【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及显示装置、存储介质和显示方法。
技术介绍
1、在专利文献1中公开了具有去除基片的周缘部上的涂敷膜的步骤的涂敷处理方法。
2、现有技术文献
3、专利文献
4、专利文献1：日本特开2006-86189号公报
技术实现思路
1、专利技术要解决的技术问题
2、本专利技术提供能够容易地评价覆膜的边缘形状的显示装置、存储介质和显示方法。
3、用于解决技术问题的技术方案
4、本专利技术的一个方面的显示方法包括：基于对在正面形成有覆膜的基片的上述正面的周缘区域进行拍摄而得到的图像，针对绕上述基片的中心的多个周向位置所包含的每个周向位置，获取表示该周向位置与上述覆膜在上述基片的径向上的边缘位置之间的关系的边缘信息的步骤；基于上述边缘信息，将表示每个上述周向位置的上述边缘位置的曲线图显示于监视器的步骤；和在将上述曲线图显示于上述监视器之前，基于上述边缘信息中包含的上述边缘位置的统计信息，决定与上述曲线图上的上述边缘位置有关的显示范围的步骤。
5、专利技术效果
6、根据本专利技术，提供能够容易地评价覆膜的边缘形状的显示装置、存储介质和显示方法。
【技术保护点】
1.一种显示方法，其特征在于，包括：
2.如权利要求1所述的显示方法，其特征在于：
3.如权利要求2所述的显示方法，其特征在于：
4.如权利要求1～3中任一项所述的显示方法，其特征在于：
5.如权利要求4所述的显示方法，其特征在于：
6.如权利要求1～3中任一项所述的显示方法，其特征在于：
7.如权利要求1～3中任一项所述的显示方法，其特征在于，还包括以下步骤：
8.如权利要求1～3中任一项所述的显示方法，其特征在于，还包括：
9.如权利要求8所述的显示方法，其特征在于：
10.如权利要求1～3中任一项所述的显示方法，其特征在于：
11.一种计算机可读取的存储介质，其特征在于：
12.一种显示装置，其特征在于，包括：
13.如权利要求12所述的显示装置，其特征在于：
14.如权利要求13所述的显示装置，其特征在于：
15.如权利要求12～14中任一项所述的显示装置，其特征在于：
16.如权利要求15所述
17.如权利要求12～14中任一项所述的显示装置，其特征在于：
18.如权利要求12～14中任一项所述的显示装置，其特征在于：
19.如权利要求12～14中任一项所述的显示装置，其特征在于，还包括：
20.如权利要求19所述的显示装置，其特征在于：
21.如权利要求12～14中任一项所述的显示装置，其特征在于：
...【技术特征摘要】
1.一种显示方法，其特征在于，包括：
2.如权利要求1所述的显示方法，其特征在于：
3.如权利要求2所述的显示方法，其特征在于：
4.如权利要求1～3中任一项所述的显示方法，其特征在于：
5.如权利要求4所述的显示方法，其特征在于：
6.如权利要求1～3中任一项所述的显示方法，其特征在于：
7.如权利要求1～3中任一项所述的显示方法，其特征在于，还包括以下步骤：
8.如权利要求1～3中任一项所述的显示方法，其特征在于，还包括：
9.如权利要求8所述的显示方法，其特征在于：
10.如权利要求1～3中任一项所述的显示方法，其特征在于：
11.一种计算机可读取的存储介质，其特...
【专利技术属性】
技术研发人员：田所真任，坂崎哲也，
申请(专利权)人：东京毅力科创株式会社，
类型：发明
国别省市：
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。