以协同的防晒剂混合物为主要成分的皮肤和/或头发的光保护化妆组合物及其应用制造技术

本发明专利技术涉及新的化妆和／或皮肤病学化妆组合物，具体是光保护皮肤和／或头发的化妆组合物，其特征在于该组合物含有①一种特定的苯并咪唑磺酸衍生物作为第一种防晒剂，和②一种具有苯并三唑官能的含硅衍生物作为第二种防晒剂，所述第一种和第二种防晒剂在所述组合物中的摩尔比［（第一种防晒剂色基）／（第二种防晒剂色基）］能够达到所赋予的防晒保护因子。在保护皮肤和头发防止紫外辐射作用的应用。（*该技术在2018年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及新的化妆/皮肤病学组合物，更具体地涉及用于皮肤和/或头发防止紫外辐射的光保护的组合物(该组合物在下面简称为防晒组合物)，以及它们用于上述的化妆应用中。更确切地，本专利技术涉及防晒组合物，在一种化妆上可接受的载体中，这些组合物含有第一种特定的防晒剂(即一种特定的苯并咪唑磺酸衍生物)与至少一种适当选自于苯并三唑硅氧烷的第二种特定防晒剂的组合物。人们知道，波长为280-400纳米的光辐射能够使人的皮肤变成褐色，还知道尤其是波长为280-320纳米的光辐射(已知命名为UV-B)引起皮肤红斑和烧伤，这可能妨碍自然晒黑发展；由于这些原因以及美观的原因，始终都需要有一些控制这种自然晒黑的方法来如此控制皮肤的颜色；因此，这种UV-B辐射应该滤掉。人们还知道波长为320-400纳米的UV-A辐射，这些辐射可引起皮肤变成褐色，这些辐射能够诱发皮肤变性，在敏感皮肤或连续地受到太阳光辐射的皮肤的情况下尤其如此。UV-A辐射尤其可诱发失去皮肤弹性和出现皱纹，导致皮肤过早的老化。这些辐射有利于红斑反应的发生或使某些对象患有的这种反应增强，甚至可能成为光毒性反应或对光过敏反应之源。于是，由于美观和化妆的原因，如像保持皮肤的自然弹性，越来越多的人们希望控制它们皮肤上的UV-A辐射。因此也希望滤掉UV-A辐射。直到今天曾提出许多用于皮肤光保护(UV-A和/或UV-B)的化妆组合物。这些防晒组合物往往呈水包油类型的乳化液状(即一种化妆上可接受的载体是由一种连续的含水分散相和一种不连续的含油分散相组成的)，它含有不同浓度的一种或多种亲油和/或亲水的通常有机防晒剂，这些有机防晒剂能够选择性地吸收有害的UV辐射，这些防晒剂(及其量)应根据所期望的防晒保护因子进行选择(防晒保护因子(SPF)在数学上表示为有UV防晒剂时达到皮肤发红阈值所必需的辐照时间与无UV防晒剂时达到皮肤发红阈值所必需的辐照时间之比)。然而，在前面提到的在光保护领域中所进行的大量研究工作之后，申请人出乎预料地、惊奇地发现了，本
中本身已知的两种特定防晒化合物以在非常确定的范围内的比例组合，由于其显著的增效作用，得到的防晒组合物将具有明显改善的防晒保护指数，并且在所有情况下都大大高于单独使用一种或另一种防晒剂，或者同时含有这两种防晒剂但其比例超出本专利技术范围而可能达到的保护指数。因此，根据本专利技术的其中一个目的，现在提出新的化妆和/或皮肤病学组合物，特别是防晒组合物，其特征在于在化妆上可接受的载体中，这些组合物含有①至少一种具有苯并三唑的含硅衍生物作为第一种防晒剂，该衍生物含有至少一种下述化学式(1)结构单元O(3-a)/2Si(R)a-A(1)其式中-R代表或许卤化的C1-C10烷基或苯基或三甲基甲硅烷氧基，-a是包括0和3在内的0-3中的一个整数，-符号A代表直接与一个硅原子连接的一价基，并且它满足下述化学式(2) 式中-Y是相同的或不同的，它们选自于C1-C8烷基、卤素和C1-C4烷氧基，其条件是，在这后一种情况下同一芳核的两个相邻的Y一起可以构成一个亚烷基二氧基，其中亚烷基含有1-2个碳原子，-X代表O或NH，-X代表氢或C1-C4烷基，-n是包括0和3在内的0-3中的一个整数，-m是0或1，-p是包括1和10在内的1-10中的一个整数。②至少一种苯并咪唑磺酸衍生物C作为第二种防晒剂，该衍生物满足下述化学式(3) 式中R’代表氢原子、直链或支链的C1-C8烷基或烷氧基或下述化学式(4)的基 所述第一种和第二种防晒剂在所述组合物中的比例是能够达到SPF协同改善的摩尔比(A/C)。本专利技术还有一个目的是使用这样一些组合物作为或用于制备化妆和/或皮肤病学组合物，这些组合物用于保护皮肤和/头发防止紫外辐射照射，特别是太阳辐射照射。本专利技术的另外一个目的在于保护皮肤和/或头发防止紫外辐射照射，特别是太阳辐射照射的化妆处理方法，该方法主要是在皮肤和/或头发上涂有效量的一种本专利技术的组合物。本专利技术的其他特征、观点和优点将体现在下面所作的详细说明中。本专利技术使用的含硅衍生物是具有苯并三唑官能的硅烷或硅氧烷，其中包括至少一种下述化学式(1)结构单元O(3-a)/2Si(R)a-A(1)式中-R代表或许卤化的C1-C10烷基或苯基或三甲基甲硅烷氧基，-a是包括0和3在内的0-3中的一个整数，-符号A代表直接与一个硅原子连接的一价基，并且它满足下述化学式(2) 式中-Y是相同的或不同的，它们选自于C1-C8烷基、卤素和C1-C4烷氧基，其条件是，在这后一种情况下同一芳核的两个相邻的Y一起可以构成一个亚烷基二氧基，其中亚烷基含有1-2个碳原子，-X代表O或NH，-Z代表氢或C1-C4烷基，-n是包括0和3在内的0-3中的一个整数，-m是0或1，-p是包括1和10在内的1-10中的一个整数。这些化合物具体在以申请人名义申请的EP-A-711778专利申请中以及也是以申请人名义申请的WO94/06404专利申请中作过描述。优选地，在本专利技术范围内使用的这些含硅衍生物属于一般的苯并三唑硅氧烷组，这组苯并三唑硅氧烷具体地在WO94/06404中作过描述。特别适于实施本专利技术的一组苯并三唑硅氧烷是满足下述化学式(5)或(6)化合物的组 或 式中-R是相同的或不同的，它们选自于C1-C10烷基、苯基、3，3，3-三氟丙基和三甲基硅氧烷基氧基，在数量上至少80％ R基是甲基，-B是相同的或不同的，它们选自于R基和A基，-r是包括0和50在内的0-50中的一个整数，s是包括0和20在内的0-20中的一个整数，如果s＝0，两个符号B中至少一个代表A，-u是包括1和6在内的1-6中的一个整数，t是包括0和10在内的0-10中的一个整数，其条件是t+u等于或大于3，-符号A满足上述化学式(2)。如由上述化学式(2)得出的，在由苯并三唑两个芳族核提供的任何可使用的位置中，根据本专利技术可以将链-(X)m-(CH2)p-CH(Z)-CH2-联接在苯并三唑上，因此可保证所述苯并三唑结构单元与硅氧烷化链的硅原子连接 优选地，这种联接是在3，4，5位(带羟基官能的芳族核)或4’位(与三唑环相邻的苯核)，更优选地是在3，4或5位。在一种本专利技术优选实施方式中，这种联接是在3位。同样地，一个或多个取代基Y的联接可以是在苯并三唑中任何可使用的其他位置。不过，优选地，这种联接是在3，4，4’，5和/或6位。在一种本专利技术优选实施方式中，结构单元Y的联接是在5位。在上述化学式(5)或(6)中，这些烷基可以是直链或支链的，它们具体选自于甲基、乙基、正-丙基、异丙基、正丁基、异丁基、叔丁基、正戊基、异戊基、新戊基、正己基、正庚基、正辛基、2-乙基己基和叔辛基。本专利技术优选烷基R是甲基、乙基、丙基、正丁基、正辛基、和2-乙基己基。更优选地，R基都是甲基。在上述化学式(5)和(6)的化合物中，更可取的是使用满足化学式(5)的化合物，即具有短直链的二有机硅氧烷。在上述化学式(5)的化合物中，更可取的是使用其中B基是任何两个R基的化合物。在属于本专利技术范围内的二有机硅氧烷中，特别可取的是具有下述特征中至少一个特征，优选地，具有下述全部特征的统计或定义的衍生物-B是R基，-R是烷基，更优选地是甲基，-r是包括0和15在内的0-15中的一个数本文档来自技高网...

