【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及磁记录介质基板用玻璃、磁记录介质基板和磁记录再生装置。
技术介绍
1、作为硬盘等磁记录介质用的基板(磁记录介质基板)，以往使用了铝合金制的基板。但是，对于铝合金制基板，已指出其容易发生变形等。因此，目前广泛使用了玻璃制的磁记录介质基板(例如参照专利文献1(其全部记载内容作为特别公开内容援用于此))。
2、专利文献1：日本特开2021-86643号公报
技术实现思路
1、玻璃制的磁记录介质基板经过将熔融玻璃成型的工序而制作。
2、本专利技术的一个方式的目的在于提供一种适合于通过各种成型方法进行成型的玻璃制的磁记录介质基板。
3、专利文献1(日本特开2021-86643号公报)中公开了一种磁记录介质用玻璃基板，具体而言，作为适合于通过溢流下拉法进行成型(参照专利文献1的第0063段)的粘性特性，高温粘度为102.5dpa·s时的温度为1590℃以上1640℃以下(参照专利文献1的表1～表3)。然而，根据本专利技术人的研究新发现了：为了利用例如压制成型法等各种成型法进行成型，具有粘度为102.0dpa·s时的温度为1600℃以下的粘性特性的玻璃、和/或粘度为102.5dpa·s时的温度为1500℃以下的玻璃是合适的。
4、本专利技术的一个方式如下所述。
5、[1]一种磁记录介质基板用玻璃(以下也记为“玻璃1-a”)，其是下述非晶态的玻璃，
6、粘度为102.0dpa·s时的温度t1为1600℃以下，并且
7、比弹性模量为34.0mnm/kg以上。
8、[2]如[1]所述的磁记录介质基板用玻璃，其中，li2o和na2o的总含量(li2o+na2o)为0.50摩尔％以上。
9、[3]一种磁记录介质基板用玻璃(以下称为“玻璃1-b”)，其是下述非晶态的玻璃，
10、粘度为102.5dpa·s时的温度t2为1500℃以下，并且，
11、比弹性模量为34.0mnm/kg以上。
12、[4]如[3]所述的磁记录介质基板用玻璃，其中，li2o和na2o的总含量(li2o+na2o)为0.50摩尔％以上。
13、[5]一种磁记录介质基板用玻璃(以下称为“玻璃1-c”)，其是下述非晶态的玻璃，
14、粘度为102.0dpa·s时的温度t1为1600℃以下，并且，
15、li2o和na2o的总含量(li2o+na2o)为0.50摩尔％以上。
16、[6]一种磁记录介质基板，其由[1]～[5]中任一项所述的磁记录介质基板用玻璃构成。
17、[7]一种磁记录介质，其具有[6]所述的磁记录介质基板和磁记录层。
18、[8]一种磁记录再生装置，其包含[7]所述的磁记录介质。
19、另外，本专利技术的一个方式如下所述。
20、[1]一种磁记录介质基板用玻璃(以下也记为“玻璃4-a”)，其是下述非晶态的玻璃，
21、粘度为102.0dpa·s时的温度t1为1700℃以下，并且，
22、比弹性模量为34.0mnm/kg以上。
23、[2]如[1]所述的磁记录介质基板用玻璃，其中，li2o和na2o的总含量(li2o+na2o)为0.50摩尔％以上。
24、[3]一种磁记录介质基板用玻璃(以下称为“玻璃4-b”)，其是下述非晶态的玻璃，
25、粘度为102.5dpa·s时的温度t2为1560℃以下，并且，
26、比弹性模量为34.0mnm/kg以上。
27、[4]如[3]所述的磁记录介质基板用玻璃，其中，li2o和na2o的总含量(li2o+na2o)为0.50摩尔％以上。
28、[5]一种磁记录介质基板用玻璃(以下称为“玻璃4-c”)，其是下述非晶态的玻璃，
29、粘度为102.0dpa·s时的温度t1为1700℃以下，并且，
30、li2o和na2o的总含量(li2o+na2o)为0.50摩尔％以上。
31、[6]一种磁记录介质基板，其由[1]～[5]中任一项所述的磁记录介质基板用玻璃构成。
