【技术实现步骤摘要】
本技术涉及涂布机及涂布机配件，具体涉及一种涂布治具。
技术介绍
1、作为一种精密的湿式涂布技术，工作原理为浆料在一定压力一定流量下沿着涂布模头的缝隙挤压喷出而转移到基材上。相比其它涂布方式，具有很多优点，如涂布速度快、精度高、湿厚均匀；涂布系统封闭，在涂布过程中能防止污染物进入，浆料利用率高、能够保持浆料性质稳定，并能适应不同浆料粘度和固含量范围。为了更均匀、更精准地将浆料涂覆于基材表面，通常情况下是将基材放置于平整的大理石平台或者其他的一些平面度较高的平面上，以保证涂层的均匀性，最后通过模头将浆料涂覆于基材表面。
2、相关技术中，现有的平台通常包括平台本体、预涂区模块、收尾模块和两个夹紧模块，预涂区模块、收尾模块和两个夹紧模块滑动连接在平台本体上，通过围合夹持晶硅基材，然而，在调节过程中需要对多个部件同时进行调节夹持晶硅基材，调节方式复杂，且容易出现偏差导致定位不准确，影响涂布效果。
技术实现思路
1、本技术提供了一种涂布治具，解决了现有的平台在调节过程中需要对多个部件同时进行调节夹持晶硅基材，调节方式复杂，且容易出现偏差导致定位不准确，影响涂布效果的技术问题。
2、有鉴于此，本技术提供了一种涂布治具，包括：
3、第一定位模组，设有至少一个用于围合晶硅基材的开槽；
4、载台模组，设置在所述第一定位模组内，且位于所述开槽的下方，适于支撑所述晶硅基材；
5、第二定位模组，一一对应设置在每个所述开槽内，且沿所述开槽的长度方向滑
6、可选地，所述第一定位模组包括底板和第一补偿板；所述第一补偿板通过多根支撑柱连接在所述底板的顶部；所述开槽设置在所述第一补偿板上；所述载台模组和所述第二定位模组均设置在所述底板的顶部。
7、可选地，所述底板的顶部沿其周缘设有多个用于吊装的吊环。
8、可选地，所述开槽的侧壁厚度小于所述晶硅基材的厚度，且所述开槽的侧壁底部设有第一倾斜面，所述第一倾斜面由上至下逐渐朝远离所述载台模组的一侧倾斜设置。
9、可选地，所述第二定位模组通过调节组件滑动连接在所述第一定位模组上；所述调节组件设置在所述第一定位模组上，所述调节组件的输出端与所述第二定位模组连接，适于驱动所述第二定位模组沿所述开槽的长度方向往复移动。
10、可选地，所述调节组件包括驱动件、底座和滑块；所述底座设置在所述第一定位模组上，所述滑块沿所述开槽的长度方向滑动连接在所述底座上；所述驱动件设置在所述底座上，且所述驱动件的输出端与所述滑块连接，适于驱动所述滑块沿所述开槽的长度方向往复滑动；所述第二定位模组设置在所述滑块上。
11、可选地，所述第二定位模组包括第二补偿板和支撑板；所述第二补偿板通过支撑板与所述调节组件的输出端连接；所述第二补偿板的尺寸与所述开槽的尺寸适配，所述第二补偿板在所述开槽内与所述开槽滑动配合，适于与所述开槽围合夹持所述晶硅基材。
12、可选地，所述第二补偿板朝向所述开槽的一端的厚度小于所述晶硅基材的厚度，所述第二补偿板朝向所述开槽的一端的底部设有第二倾斜面，所述第二倾斜面由上至下逐渐朝远离所述载台模组的一侧倾斜设置。
13、可选地，所述第二定位模组还包括调节板和多个调节螺钉；所述调节板设置在所述第二补偿板的底部；多个所述调节螺钉均依次贯穿所述第二补偿板和所述调节板，且所述调节螺钉与所述调节板螺纹连接，所述调节螺钉的底部与所述支撑板可转动连接。
14、可选地，每个所述开槽的下方均对应设有一组所述载台模组，每组所述载台模组均包括载台和高度调节机构；所述载台位于所述开槽的下方，适于支撑所述晶硅基材；所述高度调节机构设置在所述第一定位模组内，且所述高度调节机构的调节端与所述载台连接，适于调节所述载台的高度；
15、和/或，所述开槽设置有多个，多个所述开槽并排间隔设置。
16、本技术技术方案，具有如下优点：
17、本实施例中，当需要对晶硅基材进行涂布时，将硅晶基材放置在开槽内，通过载台模组进行支撑，仅需通过第二定位模组在第一定位模组上朝向开槽的内侧滑动，使得第二定位模组在开槽共同围合夹持晶硅基材，将其定位在开槽，调节方式简单方便，生产效率高，通过开槽以及第二定位模组配合对晶硅基材进行限位，使晶硅基材布置位置精准，提高对晶硅基材涂布的精准性，提高涂布效果，避免在涂布过程中因晶硅基材定位不够准确而导致出现涂层错位的现象，同时开槽与第二定位模组围合包覆在晶硅基材的周侧，对晶硅基材的周侧进行密封以及补偿，避免在对晶硅基材进行涂布时浆料通过晶硅基材的周侧流到晶硅基材的背面，可通过增大涂布模头的涂布宽度，使得浆料能完全覆盖整个晶硅基材的涂布面，提高涂布效果，另外第一定位模组和第二定模组的顶端面均平齐设置，在安装时与晶硅基材的涂布面也保持平齐设置，提高涂布时的均匀性，进一步提高涂布效果；其次，开槽的数量可设置为1、2、3或者更多，即可设置一个开槽配合一组第二定位模组对一个晶硅基材进行涂布，也可设置多个开槽并分别通过多组第二定位模组围合夹持多个晶硅基材同时进行涂布，提高生产效率。
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1.一种涂布治具，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的涂布治具，其特征在于，所述第一定位模组(1)包括底板(102)和第一补偿板(103)；所述第一补偿板(103)通过多根支撑柱(104)连接在所述底板(102)的顶部；所述开槽(101)设置在所述第一补偿板(103)上；所述载台模组(2)和所述第二定位模组(3)均设置在所述底板(102)的顶部。
