System.ArgumentOutOfRangeException: 索引和长度必须引用该字符串内的位置。 参数名: length 在 System.String.Substring(Int32 startIndex, Int32 length) 在 zhuanliShow.Bind() 一种耐等离子刻蚀涂层用氧化钇热喷涂粉的制备方法技术_技高网

一种耐等离子刻蚀涂层用氧化钇热喷涂粉的制备方法技术

技术编号:44938741 阅读:4 留言:0更新日期:2025-04-12 01:15
本发明专利技术涉及热喷涂技术领域,公开了一种耐等离子刻蚀涂层用氧化钇热喷涂粉的制备方法,包括以下步骤:步骤一,原料准备:准备所需的原料,包括氧化钇粉末、碳纳米管、氧化铝纳米颗粒以及稳定化剂、增粘剂、抗聚团剂和热稳定剂;步骤二,材料混合:将氧化钇粉末、碳纳米管、氧化铝纳米颗粒和有机树脂按照所需比例混合均匀;步骤三,粉末处理:根据需要,对混合的粉末进行处理,以确保粉末的均匀性和适当的颗粒大小;步骤四,溶剂处理:在溶剂中将混合的粉末进行悬浮处理,并添加所需的表面活性剂以改善分散性。通过添加碳纳米管和氧化铝等抗刻蚀材料,涂层可表现出更高的抗等离子刻蚀性能,因此在高温等离子体环境中更加耐用。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及热喷涂,具体为一种耐等离子刻蚀涂层用氧化钇热喷涂粉的制备方法


技术介绍

1、等离子刻蚀是一种常用的表面处理技术,需要能够耐受高温、酸性和碱性等极端环境的保护涂层。氧化钇热喷涂涂层具有耐高温性能、化学稳定性、绝缘性能和机械强度等优点,使其成为耐等离子刻蚀涂层的理想选择。氧化钇在航空、航天、陶瓷领域的应用也显示出其优越的性能,主要用于制造微波用磁性材料和军工用重要材料,也用作光学玻璃、陶瓷材料添加剂、大屏幕电视用高亮度荧光粉和其他显像管涂料。还用于制造高温强耐热合金、飞机喷嘴等;近年来,氧化钇粉末在电子行业、半导体行业也得到更多的应用,尤其可以作为半导体刻蚀机防止等离子腐蚀、射线腐蚀用喷涂材料。

2、现有的耐等离子刻蚀涂层用氧化钇热喷涂粉,由于粉末制备过程中的不均匀混合、反应条件控制不当或原材料质量不稳定等原因,会导致氧化钇热喷涂粉颗粒结构和成分分布会影响涂层的均匀性和性能,同时现有的所使用的氧化钇热喷涂粉常采用单一,或者少量材料制成,虽具有一定的效果,但是在高温等离子体的环境下,会出现氧化钇热喷涂粉耐等离子刻蚀性能降低,影响到氧化钇热喷涂粉的正常使用,使用十分不方便,为此提出一种耐等离子刻蚀涂层用氧化钇热喷涂粉的制备方法来解决上述问题。


技术实现思路

1、针对现有技术的不足,本专利技术提供了一种耐等离子刻蚀涂层用氧化钇热喷涂粉的制备方法,解决了现有的氧化钇热喷涂粉在使用时,用以出现均匀性较差以及在高温等离子体的环境下耐等离子刻蚀性能降低的问题。

>2、为实现以上目的,本专利技术通过以下技术方案予以实现:一种耐等离子刻蚀涂层用氧化钇热喷涂粉,包括氧化钇粉末65~90份,碳纳米管5~10份,氧化铝纳米颗粒3~8份,有机树脂1~6份,稳定化剂1~3份,增粘剂1~2份,抗聚团剂2~8份,热稳定剂1~3份。

3、优选的,所述稳定化剂可为氧化镧、氧化钆中的任一种;所述增粘剂可为聚丙烯酰胺、聚乙烯醇中的任一种;所述抗聚团剂可为二氧化硅颗粒、氧化铝颗粒中的任一种,所述热稳定剂可为氧化铝、硅酸钙、硅酸镁和稀土元素化合物中的任一种。

4、优选的,所述氧化钇热喷涂粉配方中还包括硅油或二甲基亚砜,用于对氧化钇热喷涂粉的流动性进行调节,且含有3份。

5、一种耐等离子刻蚀涂层用氧化钇热喷涂粉的制备方法,包括以下步骤:

6、步骤一,原料准备:准备所需的原料,包括氧化钇粉末、碳纳米管、氧化铝纳米颗粒以及稳定化剂、增粘剂、抗聚团剂和热稳定剂;

7、步骤二,材料混合:将氧化钇粉末、碳纳米管、氧化铝纳米颗粒和有机树脂按照所需比例混合均匀;

8、步骤三,粉末处理:根据需要,对混合的粉末进行处理,以确保粉末的均匀性和适当的颗粒大小;

9、步骤四,溶剂处理:在溶剂中将混合的粉末进行悬浮处理,并添加所需的表面活性剂以改善分散性;

10、步骤五,干燥:将悬浮的粉末溶剂进行适当的干燥处理;

11、步骤六,筛分和粉碎:对干燥后的粉末进行筛分和粉碎处理,以获得所需的颗粒大小和均匀性。

12、优选的,所述步骤二后,对材料进行晶体结构调控,通过控制热处理温度和气氛,以调整氧化钇的晶体结构,影响其热稳定性和机械性能。

13、优选的,所述晶体结构调控所选温度范围为:500℃~850℃,持续2小时。

14、优选的,所述步骤二后,对混合后的材料添加稳定化剂、增粘剂、抗聚团剂和热稳定剂,并再次进行混合。

15、优选的,所述步骤三后,对混合后的材料进行粉末粒度控制,采用高效的球磨机械和筛网,以控制氧化钇粉末的粒度分布。

16、优选的,所述步骤三后,所得到的材料颗粒直径为15~40μm。

17、优选的,所述步骤六后,所得到的氧化钇热喷涂粉的颗粒直径为70~80μm。

18、本专利技术提供了一种耐等离子刻蚀涂层用氧化钇热喷涂粉的制备方法。具备以下有益效果:

19、1、本专利技术通过添加碳纳米管和氧化铝等抗刻蚀材料,涂层可表现出更高的抗等离子刻蚀性能,因此在高温等离子体环境中更加耐用。

20、2、本专利技术通过添加热稳定剂和稳定化剂可以提高粉末的热稳定性,使涂层在高温条件下能够保持结构稳定性,减少晶体结构的变化。

21、3、本专利技术通过使用增粘剂和表面活性剂可以改善粉末的粘附性,有助于提高涂层与基底的附着力。

22、4、本专利技术通过使用抗聚团剂可以防止粉末在储存和运输中发生团块,保持了粉末的均匀性。

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【技术保护点】

1.一种耐等离子刻蚀涂层用氧化钇热喷涂粉,其特征在于,包括氧化钇粉末65~90份,碳纳米管5~10份,氧化铝纳米颗粒3~8份,有机树脂1~6份,稳定化剂1~3份,增粘剂1~2份,抗聚团剂2~8份,热稳定剂1~3份。

2.根据权利要求1所述的一种耐等离子刻蚀涂层用氧化钇热喷涂粉,其特征在于,所述稳定化剂可为氧化镧、氧化钆中的任一种;所述增粘剂可为聚丙烯酰胺、聚乙烯醇中的任一种;所述抗聚团剂可为二氧化硅颗粒、氧化铝颗粒中的任一种,所述热稳定剂可为氧化铝、硅酸钙、硅酸镁和稀土元素化合物中的任一种。

3.根据权利要求1所述的一种耐等离子刻蚀涂层用氧化钇热喷涂粉,其特征在于,所述氧化钇热喷涂粉配方中还包括硅油或二甲基亚砜,用于对氧化钇热喷涂粉的流动性进行调节,且含有3份。

4.一种耐等离子刻蚀涂层用氧化钇热喷涂粉的制备方法,其特征在于,使用权利要求1~3任一项所述的一种耐等离子刻蚀涂层用氧化钇热喷涂粉,包括以下步骤:

5.根据权利要求4所述的一种耐等离子刻蚀涂层用氧化钇热喷涂粉的制备方法,其特征在于,所述步骤二后,对材料进行晶体结构调控,通过控制热处理温度和气氛,以调整氧化钇的晶体结构,影响其热稳定性和机械性能。

6.根据权利要求5所述的一种耐等离子刻蚀涂层用氧化钇热喷涂粉的制备方法,其特征在于,所述晶体结构调控所选温度范围为:500℃~850℃,持续2小时。

7.根据权利要求4所述的一种耐等离子刻蚀涂层用氧化钇热喷涂粉的制备方法,其特征在于,所述步骤二后,对混合后的材料添加稳定化剂、增粘剂、抗聚团剂和热稳定剂,并再次进行混合。

8.根据权利要求4所述的一种耐等离子刻蚀涂层用氧化钇热喷涂粉的制备方法,其特征在于,所述步骤三后,对混合后的材料进行粉末粒度控制,采用高效的球磨机械和筛网,以控制氧化钇粉末的粒度分布。

9.根据权利要求4所述的一种耐等离子刻蚀涂层用氧化钇热喷涂粉的制备方法,其特征在于,所述步骤三后,所得到的材料颗粒直径为15~40μm。

10.根据权利要求4所述的一种耐等离子刻蚀涂层用氧化钇热喷涂粉的制备方法,其特征在于,所述步骤六后,所得到的氧化钇热喷涂粉的颗粒直径为70~80μm。

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【技术特征摘要】

1.一种耐等离子刻蚀涂层用氧化钇热喷涂粉,其特征在于,包括氧化钇粉末65~90份,碳纳米管5~10份,氧化铝纳米颗粒3~8份,有机树脂1~6份,稳定化剂1~3份,增粘剂1~2份,抗聚团剂2~8份,热稳定剂1~3份。

2.根据权利要求1所述的一种耐等离子刻蚀涂层用氧化钇热喷涂粉,其特征在于,所述稳定化剂可为氧化镧、氧化钆中的任一种;所述增粘剂可为聚丙烯酰胺、聚乙烯醇中的任一种;所述抗聚团剂可为二氧化硅颗粒、氧化铝颗粒中的任一种,所述热稳定剂可为氧化铝、硅酸钙、硅酸镁和稀土元素化合物中的任一种。

3.根据权利要求1所述的一种耐等离子刻蚀涂层用氧化钇热喷涂粉,其特征在于,所述氧化钇热喷涂粉配方中还包括硅油或二甲基亚砜,用于对氧化钇热喷涂粉的流动性进行调节,且含有3份。

4.一种耐等离子刻蚀涂层用氧化钇热喷涂粉的制备方法,其特征在于,使用权利要求1~3任一项所述的一种耐等离子刻蚀涂层用氧化钇热喷涂粉,包括以下步骤:

5.根据权利要求4所述的一种耐等离子刻蚀涂层用氧化钇热喷涂粉的制备方法,其特征在于,所述步骤二...

【专利技术属性】
技术研发人员:刘菁宇
申请(专利权)人:锦州市金江喷涂材料有限公司
类型:发明
国别省市:

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