【技术实现步骤摘要】
本申请涉及衍射光栅，尤其涉及一种光栅、光栅制备方法、光波导及近眼显示设备。
技术介绍
1、在近眼显示设备中，大多通过设置衍射光波导来实现信号光的定向传播；衍射光波导的核心元件为衍射光栅，但在相关技术中，为了便于批量制造衍射光波导，均采用同一种材料制造表面浮雕光栅及全息光栅，限制了光栅的衍射效果。而在相关技术中，通过多种材料堆叠形成的表面浮雕光栅能够在一定程度上提升衍射效果，但这种表面浮雕光栅大多是通过玻璃等无机材料堆叠制备得到的，无机材料较为坚硬，基本只能通过刻蚀的工艺来制备，制备工艺较复杂、制备效率低且成品良率较低。
技术实现思路
1、本申请提供一种光栅、光栅制备方法、光波导及近眼显示设备，旨在提升光栅的衍射效果，并降低光栅制备的复杂度，以提升光栅的制备效率和成品良率。
2、第一方面，本申请提供一种光栅，所述光栅包括：
3、基底；
4、衍射层，所述衍射层包括至少两个子层，所述子层堆叠设置在所述基底的表面，且所述子层由有机物和/或卤化物制备而成。
5、第二方面，本申请还提供一种光栅制备方法，所述光栅制备方法包括：
6、提供基底；
7、在所述基底的表面上设置待制备层，所述待制备层包括至少两个堆叠设置的待制备子层，所述待制备子层包括有机物和/或卤化物；
8、通过压印工艺对所述待制备层进行压印处理，和/或通过全息曝光工艺对所述待制备层进行曝光处理，得到衍射层。
9、第三方面，本申请还提供一种光
10、第四方面，本申请还提供一种近眼显示设备，所述近眼显示设备包括如权利要求12所述的光波导。
11、本申请提供一种光栅、光栅制备方法、光波导及近眼显示设备，本申请提供光栅中的衍射层包括至少两个子层，且各个子层由有机物和/或卤化物制备而成，通过多个子层的堆叠设置得到的光栅，能够基于不同的子层，对入射光束的能量和/或光线衍射方向进行调剂，从而有效提了升光栅的衍射效果，且通过有机物和/或卤化物制备得到衍射层，能够降低光栅制备工艺的复杂度，从而提升光栅的制备效率和成品良率。
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1.一种光栅，其特征在于，所述光栅包括：
2.如权利要求1所述的光栅，其特征在于，所述子层包括压印胶层、树脂镀膜层、液晶层及卤化物层中的至少一种。
3.如权利要求2所述的光栅，其特征在于，所述压印胶层包括丙烯酸酯、环氧树脂和金属氧化物中的至少一种；和/或
4.如权利要求1所述的光栅，其特征在于，所述子层形成浮雕结构层和/或全息层。
5.如权利要求1-4任一项所述的光栅，其特征在于，所述至少两个子层包括第一子层和第二子层，所述第一子层设置在所述基底的表面，所述第二子层堆叠设置在所述第一子层的表面；所述第一子层由所述有机物或所述卤化物制备而成，所述第二子层由所述有机物或所述卤化物制备而成。
6.如权利要求5所述的光栅，其特征在于，所述第一子层形成所述全息层，所述第二子层形成所述浮雕结构层或所述全息层；或者，所述第一子层和所述第二子层均形成所述浮雕结构层，且所述第一子层的狭缝在所述基底上的投影与所述第二子层的狭缝在所述基底上的投影重叠。
7.如权利要求1-4任一项所述的光栅，其特征在于，在至少一个所述子层形成浮雕结
8.如权利要求7所述的光栅，其特征在于，所述填充层的厚度大于或等于所述浮雕结构层的厚度。
9.一种光栅制备方法，其特征在于，所述光栅制备方法包括：
10.如权利要求9所述的光栅制备方法，其特征在于，通过涂布和/或镀膜堆叠设置所述待制备子层。
11.如权利要求9所述的光栅制备方法，其特征在于，所述涂布包括以下至少一种：提拉法、淋涂、刮涂和旋涂；所述镀膜包括以下至少一种：溅射、蒸镀、沉积和溶胶-凝胶。
12.如权利要求9-11任一项所述的光栅制备方法，其特征在于，通过单次压印对至少一个所述待制备子层进行压印处理，形成浮雕结构层；和/或，通过单次全息曝光对至少一个所述待制备子层进行曝光处理，形成全息层。
13.一种光波导，其特征在于，所述光波导包括波导基底和光栅，所述光栅设置在所述波导基底的至少一个表面上，所述光栅为如权利要求1-8任一项所述的光栅。
14.一种近眼显示设备，其特征在于，所述近眼显示设备包括如权利要求13所述的光波导。
...【技术特征摘要】
1.一种光栅，其特征在于，所述光栅包括：
2.如权利要求1所述的光栅，其特征在于，所述子层包括压印胶层、树脂镀膜层、液晶层及卤化物层中的至少一种。
3.如权利要求2所述的光栅，其特征在于，所述压印胶层包括丙烯酸酯、环氧树脂和金属氧化物中的至少一种；和/或
4.如权利要求1所述的光栅，其特征在于，所述子层形成浮雕结构层和/或全息层。
5.如权利要求1-4任一项所述的光栅，其特征在于，所述至少两个子层包括第一子层和第二子层，所述第一子层设置在所述基底的表面，所述第二子层堆叠设置在所述第一子层的表面；所述第一子层由所述有机物或所述卤化物制备而成，所述第二子层由所述有机物或所述卤化物制备而成。
6.如权利要求5所述的光栅，其特征在于，所述第一子层形成所述全息层，所述第二子层形成所述浮雕结构层或所述全息层；或者，所述第一子层和所述第二子层均形成所述浮雕结构层，且所述第一子层的狭缝在所述基底上的投影与所述第二子层的狭缝在所述基底上的投影重叠。
7.如权利要求1-4任一项所述的光栅，其特征在于，在至少一个所述子层形成浮雕结构层的...
【专利技术属性】
技术研发人员：邵陈荻，邱晓斌，赵建新，周兴，王兆民，
申请(专利权)人：珠海莫界科技有限公司，
类型：发明
国别省市：
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