高碱性显影剂再生剂组合物的使用方法技术

形成平版印刷板的方法，包括用ｐＨ为至少１２．０的含碱金属硅酸盐显影剂组合物显影曝光的可成像元件。通过向显影剂组合物中加入ｐＨ为至少１２．０的含碱金属硅酸盐再生剂组合物，使该显影剂组合物再生。显影剂和再生剂组合物的电导率受到一种或多种电导率降低剂（例如丙三醇）抑制。显影剂组合物中的这种电导率抑制大于再生剂组合物的电导率抑制。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术一般地涉及平版印刷，具体涉及形成平版印刷板的方法，特别是由正性(positive-working)可成像元件、使用加入到显影剂组合物中 的再生剂组合物形成平版印刷板的方法。
技术介绍
印刷板前体领域中的最新发展关注于可以通过激光器或激光二极 管成像的可成像层组合物的用途。激光器辐照不需要常规的卣化银制版 印刷薄膜作为中间信息载体(或"掩模")，因为激光器可以由计算机直 接控制。商用成像制版机(image-setter)中使用的高性能激光器或激光二 极管通常发射波长为至少700 nm的辐射，因此可成像层组合物在电磁 波谱的近红外或红外区域中敏感。但是，其它有用的辐射敏感组合物祐二 设计为用紫外或可见光辐射成像。有两种使用可成像层组合物制备印刷板的可能方法。对于负性印刷 板，可成像层中的曝光区域被硬化，未曝光区域在显影过程中被洗掉。 对于正性印刷板，曝光区域溶于显影剂，未曝光区域变成图像。与可成像元件类型无关，通常已经使用金属基材(或"载体")，例 如包括铝或各种金属组成的铝合金的基材，进行平版印刷。金属片材的 表面通常通过表面粒化来变粗糙，以便保证对其上布置的层、通常为可 成像层的优良粘合性，以及提高印刷过程中未成像区域中的保水性。这 种铝载可成像元件有时在本领域中称为平版(planographic)印刷板或石 版(lithographic)印刷板前体。为制备用于平版元件的含铝基材，可以例如使用顺序步骤处理未加 工铝的连续幅板，包括一些类型的粒化、使用适当酸的阳极氧化以提供 阳极氧化物涂层，以及在将幅板复巻或穿过用于施涂可成像层配制料的 涂布区之前施涂亲水涂层的后处理区段。在阳极氧化区段中，铝幅板被处理，在其表面上形成氧化铝层，这 样其将显示印刷工艺期间所必需的高度耐机械磨蚀性。这种氧化物层在 某种程度上已经是亲水的，对于对水具有高亲合性以及排斥印刷油墨， 这是重要的。但是，该氧化物层是过于反应性的，可能与可成像元件中的可成像层的組分互相作用。该氧化物层可以部分或完全覆盖铝基材表面。在后处理区段中，用亲水保护层(在本领域中也称为"密封层"、"子 层"或"隔层")覆盖氧化物层，以在施涂一种或多种可成像层配制料之 前提高其亲水性。 一种适合的隔层也可以保证在显影期间，可成像层的可溶区域容易从基材去除，不留下残余物并提供干净的亲水基底。该亲 水隔层也可以保护氧化铝层抵抗用高碱性显影剂显影期间的腐蚀以及 保护氧化铝层免受来自可成像层的染料渗透。已经描述了用于这一目的的各种材料，包括硅酸盐、糊精、氟化锆 钓、六氟硅酸，以及具有例如羧基、磺酸、膦酸、巯基、羟基或胺基的官能团的聚合物。特殊的亲水保护层由包括聚(乙烯基膦酸)(PVPA)、乙 烯基膦酸/丙烯酸(VPA/AA)共聚物和聚(丙烯酸)(PAA)的配制料制备。另外，粒化和阳极氧化的铝也可以用磷酸盐溶液处理，所述磷酸盐 溶液可以进一步含有无机氟化物(PF)。各种水性碱性组合物(显影剂)已知用于处理成像的负性和正性元 件，提供平版印刷板。例如，US 4,945,030 (Turner等人)中描述含有5-30% 碱金属和0.1-10%环氧乙烷/环氧丙烷嵌段共聚物的高pH显影剂，US 5,851,735 (Miller等人)中描述含有例如丙三醇的增稠剂以及Si02对M20 重量比为至少0.3的其它显影剂。高pH显影剂也可以包括各种表面活性剂、消泡剂、悬浮剂，包括 氧化烯化合物和糖，如例如US 5,670,294 (Piro)和7，147,995 (Takamiya) 中所述。使用过程中，显影剂的体积和活性被减少。处理元件从显影设备带 出相当体积的显影剂，显影剂的活性随着其在成像元件上起作用而削弱。