【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及零件镀膜，尤其涉及一种离子注入及磁控溅射复合镀膜设备。
技术介绍
1、随着国内科学技术的不断发展进步，涉及真空环境下的高功率激光器的光源作为国家航天及激光产业的关键部件，其智能制造设备尤其重要。现有的制造设备都是单体设备，各自完成不同的工艺，光源器件在大气下进行周转，会产生不同程度的污染，导致最终成品质量不稳定，且产量极低；基于以上原因，研发一种在真空环境下对光学器件进行连续复合镀膜的设备尤为关键。
技术实现思路
1、鉴于现有技术中的上述缺陷或不足，期望提供一种离子注入及磁控溅射复合镀膜设备，将多工序集成，实现了工件的连续稳定生产，确保了工件的加工质量，极大的提高了加工效率。
2、本专利技术提供的一种离子注入及磁控溅射复合镀膜设备，包括：
3、离子注入室，其一侧连通有离子清洗源，另一侧连通有离子注入源；
4、镀膜室，连通的设置于所述离子注入室的一端，其两侧分别与磁控溅射镀膜机相连；所述镀膜室与离子注入室之间设置有隔离插板阀；
5、退火室，连通的设置于所述镀膜室远离所述离子注入室的一端，其内设置有退火加热机构；所述退火室与镀膜室之间设置有水冷式插板阀；
6、抽真空机构，所述离子注入室、镀膜室和退火室分别连接有互相独立的所述抽真空机构；
7、多组样品架，所述样品架设置有竖直的中心轴，所述样品架上位于所述中心轴的外周安置有若干工件，所述样品架用于带动若干工件以所述中心轴为轴公转，以及带动各工件自转；p>
8、传输机构，所述离子注入室、镀膜室和退火室内分别设置有所述传输机构，用于接收所述样品架，以及将所述样品架传输至下一工序；
9、驱动机构，所述离子注入室、镀膜室和退火室的顶部分别设置有伸入各自内部的所述驱动机构，所述驱动机构与样品架可分离的传动连接，用于驱动工件进行公转并同时进行自转；
10、多台周转车，用于将所述样品架转运至所述离子注入室的输入端，以及接收所述退火室输出的所述样品架。
11、进一步的，所述离子注入室、镀膜室和退火室固定设置于机架上；所述抽真空机构固定设置于所述机架内。
12、进一步的，所述离子注入室远离所述镀膜室的一端设置有输入密封门；所述退火室远离所述镀膜室的一端设置有输出密封门。
13、进一步的，所述退火加热机构包括分别设置于所述退火室内的顶部和两侧的电加热板；所述退火室的内壁设置有隔热板。
14、进一步的，所述抽真空机构包括真空泵，所述真空泵通过高压管路与对应的所述离子注入室、镀膜室或退火室相连。
15、进一步的，所述样品架设置有至少6组；
16、所述样品架包括底板，所述中心轴通过第一轴承座转动设置于所述底板上，所述底板上位于所述中心轴的外周固定设置有齿轮环，所述底板的两侧分别设置有滚轮，且每侧设置有至少两组所述滚轮，所述中心轴的顶端固定设置有支撑板；
17、所述支撑板的顶面固定设置有与所述中心轴同轴的传动座，所述转动座的顶端开设有定位槽，所述传动座顶端的外周开设有若干卡槽，所述支撑板上位于所述传动座的外周均布有若干自转轴，所述自转轴靠近底端处通过第二轴承座与所述支撑板转动连接，所述自转轴的底端贯穿所述支撑板并固定套接有与所述齿轮环相啮合的自转齿轮，工件可分离的套设于所述自转轴上，所述自转轴的顶端螺纹连接有螺母；
18、所述底板的底面固定设置有齿条座，所述齿条座的底面沿所述样品架的传输方向开设有嵌槽，所述嵌槽内可上下滑动的嵌设有齿条，所述齿条上沿其长度方向开设有若干长孔，所述长孔的长直径沿竖直方向设置，所述齿条座内固定设置有一一对应的穿过所述长孔的限位销，所述嵌槽内位于所述齿条的顶部设置有若干弹簧。