【技术保护点】
化妆和／或皮肤病学组合物，其特征在于在化妆上可接受的载体中该组合物含有：①至少一种具有苯并三唑的含硅衍生物作为第一种防晒剂，该衍生物含有至少一种下述化学式（１）结构单元：Ｏ↓［（３－ａ）／２］Ｓｉ（Ｒ）↓［ａ］－Ａ （１）其式中 ：－Ｒ代表或许卤化的Ｃ↓［１］－Ｃ↓［１０］烷基或苯基或三甲基甲硅烷氧基，－ａ是包括０和３在内的０－３中的一个整数，－符号Ａ代表直接与一个硅原子连接的一价基，并且它满足下述化学式（２）：＊＊＊ （２）式中：－Ｙ是相同 的或不同的，它们选自于Ｃ↓［１］－Ｃ↓［８］烷基、卤素和Ｃ↓［１］－Ｃ↓［４］烷氧基，其条件是，在这后一种情况下同一芳核的两个相邻的Ｙ一起可以构成一个亚烷基二氧基，其中亚烷基含有１－２个碳原子，－Ｘ代表Ｏ或ＮＨ，－Ｚ代表氢或Ｃ↓［１ ］－Ｃ↓［４］烷基，－ｎ是包括０和３在内的０－３中的一个整数，－ｍ是０或１，－ｐ是包括１和１０在内的１－１０中的一个整数，②至少一种苯并咪唑磺酸衍生物Ｃ作为第二种防晒剂，该衍生物满足下述化学式（３）：＊＊＊ （３）式 中Ｒ’代表氢原子、直链或支链的Ｃ↓［１］－Ｃ↓［８］烷基或烷氧基或下述化学式（４）的基：＊＊＊ （４）所述第一种和第二种防晒剂在所述组合物中的比例是能够达到ＳＰＦ协同改善的摩尔比（Ａ／Ｃ）。...

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：I汉森内，
申请(专利权)人：莱雅公司，
类型：发明
国别省市：FR[法国]