【技术实现步骤摘要】
本申请属于智能显示，具体涉及一种硅基液晶反射型显示方法。
技术介绍
1、显示技术是人们赖以获取外界信息的关键手段和重要途径。随着科技的发展和军用、民用的潜在需求，微型化、高分辨率和低功耗正成为下一代显示技术的发展方向，作为半导体集成电路和液晶显示结合的产物，硅基液晶备受瞩目。
2、硅基液晶采用涂有液晶硅的cmos集成电路芯片作为反射式lcd的基片，用先进工艺磨平后镀上铝当作反射镜，形成cmos基板，然后将cmos基板与含有透明电极的玻璃基板相贴合，再注入液晶封装而成，硅基液晶将控制电路放置于液晶的后面，可以提高透光率，从而达到更大的光输出和更高的分辨率。
3、然而，在硅基液晶投影系统中，光学引擎、机械结构、系统电路或驱动芯片本身的任何缺陷都会影响画面显示效果，导致硅基液晶的高分辨率优势不能充分发挥或体现。
技术实现思路
1、本申请实施例提供一种硅基液晶反射型显示方法，以解决现有技术中的上述技术问题。
2、本申请实施例的第一方面提供了一种硅基液晶反射型显示方法，包括：
3、光源发出的光经过匀光和整形，透过偏振光束分离器照射液晶层；
4、基于预设策略，得到最优显示灰度和亮度值，根据最优显示灰度和亮度值计算得到初始电压；
5、根据硅基液晶制造过程中记录的当前硅基液晶金属反射层表面的平整度构建评价函数，根据评价函数和预设算法得到补偿电压；
6、根据初始电压和补偿电压得到驱动电压，根据驱动电压控制液晶层的通光
7、在一些实施例中，所述光源发出的光经过匀光和整形，透过偏振光束分离器照射液晶层，其中，采用两片复眼透镜对光源发出的光进行匀光，具体为：
8、第一片复眼透镜收集从光源发出的光，在光出射方向，与第一片复眼透镜对应间隔设置第二片复眼透镜，使得第一片复眼透镜的每个单眼成像到第二片复眼透镜所对应的单眼。
9、在一些实施例中，所述基于预设策略，得到最优显示灰度和亮度值，根据最优显示灰度和亮度值计算得到初始电压，其中，基于预设策略，得到最优显示灰度和亮度值，包括以下步骤：
10、以灰度和亮度为优化变量，构建场顺序、场权值、显示电路公共极电压和优化变量之间的数学模型，并以数学模型作为目标函数模型，应用预设算法求解帕累托最优解集，得到最优灰度和亮度值。
11、在一些实施例中，所述以灰度和亮度为优化变量，构建场顺序、场权值、显示电路公共极电压和优化变量之间的数学模型，包括以下步骤：
12、获取显示画面的灰度和亮度，与场顺序、场权值、显示电路公共极电压之间的若干组样本数据；
13、将显示画面的灰度和亮度数据分别进行回归模型拟合，对应得到显示画面的灰度和亮度的回归方程。
14、在一些实施例中，所述根据硅基液晶制造过程中记录的当前硅基液晶金属反射层表面的平整度构建评价函数，根据评价函数和预设算法得到补偿电压，其中，根据硅基液晶制造过程中记录的当前硅基液晶金属反射层表面的平整度，包括以下步骤：
15、以预设方法制造硅基液晶金属反射层，并在制造硅基液晶金属反射层的过程中，检测当前硅基液晶金属反射层表面的平整度，通过预设身份标识码将平整度与当前硅基液晶进行关联和存储。
16、在一些实施例中，所述以预设方法制造硅基液晶金属反射层，包括以下步骤：
17、在硅晶片基底上嵌入驱动电路，得到驱动电路层，在驱动电路层上设置绝缘层，然后依次沉积金属反射层、复合保护层，其中，复合保护层包括下层和上层两层结构，下层为与金属反射层表面接触的软质层，上层为覆盖在下层表面的硬质层；
18、对复合保护层、金属反射层和绝缘层通过刻蚀出沟槽，使得沟槽底部露出驱动电路层的上表面；
19、对沟槽通过介质进行填积处理，同时使得介质覆盖复合保护层，得到介质层；
20、对介质层进行机械抛光处理，当抛光至复合保护层的上层时停止；
21、刻蚀复合保护层的下层部分，露出金属反射层的上表面。
22、在一些实施例中，所述根据硅基液晶制造过程中记录的当前硅基液晶金属反射层表面的平整度构建评价函数，根据评价函数和预设算法得到补偿电压，包括以下步骤：
23、采用环围能量法，根据金属反射层的上表面的平整度，得到评价函数；
24、设置均值为0和方差相等的随机扰动电压；
25、对硅基光学相控阵芯片分别施加正向和负向的随机扰动电压，并根据评价函数对应得到两个性能评价函数值；
26、根据两个性能评价函数值和预设的目标函数计算式，得到目标函数的变化量；
27、根据目标函数的变化量和预设表达式，计算得到加载在硅基光学相控阵芯片电极上的电压信号；
28、根据当前电压信号得到对应的光强分布，若当前光强分布对应的评价函数处于极大值，则将当前电压信号作为补偿电压。
29、在一些实施例中，所述根据目标函数的变化量和预设表达式，计算得到加载在硅基光学相控阵芯片电极上的电压信号。
30、在一些实施例中，所述根据初始电压和补偿电压得到驱动电压，根据驱动电压控制液晶层的通光性能，从而调整射入金属反射层的光，光经金属反射层反射，再出穿过液晶层、偏振光束分离器进入投影光路，在屏幕上显示画面，还包括：
