本专利技术提供从硬表面上除去污物的方法。所述方法可以用于原位清 洁工艺。所述方法包括向有待清洁的表面施用包含活化剂络合物、碱度源和活性氧源的组 合物。一些实施方案中，所述组合物可以处于碱性PH下，例如约11-约14的pH。所述清洁 方法可以在比常规清洁方法、例如原位清洁技术中所用的那些温度更低的温度下进行。在不希望受任何特定理论束缚的情况下，据认为所选的活化剂络合物的使用允许清洁温度的 降低。据认为所述活化剂络合物充当所述活性氧源的催化剂，从而在比所述活性氧源按常 规分解产生氧气的那些温度更低的温度下产生氧气。一些实施方案中，活化剂络合物与活 性氧源组合使用允许在污物上及其中和/或在溶液中原位产生氧气。据认为氧气生成的机 械作用帮助分裂存在于被接触的表面上的污物。一些实施方案中，活化剂络合物在本专利技术方法中的使用允许清洁过程中使用减少 量的化学品，例如碱度源和/或活性氧源。因而，本专利技术的方法提供减少的能耗、例如较低 的清洁温度、以及减少的化学品消耗。为了可以更容易地理解本专利技术，首先定义某些术语。本文使用的“重量百分比”、“wt%”、“以重量计的百分比”、“ ％重量”及其变体是指 物质的浓度，其作为该物质的重量除以组合物的总重量并乘以100。应当理解在此使用的 “百分比”、“ ％ ”等与“重量百分比”、“wt% ”等同义。本文使用的术语“约”是指例如因制备浓缩物或实际使用溶液所采用的典型测量 和液体处理工序缘故、因这些工序中的疏忽失误缘故、因制备组合物或实施方法所用的成 分的厂家、来源或纯度的差异缘故等等，可能存在的数量上的变化。术语“约”还包括因特 定初始混合物所导致的组合物的不同平衡条件而有所不同的本文档来自技高网...

【技术保护点】
使用原位清洁工艺从表面除去污物的方法，其包括向该表面施用包含下列组分的组合物：（ｉ）活化剂络合物；（ｉｉ）碱度源；和（ｉｉｉ）活性氧源；其中所述组合物在约５℃－约５０℃的温度下被施用于所述表面。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】US 2008-2-11 61/027,605使用原位清洁工艺从表面除去污物的方法，其包括向该表面施用包含下列组分的组合物(i)活化剂络合物；(ii)碱度源；和(iii)活性氧源；其中所述组合物在约5℃ 约50℃的温度下被施用于所述表面。2.权利要求1的方法，其中所述活化剂络合物包括过渡金属络合物。3.权利要求2的方法，其中所述过渡金属络合物包含锰离子源。4.权利要求2的方法，其中锰离子源具有选自零、二、三、四、七及其组合的氧化态。5.权利要求3的方法，其中所述锰离子源选自硫酸锰(II)、氯化锰(II)、氧化锰(II)、 氧化锰(III)、氧化锰(IV)、乙酸锰(II)及它们的混合物。6.权利要求3的方法，其中所述锰离子源用葡糖酸盐组分络合。7.权利要求1的方法，其中所述碱度源选自碱式盐、胺类、烷醇胺类、碳酸盐、硅酸盐及 它们的混合物。8.权利要求7的方法，其中所述碱度源包括碱金属氢氧化物。9.权利要求8的方法，其中所述碱度源包括氢氧化钠。10.权利要求1的方法，其中所述活性氧源包括过氧化合物。11.权利要求10的方法，其中所述过氧化合物包括过氧化氢。12.权利要求1的方法，其中所述组合物的pH为约11-约14。13.权利要求1的方法，其中有待清洁的表面选自罐、管线和加工设备。14.权利要求13的方法，其中所述加工设备选自巴氏灭菌器、均质器、分离器、蒸发器、 过滤器、干燥器、膜、发酵罐、冷却罐、及它们的组合。15.权利要求1的方法，其中将所述组合物施用于有待清洁的表面达约10分钟-约60 分钟。16.权利要求1的方法，其中所述组合物在与有待清洁的表面上存在的污物接触后基 本上分解。17.权利要求1的方法，其中所述组合物包含(i)百万分之约50-约200的活化剂络合物；(ii)约0. 25wt% -约 1.碱度源；和(iii)约0.25wt% -约1. Owt%的活性氧源。18.权利要求1的方法，其中所述组合物进一步包含选自低泡表面活性剂、增效助剂、 缓冲剂、抗微生物组分、以及它们的组合的附加功能成分。19.权利要求18的方法，其中所述表面活性剂选自醇烷氧基化物、线型烷基苯磺酸盐、 醇磺酸盐、胺氧化物、烷基酚乙氧基化物、聚乙二醇酯、Ε0/Ρ0嵌段共聚物及它们的混合物。20.权利要求1的方法，其中所述组合物包含GRAS成分。21.权利要求1的方法，其进一步包括(b)在已经将所述组合物施用于有待清洁的表面之后再施用该组合物，其中将附加的 ...

【专利技术属性】
技术研发人员：PJ弗恩霍尔兹，RJ赖瑟，AW埃里克森，KR史密斯，TR莫斯，
申请(专利权)人：埃科莱布有限公司，
类型：发明
国别省市：US[美国]