印章制造技术

本实用新型专利技术有关于一种印章，其主要包含主体、印体、顶盖及封盖，主体设有穿孔，印体具有柱体及用印块，柱体穿入主体的穿孔，用印块设有导块，其特征是一柱体套设有一个弹簧与主体相互抵压，顶盖内有结合体，与印体相结合，封盖的两侧端分别设有凸轴，一侧设有个一勾板，主体容纳空间两侧端边的壁体设有圆形轴孔，封盖设有伸缩空间，封盖设有渐内缩型槽沟，主体壁体设有斜滑面；据此，以封盖侧端凸轴经斜滑面滑行，同时借由伸缩空间作伸缩功能，令封盖侧端凸轴能嵌入圆形轴孔中，而使封盖顺利定位于容纳空间中，且随印体上下顺畅均匀翻转。（*该技术在2019年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本技术有关于一种印章，它可以确实快速定位封盖及用印行程顺畅均匀翻转启闭封盖，可以锁固顶盖及控制顶盖与印体的行程，同时可以进行分段控制用印的深浅。
技术介绍
众所周知，传统印章无印盖，使得携带容易沾染墨水，非常不便，且市场上的连续 印章以一外加盖体遮住用印面，但仍然不太方便，后来陆续开发许多连续印章，使得印章回 升，用印面不凸露，或以封旋转式封盖遮住用印，使得用印的人不易沾染墨水，非常方便，但 是市场上的连续印章其功能仅限于此，未有多功能连续印章，尤其对于连续印章上下位移 行程的控制，或是控制用印面深浅，或是停止用印的控制及设定等，传统发热连续印章都不 具有这些功能，在多变的市场中，多功能的连续印章，是使用者所需求，也是印章业者必需 发展的方向； 有鉴于此，本案技术人基于上述弊端，积极努力开发、研究改良，并累积多年 制造、生产经验，而终于有一足以解决上述弊端的技术产生。
技术实现思路
本技术的目的在于提供一种用印行程顺畅均匀翻转启闭封盖，保护用印面， 扩张印块用印面积及加长印章使用寿命，同时可避免印章墨水快速干涸或沾染周遭对象的 设计。 本技术的进一步目的在于提供了一种可以平衡锁固顶盖不能用印，以调整钮控制顶盖与印体的行程及其欲定位位置，从而可以分段控制用印的深浅。 本技术的再进一步目的在于提供一种确实可行性可快速将封盖嵌入定位于容纳空间内的结构。 本技术的
技术实现思路
为一种印章，主要包含有一个主体，下半部有一个容纳 空间，上半部有护体围绕，容纳空间顶面设有至少一个穿孔，在该容纳空间两侧端边的壁体 设有圆形轴孔；一个印体，具有至少一个柱体及用印块，柱体穿入主体的穿孔，用印块设有 至少一个导块，其中，至少一柱体套设一弹簧与主体相互抵压，使其具有回复位移的弹力； 一个顶盖，位于主体上方，顶盖内有至少一个结合体，与印体相结合，顶盖与印体相互连动； 至少一个封盖，封盖设有渐内縮型槽沟，该封盖两侧端各设一个凸轴，且至少一侧设有一勾 板；封盖至少设有一个伸縮空间，渐内縮型槽沟设有导滑面；据此，以封盖侧端凸轴经斜滑 面滑行，同时借着伸縮空间作伸縮功能变化，令封盖侧端凸轴能嵌入圆形轴孔中而使封盖 顺利快速定位于容纳空间中，由于封盖设有呈渐内縮型的槽沟，封盖在其定位于容纳空间 后及印体未往下位移前，用印块上的导块与渐内縮型槽沟的导滑面之间，自然形成一个无 阻力空间，当印体欲往下启动时瞬间不需同时负担启动翻转封盖力道，且当导块行经无阻 力空间后接触到导滑面时，也不是垂直(90度)碰触，更可以减少启动翻转封盖力道，封盖 即可随印体往下翻转，同时用印块作用印的动作，达到用印行程顺畅均匀。 其中，该封盖至少设有一个伸縮空间，借由伸縮空间作伸縮功能变化，而使封盖顺 利快速定位于主体容纳空间中。 其中，该主体壁体至少设有一斜滑面，以封盖侧端凸轴经斜滑面滑行嵌入主体内。 其中，该主体底端组装有止滑体。 其中，该印体下方组装一底盖，底盖设有勾端，勾端勾住于印体。 其中，该封盖的两个勾板为不对称设置，并翻转封盖可相互避开，使勾板不碰触一起。 其中，该顶盖至少设有一个定位钮，定位钮可侧移卡住主体，可作暂定位印体。 其中，该主体至少设有一个定位钮，定位钮侧移卡住印体，同样可作暂定位印体。 其中，该主体与顶盖所包覆的空间内设有一呈中空框形体的框件，框件设有粗条， 粗条可入于主体与顶盖所包覆空间内所设的止挡缘纵向方位处，外观面设有露出口 。 其中，该顶盖设有凹入面。 其中，该顶盖设有波浪状凹入面，可供置入较大一点面积的纸张。 其中，于该主体内部空间设置一透明墨水容器，再在主体外观上至少一面设有透明体。 其中，该主体下方设有标示点作为用印时主体对齐用印处的标示。 