【技术实现步骤摘要】
本技术涉及吸气剂，特别涉及一种新型柱状吸气剂。
技术介绍
1、吸气剂是指能有效地吸着某些气体分子的制剂或装置的通称，用来获得或维持真空以及纯化气体等。吸气剂有粉状、碟状、带状、管状、环状、杯状、柱状等多种形式；吸气剂大量应用于真空电子器件中，为器件创造了良好的工作环境，稳定了器件的特性参量，对器件的性能及使用寿命有重要的影响:
2、①短时间内提高真空器件的真空度，在器件的排气封离后和老炼过程中消除残余的和重新释放的气体,有利于缩短排气时间；
3、②在器件的储存和工作期间维持一定的真空度；
4、③吸收器件在启动和反常工作时的突发性放气，有效地保护阴极等敏感元件。
5、现有技术中，柱状吸气剂主要靠柱状表面镀膜进行气体吸附，即柱状吸气剂的表面积的大小决定其吸附性能的强弱；某些情况下，圆柱状吸气剂的表面有限，不能完全吸附器件中的气体，如果需要增加柱状吸气剂的吸附性能，就要增加柱状吸气剂的直径，从而导致柱状吸气剂的体积变大，但是往往留给安装柱状吸气剂的安装空间是有限的，如何在同样的直径下提高柱状吸气的吸附性能是亟需要解决的问题。
技术实现思路
1、本技术目的是：提供一种新型柱状吸气剂，以解决现有技术中，如何在同样的直径下提高柱状吸气的吸附性能的问题。
2、本技术的技术方案是：一种新型柱状吸气剂，载体，载体上涂覆有气体吸附材料，对载体进行操作可激活气体吸附材料对气体的吸附；所述载体包括柱状的涂覆部、位于涂覆部轴向两端的安装部，柱状的所
3、优选的，所述涂覆部的侧表面为齿轮状，涂覆部齿轮状的侧表面的齿宽方向平行于涂覆部的轴向。
4、优选的，所述涂覆部的侧表面为螺旋状，涂覆部螺旋状的侧表面的螺旋中心线平行于涂覆部的轴向。
5、优选的，所述涂覆部的侧表面为波浪状，涂覆部波浪状的侧表面的波浪传播方向沿涂覆部的周向。
6、优选的，所述涂覆部的侧表面为波浪状，涂覆部波浪状的侧表面的波浪传播方向沿涂覆部的轴向。
7、优选的，所述涂覆部的侧表面为锯齿状，涂覆部的锯齿状的侧表面的延伸方向沿涂覆部的周向。
8、优选的，所述涂覆部的侧表面为锯齿状，涂覆部的锯齿状的侧表面的延伸方向沿涂覆部的轴向。
9、优选的，所述涂覆部的侧表面为圆形锯齿状，涂覆部的圆形锯齿状的侧表面的延伸方向沿涂覆部的周向。
10、优选的，所述涂覆部的侧表面为圆形锯齿状，涂覆部的圆形锯齿状的侧表面的延伸方向沿涂覆部的轴向。
11、优选的，所述载体为金属载体。
12、与现有技术相比，本技术的优点是：
13、本技术中的一种新型柱状吸气剂，涂覆部的侧表面为齿轮状、螺旋状、波浪状、锯齿状、圆形锯齿状等，相对于现有技术的规整的圆柱状的柱状吸气剂，在同样的直径下增大了柱状吸气剂的表面积，增强了柱状吸气剂对气体的吸附能力。
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1.一种新型柱状吸气剂，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的一种新型柱状吸气剂，其特征在于：所述涂覆部的侧表面为齿轮状，涂覆部齿轮状的侧表面的齿宽方向平行于涂覆部的轴向。
3.根据权利要求1所述的一种新型柱状吸气剂，其特征在于：所述涂覆部的侧表面为螺旋状，涂覆部螺旋状的侧表面的螺旋中心线平行于涂覆部的轴向。
4.根据权利要求1所述的一种新型柱状吸气剂，其特征在于：所述涂覆部的侧表面为波浪状，涂覆部波浪状的侧表面的波浪传播方向沿涂覆部的周向。
5.根据权利要求1所述的一种新型柱状吸气剂，其特征在于：所述涂覆部的侧表面为波浪状，涂覆部波浪状的侧表面的波浪传播方向沿涂覆部的轴向。
6.根据权利要求1所述的一种新型柱状吸气剂，其特征在于：所述涂覆部的侧表面为锯齿状，涂覆部的锯齿状的侧表面的延伸方向沿涂覆部的周向。
7.根据权利要求1所述的一种新型柱状吸气剂，其特征在于：所述涂覆部的侧表面为锯齿状，涂覆部的锯齿状的侧表面的延伸方向沿涂覆部的轴向。
8.根据权利要求1所述的一种新型柱状吸气剂，其特征在
9.根据权利要求1所述的一种新型柱状吸气剂，其特征在于：所述涂覆部的侧表面为圆形锯齿状，涂覆部的圆形锯齿状的侧表面的延伸方向沿涂覆部的轴向。
10.根据权利要求1所述的一种新型柱状吸气剂，其特征在于：所述载体为金属载体。
...【技术特征摘要】
1.一种新型柱状吸气剂，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的一种新型柱状吸气剂，其特征在于：所述涂覆部的侧表面为齿轮状，涂覆部齿轮状的侧表面的齿宽方向平行于涂覆部的轴向。
3.根据权利要求1所述的一种新型柱状吸气剂，其特征在于：所述涂覆部的侧表面为螺旋状，涂覆部螺旋状的侧表面的螺旋中心线平行于涂覆部的轴向。
4.根据权利要求1所述的一种新型柱状吸气剂，其特征在于：所述涂覆部的侧表面为波浪状，涂覆部波浪状的侧表面的波浪传播方向沿涂覆部的周向。
5.根据权利要求1所述的一种新型柱状吸气剂，其特征在于：所述涂覆部的侧表面为波浪状，涂覆部波浪状的侧表面的波浪传播方向沿涂覆部的轴向。
6.根据权利要...
【专利技术属性】
技术研发人员：谢维，
申请(专利权)人：江苏鼎茂半导体有限公司，
类型：新型
国别省市：
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