【技术实现步骤摘要】
本文涉及显示技术，尤指一种显示基板和显示装置。
技术介绍
1、有机发光二极管(oled，organic light emitting diode)和量子点发光二极管(qled，quantum-dot light emitting diode)为主动发光显示器件，具有自发光、广视角、高对比度、低耗电、极高反应速度、轻薄、可弯曲和成本低等优点。
2、为了进一步扩大屏占比，可将摄像头置于显示屏下方并将摄像头所在区域制备为半透明区域，使得前置摄像头所在区域也可以显示图像，形成下屏摄像(under displaycamera，简称udc)。
技术实现思路
1、本申请实施例提供了一种显示基板，包括：
2、基底，包括显示区，所述显示区包括第一显示区及至少部分围绕所述第一显示区的常规显示区，所述第一显示区包括在平行于所述基底方向间隔布置的多个子像素区；
3、发光结构层，设置在所述基底上，所述发光结构层包括多个发光器件和像素定义层，所述发光器件包括在远离所述基底方向依次布置的有机发光层和第一电极，所述机发光层在所述基底上的正投影与所述子像素区交叠，所述第一电极位于所述像素定义层远离所述基底的一侧；
4、凸起结构，位于所述像素定义层和所述第一电极之间，所述凸起结构在所述基底上的正投影位于第一显示区且与所述子像素区不交叠；所述凸起结构包括多个凸台，所述多个凸台在平行于所述基底方向上间隔布置，相邻所述凸台之间的空间形成第一间隙；
5、所述第一电极
6、在一些示例性实施例中，所述第一电极覆盖所述凸台远离所述基底的端面，所述第一电极未延伸至所述第一间隙，所述第一间隙设置为阻断了所述第一电极，以在所述第一电极上形成所述透光通道。
7、在一些示例性实施例中，所述第一电极通过具有蒸镀源的蒸镀设备形成在所述像素定义层和所述凸台上；
8、所述凸台的高度为d，所述多个凸台在第一方向上间隔布置，所述第一方向平行于所述基底；
9、所述第一间隙的宽度为l，所述第一间隙的宽度设置为所述第一间隙在所述第一方向上的最小距离；
10、所述蒸镀源与所述像素定义层在垂直于所述基底方向上的最小距离为ts，所述蒸镀源在所述第一方向上与所述第一间隙的中心的间距为d，其中，l/d＝d/ts。
11、在一些示例性实施例中，所述凸台的高度设置为大于5微米。
12、在一些示例性实施例中，所述凸台的宽度设置为不大于10微米，所述凸台的宽度设置为所述凸台在第一方向上的最大尺寸。
13、在一些示例性实施例中，所述第一间隙的宽度不大于5微米。
14、在一些示例性实施例中，所述凸台在所述第一方向上的至少一端的端面设置为斜面，所述斜面和第一平面的夹角设置为θ1，所述第一平面平行于所述基底；
15、所述蒸镀设备的蒸镀角设置为θ2，其中，θ1＞θ2。
16、在一些示例性实施例中，θ1＞45°。
17、在一些示例性实施例中，所述凸台远离所述基底的端面为第一弧面。
18、在一些示例性实施例中，所述第一弧面靠近所述基底的一端的切线为第一切线，所述第一切线和第一平面的夹角设置为θ3，所述第一平面平行于所述基底，θ3≤45°。
19、在一些示例性实施例中，至少两个所述凸台在第一方向上间隔布置，所述第一方向平行于所述基底；
20、所述凸台在垂直于所述基底方向的截面设置为矩形、梯形、t字形、工字形、扇形或弓形。
21、在一些示例性实施例中，所述凸台的宽度设置为沿远离所述基底方向线性减小，或者所述凸台的宽度设置为沿远离所述基底方向线性增大，所述凸台的宽度设置为所述凸台在第一方向上的尺寸，所述凸台在垂直于所述基底方向的截面设置为梯形。
22、在一些示例性实施例中，所述凸台的侧壁设有第一凹槽，所述第一凹槽绕所述凸台的周向围成环形，所述凸台在垂直于所述基底方向的截面设置为工字形。
23、在一些示例性实施例中，所述显示基板包括位于所述第一显示区的目标子像素，所述目标子像素包括第一像素电路和第一发光器件，所述第一像素电路和所述第一发光器件电连接；