32、[7]一种磁记录介质，其具有[6]所述的磁记录介质基板和磁记录层。
33、[8]一种磁记录再生装置，其包含[7]所述的磁记录介质。
34、另外，对于磁记录介质基板用玻璃，可期望具有高刚性。这基于下述理由。
35、磁记录介质通常被搭载于组装在个人电脑等设备中的硬盘驱动器(hdd)的内部。在hdd内部，2片以上磁记录介质(磁盘)被安装于主轴马达的旋转轴，通过安装于hdd的致动器对在hdd内部高速旋转的磁记录介质的磁记录层写入数据或从磁记录层读取数据。在为了进行这样的数据写入、读取而磁记录介质高速旋转时，磁记录介质会剧烈振动，这可能使磁头与磁记录介质表面碰撞，成为发生磁头划碰的原因。关于hdd，可通过减薄每1片磁记录介质的厚度、在hdd中搭载更多的磁记录介质而增大记录容量。但是，通常越为了减薄磁记录介质而使基板呈薄板化，则在高速旋转时磁记录介质越具有容易振动的倾向。为了抑制该振动，作为磁记录介质的玻璃基板，优选使用刚性高、即使进行了薄板化也不容易在高速旋转时产生振动的玻璃基板。作为该刚性的指标，例如可以举出比弹性模量。
36、鉴于上述情况，本专利技术的另一方式的目的在于提供一种具有高刚性的磁记录介质基板用玻璃，在一个方式中，目的在于提供一种比弹性模量高的磁记录介质基板用玻璃。
37、本专利技术的另一方式如下所述。
38、[1]一种磁记录介质基板用或磁记录再生装置用玻璃间隔物用的玻璃(以下称为“玻璃2”)，其是下述非晶态玻璃，
39、至少包含li2o，
40、na2o和k2o的总含量为0摩尔％以上6.00摩尔％以下，
41、b2o3含量为0摩尔％以上10.00摩尔％以下，并且，
42、cao含量为0摩尔％以上1.00摩尔％以下。
43、[2]如[1]所述的玻璃，其中，cao含量为0摩尔％以上0.50摩尔％以下。
44、[3]如[1]或[2]所述的玻璃，其中，cao含量为0摩尔％以上0.10摩尔％以下。
45、[4]如[1]～[3]中任一项所述的玻璃，其不包含cao。
46、[5]如[1]～[4]中任一项所述的玻璃，其中，b2o3含量为0.1摩尔％以上10.00摩尔％以下。
47、[6]如[1]～[5]中任一项所述的玻璃，其中，sio2含量为50.00摩尔％以上70.00摩尔％以下。
48、[7]如[1]～[6]中任一项所述的玻璃，其中，sio2含量为55.00摩尔％以上68.00摩尔％以下。
49、[8]如[1]～[7]中任一项所述的玻璃，其中，li2o含量为1.00摩尔％以上10.00摩尔％以本文档来自技高网...
【技术保护点】
1.一种磁记录介质基板用玻璃，其是下述非晶态的玻璃，
2.如权利要求1所述的磁记录介质基板用玻璃，其中，Li2O和Na2O的总含量Li2O+Na2O为0.50摩尔％以上。
3.一种磁记录介质基板用玻璃，其是下述非晶态的玻璃，
4.如权利要求3所述的磁记录介质基板用玻璃，其中，Li2O和Na2O的总含量Li2O+Na2O为0.50摩尔％以上。
5.一种磁记录介质基板用玻璃，其是下述非晶态的玻璃，
6.一种磁记录介质基板，其由权利要求1～5中任一项所述的磁记录介质基板用玻璃构成。
7.一种磁记录介质，其具有权利要求6所述的磁记录介质基板和磁记录层。
8.一种磁记录再生装置，其包含权利要求7所述的磁记录介质。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】
1.一种磁记录介质基板用玻璃，其是下述非晶态的玻璃，
2.如权利要求1所述的磁记录介质基板用玻璃，其中，li2o和na2o的总含量li2o+na2o为0.50摩尔％以上。
3.一种磁记录介质基板用玻璃，其是下述非晶态的玻璃，
4.如权利要求3所述的磁记录介质基板用玻璃，其中，li2o和na2o的总含量li2o+...
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