19、进一步的，所述滚轮的外侧固定设置有第一护罩；所述底板至少一侧的所述滚轮上均开设有v形槽；所述支撑板的顶面位于若干所述自转轴的内侧固定设置有第二护罩，所述第二护罩上位于所述传动座的上方开设有避让孔。
20、进一步的，所述传输机构包括两条平行设置的第一导轨，所述第一导轨的顶部对应所述滚轮上的v形槽呈倒v形，两条所述第一导轨之间设置有与所述齿条相啮合的主动齿轮，所述主动齿轮的一侧设置有通过第一减速机驱动其转动的第一电机。
21、进一步的，所述驱动机构包括安装架，所述安装架的一侧固定设置有z轴模组，所述z轴模组的一侧传动连接有滑动板，所述滑动板的外侧固定设置有架板，所述架板上固定设置有传动连接的第二电机和第二减速机，所述架板的底面设置有与所述第二减速机传动连接的驱动轴，所述驱动轴的底端固定设置有连接座，所述连接座的底部固定设置有与所述定位槽相匹配的定位销，所述连接座的底部位于所述定位销的外周固定设置有与所述卡槽相匹配的卡块。
22、进一步的，所述周转车设置有至少4台，所述周转车包括车架，所述车架的底部设置有万向轮，顶部设置有两条平行的第二导轨，所述第二导轨的顶部对应所述滚轮上的v形槽呈倒v形，所述车架顶部的两侧分别固定设置有扶手架，所述第二导轨上位于所述样品架的两端分别设置有挡块，所述挡块与车架转动连接。
23、相对于现有技术而言，本专利技术的有益效果是：
24、(1)本专利技术的复合镀膜设备设置有依次相连通的离子注入室、镀膜室和退火室，并通过插板阀分隔，工件安装于样品架后，依次进入抽真空后的离子注入室、镀膜室和退火室内并完成相应处理，实现了工件在真空环境下的连续加工，避免了工件在各工序之间周转时接触空气而影响工件镀膜质量的问题。本申请将工件镀膜加工的各工序集成到一起，并通过插板阀分隔，确保了工件的加工质量；
25、(2)本专利技术的复合镀膜设备设置有样品架和驱动机构，工件随样品架进入离子注入室、镀膜室或退火室后均可通过驱动机构进行驱动，实现工件同时进行公转和自转，保障了工件镀膜的均匀性，确保了工件的加工质量；
26、(3)本专利技术的复合镀膜设备设置有样品架、传输机构和周转车，工件安装到样品架后，通过传输机构实现了各工序之间的自动转换；通过周转车提高了工件上料和下料的便捷性。配置多组样品架和多台周转车，使得离子注入室、镀膜室和退火室内同时有工件进行相关工序的加工，安置工件、上料、下料和拆卸工件之间互不影响，提高了工件镀膜加工的流畅性，极大的提高了加工效率。
27、应当理解，
技术实现思路
部分中所描述的内容并非旨在限定本专利技术的实施例的关键或重要特征，亦非用于限制本专利技术的范围。本专利技术的其它特征将通过以下的描述变得容易理解。
【技术保护点】
1.一种离子注入及磁控溅射复合镀膜设备，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的离子注入及磁控溅射复合镀膜设备，其特征在于，所述离子注入室(1)、镀膜室(2)和退火室(3)固定设置于机架(9)上；所述抽真空机构(4)固定设置于所述机架(9)内。
3.根据权利要求1所述的离子注入及磁控溅射复合镀膜设备，其特征在于，所述离子注入室(1)远离所述镀膜室(1)的一端设置有输入密封门；所述退火室(3)远离所述镀膜室(2)的一端设置有输出密封门。
4.根据权利要求1所述的离子注入及磁控溅射复合镀膜设备，其特征在于，所述退火加热机构包括分别设置于所述退火室(3)内的顶部和两侧的电加热板；所述退火室(3)的内壁设置有隔热板。
5.根据权利要求1所述的离子注入及磁控溅射复合镀膜设备，其特征在于，所述抽真空机构(4)包括真空泵，所述真空泵通过高压管路与对应的所述离子注入室(1)、镀膜室(2)或退火室(3)相连。
6.根据权利要求1所述的离子注入及磁控溅射复合镀膜设备，其特征在于，所述样品架(5)设置有至少6组；