24、所述第一发光器件包括第一发光层，所述第一像素电路的至少部分在所述基底上的正投影设置为不与所述第一发光层在所述基底上的正投影交叠。
25、在一些示例性实施例中，所述显示基板还包括多个位于所述常规显示区的常规子像素，所述常规子像素包括第二像素电路和第二发光器件，所述第二像素电路和所述第二发光器件电连接；
26、所述第二发光器件包括第二发光层，所述第二像素电路的至少部分在所述基底上的正投影设置为不与所述第二发光层在所述基底上的正投影交叠。
27、在一些示例性实施例中，还包括封装结构层，所述封装结构层位于所述发光结构层远离所述基底的一侧；
28、所述封装结构层的折射率设置为η1，所述凸台的折射率设置为η2，|η1-η2|≤0.5。
29、在一些示例性实施例中，还包括封装结构层，所述封装结构层包括喷墨打印形成的第一封装层，所述第一封装层的厚度不小于10微米，所述第一封装层的厚度设置为所述第一封装层在垂直于所述基底方向上的最小尺寸。
30、在一些示例性实施例中，所述凸台的材料包括非可变形材料，所述非可变形材料包括氮氧化硅、氧化硅、氮化硅及树脂类材料；
31、或者，所述凸台的材料包括可变形材料，所述可变形材料包括树脂类材料。
32、在一些示例性实施例中，还包括隔垫物层，所述隔垫物层和所述凸起结构都设置在所述像素定义层远离所述基底的端面上，所述隔垫物层和所述凸起结构同层布置。
33、在一些示例性实施例中，所述第一显示区还包括位于相邻所述子像素区之间的透光区，所述透光区所呈图案设置为非环形图案。
34、本申请实施例提供了一种显示装置，包括上述的显示基板。
35、本申请实施例的显示基板，可利用凸起结构在蒸镀工艺中产生阴影效应，使得第一电极在第一显示区形成镂空结构，从而提升第一电极的透光率。本申请实施例的显示基板可采用可形变的凸台，可通过加热处理改变凸台形貌，从而解决了因为凸台高度和外形造成的封装信赖性不良和显示亮度不均的问题。
36、本申请的其它特征和优点将在随后的说明书中阐述，并且，部分地从说明书中变得明显的，或者通过实施本申请而了解。本申请的其他优点可通过在说明书以及附图中所描述的方案来实现和获得。
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1.一种显示基板，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述第一电极覆盖所述凸台远离所述基底的端面，所述第一电极未延伸至所述第一间隙，所述第一间隙设置为阻断了所述第一电极，以在所述第一电极上形成所述透光通道。
3.根据权利要求2所述的显示基板，其特征在于，所述第一电极通过具有蒸镀源的蒸镀设备形成在所述像素定义层和所述凸台上；
4.根据权利要求3所述的显示基板，其特征在于，所述凸台的高度设置为大于5微米。
5.根据权利要求3所述的显示基板，其特征在于，所述凸台的宽度设置为不大于10微米，所述凸台的宽度设置为所述凸台在第一方向上的最大尺寸。
6.根据权利要求3所述的显示基板，其特征在于，所述第一间隙的宽度不大于5微米。
7.根据权利要求3所述的显示基板，其特征在于，所述凸台在所述第一方向上的至少一端的端面设置为斜面，所述斜面和第一平面的夹角设置为θ1，所述第一平面平行于所述基底；
8.根据权利要求7所述的显示基板，其特征在于，θ1＞45°。
9.根据权利要求2所
10.根据权利要求9所述的显示基板，其特征在于，所述第一弧面靠近所述基底的一端的切线为第一切线，所述第一切线和第一平面的夹角设置为θ3，所述第一平面平行于所述基底，θ3≤45°。
11.根据权利要求2所述的显示基板，其特征在于，至少两个所述凸台在第一方向上间隔布置，所述第一方向平行于所述基底；
12.根据权利要求11所述的显示基板，其特征在于，所述凸台的宽度设置为沿远离所述基底方向线性减小，或者所述凸台的宽度设置为沿远离所述基底方向线性增大，所述凸台的宽度设置为所述凸台在第一方向上的尺寸，所述凸台在垂直于所述基底方向的截面设置为梯形。