3.根据权利要求2所述的涂布治具，其特征在于，所述底板(102)的顶部沿其周缘设有多个用于吊装的吊环(105)。
4.根据权利要求1所述的涂布治具，其特征在于，所述开槽(101)的侧壁厚度小于所述晶硅基材(4)的厚度，且所述开槽(101)的侧壁底部设有第一倾斜面，所述第一倾斜面由上至下逐渐朝远离所述载台模组(2)的一侧倾斜设置。
5.根据权利要求1所述的涂布治具，其特征在于，所述第二定位模组(3)通过调节组件滑动连接在所述第一定位模组(1)上；所述调节组件设置在所述第一定位模组(1)上，所述调节组件的输出端与所述第二定位模组(3)连接，适于驱动所述第二定位模组(3)沿所述开槽(10
6.根据权利要求5所述的涂布治具，其特征在于，所述调节组件包括驱动件(305)、底座(306)和滑块(307)；所述底座(306)设置在所述第一定位模组(1)上，所述滑块(307)沿所述开槽(101)的长度方向滑动连接在所述底座(306)上；所述驱动件(305)设置在所述底座(306)上，且所述驱动件(305)的输出端与所述滑块(307)连接，适于驱动所述滑块(307)沿所述开槽(101)的长度方向往复滑动；所述第二定位模组(3)设置在所述滑块(307)上。
7.根据权利要求5所述的涂布治具，其特征在于，所述第二定位模组(3)包括第二补偿板(301)和支撑板(302)；所述第二补偿板(301)通过支撑板(302)与所述调节组件的输出端连接；所述第二补偿板(301)的尺寸与所述开槽(101)的尺寸适配，所述第二补偿板(301)在所述开槽(101)内与所述开槽(101)滑动配合，适于与所述开槽(101)围合夹持所述晶硅基材(4)。
8.根据权利要求7所述的涂布治具，其特征在于，所述第二补偿板(301)朝向所述开槽(101)的一端的厚度小于所述晶硅基材(4)的厚度，所述第二补偿板(301)朝向所述开槽(101)的一端的底部设有第二倾斜面，所述第二倾斜面由上至下逐渐朝远离所述载台模组(2)的一侧倾斜设置。
9.根据权利要求7所述的涂布治具，其特征在于，所述第二定位模组(3)还包括调节板(303)和多个调节螺钉(304)；所述调节板(303)设置在所述第二补偿板(301)的底部；多个所述调节螺钉(304)均依次贯穿所述第二补偿板(301)和所述调节板(303)，且所述调节螺钉(304)与所述调节板(303)螺纹连接，所述调节螺钉(304)的底部与所述支撑板(302)可转动连接。
10.根据权利要求1-9任一项所述的涂布治具，其特征在于，每个所述开槽(101)的下方均对应设有一组所述载台模组(2)，每组所述载台模组(2)均包括载台(201)和高度调节机构(202)；所述载台(201)位于所述开槽(101)的下方，适于支撑所述晶硅基材(4)；所述高度调节机构(202)设置在所述第一定位模组(1)内，且所述高度调节机构(202)的调节端与所述载台(201)连接，适于调节所述载台(201)的高度；
...【技术特征摘要】
1.一种涂布治具，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的涂布治具，其特征在于，所述第一定位模组(1)包括底板(102)和第一补偿板(103)；所述第一补偿板(103)通过多根支撑柱(104)连接在所述底板(102)的顶部；所述开槽(101)设置在所述第一补偿板(103)上；所述载台模组(2)和所述第二定位模组(3)均设置在所述底板(102)的顶部。
3.根据权利要求2所述的涂布治具，其特征在于，所述底板(102)的顶部沿其周缘设有多个用于吊装的吊环(105)。
4.根据权利要求1所述的涂布治具，其特征在于，所述开槽(101)的侧壁厚度小于所述晶硅基材(4)的厚度，且所述开槽(101)的侧壁底部设有第一倾斜面，所述第一倾斜面由上至下逐渐朝远离所述载台模组(2)的一侧倾斜设置。
5.根据权利要求1所述的涂布治具，其特征在于，所述第二定位模组(3)通过调节组件滑动连接在所述第一定位模组(1)上；所述调节组件设置在所述第一定位模组(1)上，所述调节组件的输出端与所述第二定位模组(3)连接，适于驱动所述第二定位模组(3)沿所述开槽(101)的长度方向往复移动。
6.根据权利要求5所述的涂布治具，其特征在于，所述调节组件包括驱动件(305)、底座(306)和滑块(307)；所述底座(306)设置在所述第一定位模组(1)上，所述滑块(307)沿所述开槽(101)的长度方向滑动连接在所述底座(306)上；所述驱动件(305)设置在所述底座(306)上，且所述驱动件(305)的输出端与所述滑块(307)连接，适于驱动所述滑块(307)沿所述开槽(101)的长度方向往复滑动；所述第二定位模组(3)设置在所述滑块(307)上。<...
【专利技术属性】
技术研发人员：郭启好，柴进，彭建林，
申请(专利权)人：深圳市曼恩斯特科技股份有限公司，
类型：新型
国别省市：
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