7.根据权利
8.根据权利要求7所述的离子注入及磁控溅射复合镀膜设备，其特征在于，所述传输机构(6)包括两条平行设置的第一导轨(61)，所述第一导轨(61)的顶部对应所述滚轮(55)上的V形槽(521)呈倒V形，两条所述第一导轨(61)之间设置有与所述齿条(516)相啮合的主动齿轮(62)，所述主动齿轮(62)的一侧设置有通过第一减速机(63)驱动其转动的第一电机(64)。
9.根据权利要求6所述的离子注入及磁控溅射复合镀膜设备，其特征在于，所述驱动机构(7)包括安装架(71)，所述安装架(71)的一侧固定设置有z轴模组(72)，所述z轴模组(72)的一侧传动连接有滑动板(73)，所述滑动板(73)的外侧固定设置有架板(74)，所述架板(74)上固定设置有传动连接的第二电机(75)和第二减速机(76)，所述架板(74)的底面设置有与所述第二减速机(76)传动连接的驱动轴(77)，所述驱动轴(77)的底端固定设置有连接座(78)，所述连接座(78)的底部固定设置有与所述定位槽(58)相匹配的定位销(79)，所述连接座(78)的底部位于所述定位销(79)的外周固定设置有与所述卡槽(59)相匹配的卡块(710)。
10.根据权利要求7所述的离子注入及磁控溅射复合镀膜设备，其特征在于，所述周转车(8)设置有至少4台，所述周转车(8)包括车架(81)，所述车架(81)的底部设置有万向轮(82)，顶部设置有两条平行的第二导轨(83)，所述第二导轨(83)的顶部对应所述滚轮(55)上的V形槽(521)呈倒V形，所述车架(81)顶部的两侧分别固定设置有扶手架(84)，所述第二导轨(83)上位于所述样品架(5)的两端分别设置有挡块(85)，所述挡块(85)与车架(81)转动连接。
...【技术特征摘要】
1.一种离子注入及磁控溅射复合镀膜设备，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的离子注入及磁控溅射复合镀膜设备，其特征在于，所述离子注入室(1)、镀膜室(2)和退火室(3)固定设置于机架(9)上；所述抽真空机构(4)固定设置于所述机架(9)内。
3.根据权利要求1所述的离子注入及磁控溅射复合镀膜设备，其特征在于，所述离子注入室(1)远离所述镀膜室(1)的一端设置有输入密封门；所述退火室(3)远离所述镀膜室(2)的一端设置有输出密封门。
4.根据权利要求1所述的离子注入及磁控溅射复合镀膜设备，其特征在于，所述退火加热机构包括分别设置于所述退火室(3)内的顶部和两侧的电加热板；所述退火室(3)的内壁设置有隔热板。
5.根据权利要求1所述的离子注入及磁控溅射复合镀膜设备，其特征在于，所述抽真空机构(4)包括真空泵，所述真空泵通过高压管路与对应的所述离子注入室(1)、镀膜室(2)或退火室(3)相连。
6.根据权利要求1所述的离子注入及磁控溅射复合镀膜设备，其特征在于，所述样品架(5)设置有至少6组；
7.根据权利要求6所述的离子注入及磁控溅射复合镀膜设备，其特征在于，所述滚轮(55)的外侧固定设置有第一护罩(520)；所述底板(52)至少一侧的所述滚轮(55)上均开设有v形槽(521)；所述支撑板(52)的顶面位于若干所述自转轴(510)的内侧固定设置有第二护罩(522)，所述第二护罩(522)上位于所述传动座(57)的上方开设有避让孔(523)。
8.根据权利要求7所述的离子注入及磁控溅射复合镀膜设备，其特征在于，所述传...
【专利技术属性】
技术研发人员：张学星，
申请(专利权)人：北京中科科美科技股份有限公司，
类型：发明
国别省市：
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