System.ArgumentOutOfRangeException: 索引和长度必须引用该字符串内的位置。 参数名: length 在 System.String.Substring(Int32 startIndex, Int32 length) 在 zhuanliShow.Bind() 半导体器件、功率器件以及功率模块制造技术_技高网

半导体器件、功率器件以及功率模块制造技术

技术编号:45053473 阅读:2 留言:0更新日期:2025-04-22 17:37
实施方式的半导体器件具备半导体芯片(10)和设置于半导体芯片(10)的第一面侧的第一导电层(12B),第一导电层(12B)包含含有铜(Cu)、锡(Sn)及银(Ag)的金属间化合物层,第一导电层(12B)中的银相对于锡的浓度为1.0at%以上且7.9at%以下。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】

本专利技术的实施方式涉及半导体器件、功率器件以及功率模块


技术介绍

1、已知具有半导体芯片通过金属间化合物与铜部件接合的结构的功率器件。

2、现有技术文献

3、非专利文献

4、非专利文献1:“evaluation of ag-sinter and cusn-tlp base joiningtechnologies on lead frame”,a.otto,et.al.,proc.pcim europe2018(2018),691-698.

5、非专利文献2:“reliability modeling of sn-ag transient liquid phasedie-bonds for high-power sic devices”,a.a.bajwa and j.wilde,microelectronicsreliability,60(2016),116-125.

6、非专利文献3:“formation of initial defects in solid-liquid reactiondiffusion bonding of cu using sn film”,s.fukumoto,et.al.,proc.mses2017(2017),61-64.


技术实现思路

1、专利技术要解决的问题

2、提高半导体器件的可靠性。

3、用于解决问题的手段

4、实施方式的半导体器件具备半导体芯片和设置于所述半导体芯片的第一面侧的第一导电层,所述第一导电层包含含有铜(cu)、锡(sn)及银(ag)的金属间化合物层,所述第一导电层中的所述银相对于所述锡的浓度为1.0at%以上且7.9at%以下。

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【技术保护点】

1.一种半导体器件,其具备:

2.根据权利要求1所述的半导体器件,其中,所述第一导电层设置在所述半导体芯片与铜层之间。

3.根据权利要求1所述的半导体器件,其中,所述第一导电层进一步包含镍(Ni)、金(Au)及钯(Pd)中的至少一种以上。

4.根据权利要求1所述的半导体器件,其进一步具备设置在所述半导体芯片与所述第一导电层之间的第二导电层,

5.根据权利要求1所述的半导体器件,其中,所述第一导电层包含AgSn相和CuSn相。

6.根据权利要求5所述的半导体器件,其中,所述AgSn相包含Ag3Sn和Ag5Sn中的至少一种,

7.一种功率器件,其具备:

8.根据权利要求7所述的功率器件,其中,所述半导体器件进一步具备设置于所述焊盘与所述端子之间的第三导电层,

9.一种功率模块,其具备:

10.一种半导体器件,其具备:

11.根据权利要求10所述的半导体器件,其中,所述第一导电层进一步包含金属层,

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】

1.一种半导体器件,其具备:

2.根据权利要求1所述的半导体器件,其中,所述第一导电层设置在所述半导体芯片与铜层之间。

3.根据权利要求1所述的半导体器件,其中,所述第一导电层进一步包含镍(ni)、金(au)及钯(pd)中的至少一种以上。

4.根据权利要求1所述的半导体器件,其进一步具备设置在所述半导体芯片与所述第一导电层之间的第二导电层,

5.根据权利要求1所述的半导体器件,其中,所述第一导电层包含agsn相...

【专利技术属性】
技术研发人员:川城史义
申请(专利权)人:株式会社东芝
类型:发明
国别省市:

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