补充剂经常用来弥补损失的显影剂体积，但是这些溶液通常具有与 显影剂几乎相同的组成和活性。它们通常不能"弥补"或恢复显影剂活 性。再生剂通常用于该目的。它们被设计为具有特定的化学品组合，以 弥补"老化，，的显影剂的体积和活性两者。要解决的问题虽然通常希望用后处理溶液进行粒化和阳极氧化基材的处理，但是 使用无机氟化物("PF")处理可能是困难的，因为其可能需要特别努力6来保持干净的处理罐和设备，以及防止基材损坏(例如凹陷、擦伤或刻 划)。利用亲水材料，例如聚(乙烯基膦酸)、聚(乙烯基吡咯垸酮)、阿拉 伯树胶、多糖和纤维素材料的处理在制造过程中困难较少，但是处理的基材在用pH为至少12的显影剂处理的过程中更容易被蚀刻。这种蚀刻 导致硅酸铝(淤渣)在处理器中累积。如果不定期清除，淤渣可能在整个 处理设备中移动，阻断管路、堵塞喷涂棒以及损坏泵。蚀刻还可能产生 再次沉积在显影元件上的颗粒，这可能干扰印刷工作。虽然再生剂已知用于弥补显影剂体积和恢复显影剂活性，但是设计 能够恢复足以用于处理的显影剂活性并减少如上所述铝基材蚀刻的特 定显影剂的再生剂并非易事。因此，需要提供一种减少制造问题的用于具有铝基材的可成像元件 的处理手段。进一步需要一种使用显影和再生剂组合物的组合的方法， 该组合很少会导致铝基材蚀刻并且可用于由提供长工艺周期的这种可 成像元件有效地提供平版印刷板。
技术实现思路
本专利技术在本领域中领先提供一种形成平版印刷板的方法，包括用pH为至少12的含碱金属硅酸盐显影剂组合物显影包括亲水基材 的成像曝光可成像元件，其中通过向显影剂组合物加入pH为至少12的含碱金属硅酸盐再生 剂组合物，使该显影剂组合物再生，条件是由在显影剂组合物中存在一种或多种电导率降低剂引起的在三些实施方^中，本专利技术包括一;形成平版印刷板的方法，包括 用pH为12.0至13.5的含碱金属硅酸盐显影剂组合物显影包括亲水基材的成像曝光正性可成像元件，其中通过向显影剂组合物加入pH为12.0至13.5的含碱金属硅酸盐再生剂组合物，使该显影剂组合物再生，条件是显影剂和再生剂组合物都含有丙三醇，但是再生剂组合物中丙三醇对显影剂组合物中丙三醇的重量比低于0.95:1,使得显影剂组合物的电导率低于再生剂组合物的电导率。更进一步，本专利技术提供一种形成平版印刷板的方法，包括用pH为至少12的显影剂组合物显影包括亲水基材的成像曝光可成像元件，和该显影剂组合物包含A-D) ^咸金属石圭酸盐或偏硅酸盐，或两者， B-D)烷基;危酸盐，和 C-D)电导率降低剂，其中通过向显影剂组合物加入pH为至少12的再生剂組合物使该显 影剂组合物再生，该再生剂组合物包含A-R)碱金属硅酸盐或偏硅酸盐，或两者， B-R)烷基好u酸盐，和 C-R)电导率降低剂，其中相比C-R的电导率降低剂使再生剂组合物的电导率降低，C-D 的电导率降低剂使显影剂组合物的电导率降低更大。 一种形成平版印刷板的方法，包括A) 以低于100 mJ/cm卩的辐照能量成像曝光正性可成像元件，该元 件包括已经涂布有聚(乙烯基膦酸)的铝基材并具有在聚(乙烯基膦酸)涂 层上布置的红外辐射敏感可成像层，B) 在有或没有后曝光烘烤步骤的基础上，用包括丙三醇并且pH为 12.5至13.5和电导率为40至80 mS/cm的含硅酸盐显影剂组合物显影成 像曝光的可成像元件，和C) 向显影剂组合物中添加包括丙三醇的再生剂组合物， 条件是再生剂组合物的电导率比显影剂组合物的电导率高至少1mS本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种形成平版印刷板的方法，包括：　用ｐＨ为至少１２的含碱金属硅酸盐显影剂组合物显影包括亲水基材的成像曝光可成像元件，　其中通过向显影剂组合物中加入ｐＨ为至少１２的含碱金属硅酸盐再生剂组合物使所述显影剂组合物再生，　条件是由 在所述显影剂组合物中存在一种或多种导电率降低剂引起的所述显影剂组合物导电率的抑制大于所述再生剂组合物导电率的抑制。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：GR米勒，MA罗思，EE克拉克，
申请(专利权)人：伊斯曼柯达公司，
类型：发明
国别省市：US[美国]