【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及等离子设备，特别涉及一种用于等离子体处理装置的进气结构的自润滑涂层、具有自润滑涂层的等离子体处理装置的进气结构及等离子体处理装置。
技术介绍
1、随着电子技术发展，芯片集成度不断提高，这使得在芯片形成的等离子体加工等过程中不仅要严格控制形成的集成电路芯片单元的沟槽深度和线宽尺寸，还要提高所加工硅片上表面的工艺均匀性。
2、等离子体处理装置主要有电容耦合等离子体(ccp)装置、电感耦合等离子体(icp)装置、电子回旋共振等离子体(ecr)装置等。其中，进入反应腔室的工艺气体在感应电场作用下生成等离子体，等离子体与晶圆表面发生物理化学反应，从而达到对晶圆处理的目的。工艺气体主要通过进气结构流入反应腔室。
3、在进气结构的喷嘴内设置运动结构，通过运动结构运动可以实现对气体方向的控制。目前，喷嘴通常为陶瓷或石英材质，在其中引入运动结构必然会导致运动结构与喷嘴接触面之间的摩擦磨损，而摩擦产生的颗粒进入后续流程造成等离子体处理过程(如等离子体刻蚀过程)中的颗粒污染，会影响等离子体工艺处理效果。如，在摩擦磨损过程中产生的磨粒颗粒被工艺气体带入等离子体，在等离子体与晶圆表面发生物理化学反应的过程中掉落在晶圆表面而形成缺陷，会影响对晶圆的处理效果。
技术实现思路
1、有鉴于此，本专利技术提供了一种用于等离子体处理装置的进气结构的自润滑涂层，以确保处理效果。本专利技术还提供了一种用于等离子体处理装置的进气结构及等离子体处理装置。
2、为实现上述目的，本
3、一种用于等离子体处理装置的进气结构的自润滑涂层，
4、所述进气结构具有能够相对运动的主体结构及运动结构，所述自润滑涂层能够涂覆于所述主体结构及所述运动结构的接触面上；
5、所述自润滑涂层在所述主体结构及所述运动结构相对运动时因摩擦产生的颗粒能够在等离子体中气化。
6、可选地，上述自润滑涂层中，所述自润滑涂层的表面粗糙度≤0.5μm。
7、可选地，上述自润滑涂层中，所述自润滑涂层的摩擦系数≤0.3。
8、可选地，上述自润滑涂层中，所述自润滑涂层的成分为有机物。
9、可选地，上述自润滑涂层中，所述自润滑涂层为特氟龙涂层、聚对羟基苯甲酸酯涂层、聚甲醛涂层、石墨涂层或类金刚石涂层。
10、可选地，上述自润滑涂层中，所述自润滑涂层为复合涂层；
11、所述复合涂层包括特氟龙涂层及类金刚石涂层；或，所述复合涂层为复合结构的类金刚石涂层，所述类金刚石涂层包括依次排列的金属基层、过渡层和类金刚石薄膜层，所述类金刚石薄膜层能够与气体接触。
12、本专利技术还提供了一种用于等离子体处理装置的进气结构，包括：
13、能够相对运动的主体结构及运动结构；所述主体结构具有中空腔体及用于向反应腔室输送气体的喷气孔，所述喷气孔喷出的气体能够在所述反应腔室内形成等离子体；所述主体结构具有第一接触面；所述运动结构具有能够在所述中空腔体内运动的第一运动部件，所述第一运动部件用于调节所述喷气孔的喷气状态；所述第一运动部件具有第二接触面；在所述运动结构在所述中空腔体内运动的过程中，所述第一接触面与所述第二接触面对应设置且相对运动；
14、如上述任一项所述的自润滑涂层，所述自润滑涂层能够至少覆盖所述第一接触面和/或所述第二接触面，所述自润滑涂层的耐摩擦性能高于所述主体结构及所述运动结构的耐摩擦性能。
15、可选地，上述进气结构中，所述第一接触面具有所述自润滑涂层。
16、可选地，上述进气结构中，所述中空腔体能够与所述气体接触的接触面均具有所述自润滑涂层。