其中，该顶盖外观面设有抵顶处供用印者用印时手指抵顶。 其特征是该主体两侧设有圆形轴孔的壁体边缘设有伸縮空间。 其中，该印体下方可组装一框体，框体可保护用印块周边以避免其损伤及托住用 印块内的物体。 其中，该框体设有导块。 —种印章，主要包含有 —个主体，下半部有一个容纳空间，上半部有护体围绕，容纳空间顶面设有至少一 个穿孔，该容纳空间的周边有壁体； —印体，具有至少一个柱体及用印块，柱体穿入主体的穿孔，用印块设有至少一导 块，其中至少一柱体套设一弹簧与主体相互抵压，具有回复位移的弹力； —顶盖，位于主体上方，顶盖内有至少一个结合体，与印体相结合，顶盖与印体相 互连动； 至少一封盖，封盖两侧端各设一个凸轴，且至少一侧设有一勾板； —调整钮，为一中空框体周边设有凸块，置入于主体与顶盖所包覆的空间内，供置入调整钮之空间内设有止挡缘，而随调整钮一起旋转的凸块，可入位于止挡缘纵向方位处； 据此，按压该顶盖，顶盖连动该印体向下，使封盖以凸轴为中心作旋转，而翻转封 盖进行打开，同时用印块作用印的动作，调整钮可调整定位用印块吐出的位置及用于平衡 锁固用印。 其中，该主体内设有一调整钮，顶盖下端内缘至少设有一凹处，调整钮的凸块可以 旋入凹处，使顶盖无法下压，用于锁固用印。 其中，该顶盖内设有一个调整钮，主体设有壁条，壁条具有下端止挡缘，下端止挡 缘下方供调整钮的凸块旋入，用于定位印体。 其中，该调整钮另一侧设有弧块，弧块底部有凸块，搭配顶盖内设有一勾杆及结合 体，使弧块位于勾杆及结合体之间，并凸块可抵挡于勾杆。 为了使贵审查委员，对本技术的内容、特征及目的，有着更进一步的了解与认 同，兹举较佳实施例，并配合图式、图号说明于下。附图说明I I I I I I | | | | | | | | | | | | | | | | | | | | | | | | | | |1本技术第一实施例的立体分解示意图。2是本技术第一实施例的横向剖面示意图。3是本技术第一实施例的纵向剖面示意图。4是本技术第一实施例操作用印的剖面示意图。5之1是本技术第一实施例底盖上视平面示意图。5之2是本技术第一实施例底盖的横向剖面示意图。5之3是本技术第一实施例底盖的纵向剖面示意图。6是本技术第二实施例实施单一封盖的剖面示意图。7是本技术第二实施例实施单一封盖的操作剖面示意图。8之1是本技术第三实施例实施不对称封盖勾板的剖面示意图。8之2是本技术第三实施例实施定位钮设在主体上的示意图9是本技术第四实施例的剖面示意图。10是本技术第五实施例的剖面示意图。11是本技术第六实施例的主体及顶盖上视剖面示图。12是本技术第六实施例的主体剖面(未含顶盖)示意图。13是本技术第七实施例的剖面示意图。14是本技术第八实施例的剖面示意图。15是本技术第八实施例的上视(未结合顶盖)示意图。16是本技术第九实施例立体示意图。17是本技术第十实施例主体具有伸縮空间(隔离空间)尚未伸展(张开) 18是本技术第十一实施例另一样式平面示意图。 19之1是本技术第十二实施例的印体上视平面示意图。实施例的印体横向剖面示意图。 :实施例的印体纵向剖面示意图。实施例的用印块剖面示意图。 :实施例的用印块框体上视平面示意图。 :实施例的用印块框体剖面示意图。 :实施例之印体上视平面示意图。 :实施例之印体横向剖面示意图。 :实施例之印体纵向剖面示意图。本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种印章，主要包含有：一个主体，下半部具有一个容纳空间，上半部有护体围绕，容纳空间顶面设有至少一个穿孔，在该容纳空间两侧端边的壁体设有圆形轴孔；一个印体，具有至少一个柱体及用印块，柱体穿入主体穿孔，用印块设有至少一个导块，其特征是：至少一柱体套设一个弹簧与主体相互抵压，使其具有回复位移的弹力；一个顶盖，位于主体上方，顶盖内有至少一个结合体，与印体相结合，顶盖与印体相互连动；至少一封盖，该封盖设有渐内缩型槽沟，封盖两侧端各设一个凸轴，且至少一侧设有一个勾板；据此，令封盖侧端凸轴能嵌入主体壁体的圆形轴孔中，印体的导块入位于渐内缩型槽沟，按压该顶盖，顶盖连动该印体向下，使封盖依凸轴为中心作旋转，而翻转封盖行使打开动作，同时用印块作用印的动作，达到用印行程顺畅均匀的效果。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：林长亿，
申请(专利权)人：林长亿，
类型：实用新型
国别省市：71[中国|台湾]