31、接收应用场景选择信号，根据应用场景选择信号，确定与应用场景匹配的刷新模式。
32、在一些实施例中，所述接收应用场景选择信号，根据应用场景选择信号，确定与应用场景匹配的刷新模式，具体为：
33、在对整幅图像强度或调制相位同步性要求超过预设阈值的应用场景，采用全局刷新模式；否则，采用逐行刷新模式。
34、由上可见，本申请实施例通过对硅基液晶的光源进行匀光和整形处理，能够有效满足光照均匀度，进而提高显示画面质量。
35、同时，本申请实施例基于预设策略，得到最优显示灰度和亮度值，根据最优显示灰度和亮度值计算得到初始电压，能够确保画面的最优显示效果，进而提高显示画面质量。
36、并且，硅基液晶显示质量的一个关键因素就是金属反射层表面的平整度，只有金属反射层足够平整，才能精确地实现对光线反射路线的控制，进而得到预期的画面质量，但是，硅基液晶在制造过程中，例如，抛光打磨等，不可避免的存在结构误差，而该结构误差并非统一值，而是存在个体性差异。基于此，本申请实施例在硅基液晶制造过程中就对每块硅基液晶金属反射层表面的平整度进行单独检测和记录，并依据所记录的平整度，构建评价函数，进而根据评价函数和预设算法得到补偿电压，显然，能够有针对性地消除制造过程中的结构误差所导致的显示画面质量缺陷问题。
37、可见，本申请实施例综合考虑照明光源、驱动参数和制造结构特性等多方面因素，能够有效提高硅基液晶显本文档来自技高网...
【技术保护点】
1.一种硅基液晶反射型显示方法，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的硅基液晶反射型显示方法，其特征在于，所述光源发出的光经过匀光和整形，透过偏振光束分离器照射液晶层，其中，采用两片复眼透镜对光源发出的光进行匀光，具体为：
3.根据权利要求1所述的硅基液晶反射型显示方法，其特征在于，所述基于预设策略，得到最优显示灰度和亮度值，根据最优显示灰度和亮度值计算得到初始电压，其中，基于预设策略，得到最优显示灰度和亮度值，包括以下步骤：
4.根据权利要求3所述的硅基液晶反射型显示方法，其特征在于，所述以灰度和亮度为优化变量，构建场顺序、场权值、显示电路公共极电压和优化变量之间的数学模型，包括以下步骤：
5.根据权利要求1所述的硅基液晶反射型显示方法，其特征在于，所述根据硅基液晶制造过程中记录的当前硅基液晶金属反射层表面的平整度构建评价函数，根据评价函数和预设算法得到补偿电压，其中，根据硅基液晶制造过程中记录的当前硅基液晶金属反射层表面的平整度，包括以下步骤：
6.根据权利要求5所述的硅基液晶反射型显示方法，其特征在于，所述以
7.根据权利要求5所述的硅基液晶反射型显示方法，其特征在于，所述根据硅基液晶制造过程中记录的当前硅基液晶金属反射层表面的平整度构建评价函数，根据评价函数和预设算法得到补偿电压，包括以下步骤：
8.根据权利要求7所述的硅基液晶反射型显示方法，其特征在于，所述根据目标函数的变化量和预设表达式，计算得到加载在硅基光学相控阵芯片电极上的电压信号。
9.根据权利要求1所述的硅基液晶反射型显示方法，其特征在于，所述根据初始电压和补偿电压得到驱动电压，根据驱动电压控制液晶层的通光性能，从而调整射入金属反射层的光，光经金属反射层反射，再出穿过液晶层、偏振光束分离器进入投影光路，在屏幕上显示画面，还包括：
10.根据权利要求9所述的硅基液晶反射型显示方法，其特征在于，所述接收应用场景选择信号，根据应用场景选择信号，确定与应用场景匹配的刷新模式，具体为：
...【技术特征摘要】
1.一种硅基液晶反射型显示方法，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的硅基液晶反射型显示方法，其特征在于，所述光源发出的光经过匀光和整形，透过偏振光束分离器照射液晶层，其中，采用两片复眼透镜对光源发出的光进行匀光，具体为：
3.根据权利要求1所述的硅基液晶反射型显示方法，其特征在于，所述基于预设策略，得到最优显示灰度和亮度值，根据最优显示灰度和亮度值计算得到初始电压，其中，基于预设策略，得到最优显示灰度和亮度值，包括以下步骤：
4.根据权利要求3所述的硅基液晶反射型显示方法，其特征在于，所述以灰度和亮度为优化变量，构建场顺序、场权值、显示电路公共极电压和优化变量之间的数学模型，包括以下步骤：
5.根据权利要求1所述的硅基液晶反射型显示方法，其特征在于，所述根据硅基液晶制造过程中记录的当前硅基液晶金属反射层表面的平整度构建评价函数，根据评价函数和预设算法得到补偿电压，其中，根据硅基液晶制造过程中记录的当前硅基液晶金属反射层表面的平整度，包括以下步骤：
【专利技术属性】
技术研发人员：蔡华，蔡汉业，
申请(专利权)人：广东睿华光电科技有限公司，
类型：发明
国别省市：
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