17、可选地，上述进气结构中，所述主体结构的表面覆盖所述自润滑涂层。
18、可选地，上述进气结构中，所述运动结构的表面具有所述自润滑涂层。
19、可选地，上述进气结构中，所述运动结构采用陶瓷、石英、金属、特氟龙、聚对羟基苯甲酸酯材料、聚甲醛材料或石墨材料制作。
20、可选地，上述进气结构中，所述第一运动部件的表面具有所述自润滑涂层。
21、可选地，上述进气结构中，所述运动结构能够与所述气体接触的接触面均具有所述自润滑涂层。
22、可选地，上述进气结构中，所述运动结构采用特氟龙、聚对羟基苯甲酸酯、聚甲醛或石墨材料制作。
23、可选地，上述进气结构中，还包括位于所述中空腔体的内壁与所述运动结构之间的衬套；
24、所述衬套具有与所述喷气孔对应连通的避让孔；
25、所述衬套能够与所述气体接触的接触面具有所述自润滑涂层。
26、可选地，上述进气结构中，所述衬套采用特氟龙、聚对羟基苯甲酸酯、聚甲醛或石墨材料制作；
27、或，所述衬套采用硬质材料制作而成，所述衬套的表面覆盖所述自润滑涂层。
28、可选地，上述进气结构中，所述硬质材料为金属、陶瓷或石英材料。
29、可选地，上述进气结构中，所述衬套与所述中空腔体相对固定，所述运动结构与所述衬套相对运动；
30、所述衬套覆盖所述第一接触面。
31、可选地，上述进气结构中，所述衬套覆盖所述中空腔体中能够与所述气体接触的接触面。
32、本专利技术还提供了一种等离子体处理装置，包括反应腔体及进气结构，其特征在于，所述进气结构为如上述任一项所述的进气结构；
33、所述进气结构的第一运动部件调节所述进气结构的喷气孔的喷气状态，所述喷气孔喷出的气体在所述反应腔室内形成等离子体，所述进气结构的运动结构在所述中空腔体内运动时因摩擦产生的颗粒随着所述气体喷入所述反应腔室内并在所述等离子体中气化。
34、从上述的技术方案可以看出，本专利技术提供的用于等离子体处理装置的进气结构的自润滑涂层，应用在具有能够相对运动的主体结构及运动结构的进气结构中。其中，通过将自润滑涂层能够涂覆于主体结构及运动结构的接触面上，即自润滑涂层覆盖主体结构及运动结构的接触面。使得主体结构及运动结构相对运动过程中，自润滑涂层在对主体结构及运动结构的相对运动产生润滑效果的基础上保持很低的摩擦系数，因而自润滑涂层能够显著降低或消除主体结构及运动结构在相对运动过程中产生的摩擦损失，有效地保护主体结构及运动结构材料。另外，自润滑涂层因主体结构及运动结构的相对摩擦运动不可避免的产生的极少量颗粒，能够随着进气结构的气体流入工艺设备(如反应腔室)里的等离子体中气化，使得自润滑涂层摩擦产生的颗粒在与等离子体接触时不产生颗粒污染，进而在等离子体与晶圆表面发生物理化学反应的过程中不会对晶圆的处理效果产生影响，有效确保了处理效果。
35、本专利技术还提供了一种用于等离子体处理装置的进气结构及等离子体处理装置。由于上述自润滑涂层具有技术效果，因此，具有上述自润滑涂层的进气结构及等离子体处理装置也应具有同样地技术效果，在此不再详细说明。
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1.一种用于等离子体处理装置的进气结构的自润滑涂层，其特征在于，
2.如权利要求1所述的自润滑涂层，其特征在于，所述自润滑涂层的表面粗糙度≤0.5μm。
3.如权利要求1所述的自润滑涂层，其特征在于，所述自润滑涂层的摩擦系数≤0.3。
4.如权利要求1所述的自润滑涂层，其特征在于，所述自润滑涂层的成分为有机物。