13.根据权利要求11所述的显示基板，其特征在于，所述凸台的侧壁设有第一凹槽，所述第一凹槽绕所述凸台的周向围成环形，所述凸台在垂直于所述基底方向的截面设置为工字形。
14.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述显示基板包括位于所述第一显示区的目标子像素，所述目标子像素包括第一像素电路和第一发光器件，所述第一像素电路和所述第一发光器件电连接；
15.根据权利要求14所述的显示基板，其特征在于，所述显示基板还包括多个位于所述常规显示区的常规子像素，所述常规子像素包括第二像素电路和第二发光器件，所述第二像素电路和所述第二发光器件电连接；
16.根据权利要求1至15任一项所述的显示基板，其特征在于，还包括封装结构层，所述封装结构层位于所述发光结构层远离所述基底的一侧；
17.根据权利要求1至15任一项所述的显示基板，其特征在于，还包括封装结构层，所述封装结构层包括喷墨打印形成的第一封装层，所述第一封装层的厚度不小于10微米，所述第一封装层的厚度设置为所述第一封装层在垂直于所述基底方向上的最小尺寸。
18.根据权利要求1至15任一项所述的显示基板，其特征在于，所述凸台的材料包括非可变形材料，所述非可变形材料包括氮氧化硅、氧化硅、氮化硅及树脂类材料；
19.根据权利要求1至15任一项所述的显示基板，其特征在于，还包括隔垫物层，所述隔垫物层和所述凸起结构都设置在所述像素定义层远离所述基底的端面上，所述隔垫物层和所述凸起结构同层布置。
20.根据权利要求1至15任一项所述的显示基板，其特征在于，所述第一显示区还包括位于相邻所述子像素区之间的透光区，所述透光区所呈图案设置为非环形图案。
21.一种显示装置，其特征在于，包括如权利要求1至20任一项所述的显示基板。
...【技术特征摘要】
1.一种显示基板，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述第一电极覆盖所述凸台远离所述基底的端面，所述第一电极未延伸至所述第一间隙，所述第一间隙设置为阻断了所述第一电极，以在所述第一电极上形成所述透光通道。
3.根据权利要求2所述的显示基板，其特征在于，所述第一电极通过具有蒸镀源的蒸镀设备形成在所述像素定义层和所述凸台上；
4.根据权利要求3所述的显示基板，其特征在于，所述凸台的高度设置为大于5微米。
5.根据权利要求3所述的显示基板，其特征在于，所述凸台的宽度设置为不大于10微米，所述凸台的宽度设置为所述凸台在第一方向上的最大尺寸。
6.根据权利要求3所述的显示基板，其特征在于，所述第一间隙的宽度不大于5微米。
7.根据权利要求3所述的显示基板，其特征在于，所述凸台在所述第一方向上的至少一端的端面设置为斜面，所述斜面和第一平面的夹角设置为θ1，所述第一平面平行于所述基底；
8.根据权利要求7所述的显示基板，其特征在于，θ1＞45°。
9.根据权利要求2所述的显示基板，其特征在于，所述凸台远离所述基底的端面为第一弧面。
10.根据权利要求9所述的显示基板，其特征在于，所述第一弧面靠近所述基底的一端的切线为第一切线，所述第一切线和第一平面的夹角设置为θ3，所述第一平面平行于所述基底，θ3≤45°。
11.根据权利要求2所述的显示基板，其特征在于，至少两个所述凸台在第一方向上间隔布置，所述第一方向平行于所述基底；
12.根据权利要求11所述的显示基板，其特征在于，所述凸台的宽度设置为沿远离所述基底方向线性减小，或者所述凸台的宽度设置为沿远离所述基底方向线性增大，所述凸台的宽度设置为所述凸台在第一方向上的尺寸，所述凸台在垂直于所述基...
【专利技术属性】
技术研发人员：李晓虎，张玉欣，梁珂，张旭，焦志强，袁广才，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：
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