5.如权利要求4所述的自润滑涂层，其特征在于，所述自润滑涂层为特氟龙涂层、聚对羟基苯甲酸酯涂层、聚甲醛涂层、石墨涂层或类金刚石涂层。
6.如权利要求4所述的自润滑涂层，其特征在于，所述自润滑涂层为复合涂层；
7.一种用于等离子体处理装置的进气结构，其特征在于，包括：
8.如权利要求7所述的进气结构，其特征在于，所述第一接触面具有所述自润滑涂层。
9.如权利要求8所述的进气结构，其特征在于，所述中空腔体能够与所述气体接触的接触面均具有所述自润滑涂层。
10.如权利要求9所述的进气结构，其特征在于，所述主体结构的表面覆盖所述自润滑涂层。
11.如权利要求7所
12.如权利要求11所述的进气结构，其特征在于，所述运动结构采用陶瓷、石英、金属、特氟龙、聚对羟基苯甲酸酯、聚甲醛或石墨材料制作。
13.如权利要求7所述的进气结构，其特征在于，所述第一运动部件的表面具有所述自润滑涂层。
14.如权利要求7所述的进气结构，其特征在于，所述运动结构能够与所述气体接触的接触面均具有所述自润滑涂层。
15.如权利要求7所述的进气结构，其特征在于，所述运动结构采用特氟龙、聚对羟基苯甲酸酯、聚甲醛或石墨材料制作。
16.如权利要求7所述的进气结构，其特征在于，还包括位于所述中空腔体的内壁与所述运动结构之间的衬套；
17.如权利要求16所述的进气结构，其特征在于，所述衬套采用特氟龙、聚对羟基苯甲酸酯、聚甲醛或石墨材料制作；
18.如权利要求17所述的进气结构，其特征在于，所述硬质材料为金属、陶瓷或石英材料。
19.如权利要求17所述的进气结构，其特征在于，所述衬套与所述中空腔体相对固定，所述运动结构与所述衬套相对运动；
20.如权利要求18所述的进气结构，其特征在于，所述衬套覆盖所述中空腔体中能够与所述气体接触的接触面。
21.一种等离子体处理装置，包括反应腔体及进气结构，其特征在于，所述进气结构为如权利要求7-20任一项所述的进气结构；
...【技术特征摘要】
1.一种用于等离子体处理装置的进气结构的自润滑涂层，其特征在于，
2.如权利要求1所述的自润滑涂层，其特征在于，所述自润滑涂层的表面粗糙度≤0.5μm。
3.如权利要求1所述的自润滑涂层，其特征在于，所述自润滑涂层的摩擦系数≤0.3。
4.如权利要求1所述的自润滑涂层，其特征在于，所述自润滑涂层的成分为有机物。
5.如权利要求4所述的自润滑涂层，其特征在于，所述自润滑涂层为特氟龙涂层、聚对羟基苯甲酸酯涂层、聚甲醛涂层、石墨涂层或类金刚石涂层。
6.如权利要求4所述的自润滑涂层，其特征在于，所述自润滑涂层为复合涂层；
7.一种用于等离子体处理装置的进气结构，其特征在于，包括：
8.如权利要求7所述的进气结构，其特征在于，所述第一接触面具有所述自润滑涂层。
9.如权利要求8所述的进气结构，其特征在于，所述中空腔体能够与所述气体接触的接触面均具有所述自润滑涂层。
10.如权利要求9所述的进气结构，其特征在于，所述主体结构的表面覆盖所述自润滑涂层。
11.如权利要求7所述的进气结构，其特征在于，所述运动结构的表面具有所述自润滑涂层。
12.如权利要求11所述的进气结构，其特征在于，所述运动...
【专利技术属性】
技术研发人员：李雪冬，贺小明，郭颂，杨振，邹博，胡杰，王聪，胡冬冬，许开东，
申请(专利权)人：江苏鲁汶仪器股份有限公司，
类型：发明
国别省市：
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