【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及磁控溅射镀膜，具体涉及一种等离子体发生器及磁控溅射镀膜机。
技术介绍
1、等离子发生器是磁控溅射镀膜设备中的核心装置，其中，采用气体放电法产生等离子体的等离子发生器主要包括具有等离子体发生腔的壳体、安装在等离子体发生腔内的放电组件和用于向发生腔通入气体的供气组件，工作时通过供气组件将多种气体混合后的混合气(例如，ar主气混合氧气、氮气、乙炔和甲烷等气体中的一种以上)通入等离子体发生腔，在放电组件的作用下产生等离子体。现有技术中，等离子体发生腔一般都仅设置一个进气口与供气组件相连将混合气通入等离子体发生腔，存在靠近进气口位置区域的混合气的气氛浓度高，远离进气口位置区域的混合气的气氛浓度低，等离子体发生腔内混合气的气氛浓度均匀性较差的现象，这会导致等离子体发生腔内不同位置区域的等离子体的能量密度存在差异，从而会影响镀膜质量，尤其是在等离子体发生腔的尺寸较大时，该问题尤为突出。为弱化该问题，也有在等离子体发生腔不同位置区域设置多个进气口来通入混合气的做法，但现有技术都是将多个进气口直接连接供气组件，供气组件供给的混合气直接通入到各个进气口，无法对每个进气口的进气量进行调节，虽然能够在一定程度上改善等离子体发生腔内混合气的气氛浓度均匀性，但提升有限，仍然无法有效解决等离子体发生腔内不同位置区域的等离子体的能量密度存在差异的问题。
技术实现思路
1、本专利技术要解决的技术问题是克服现有技术存在的不足，提供一种可提高等离子体的能量密度均匀一致性、结构简单、成本低、易于实施应用的等
2、为解决上述技术问题，本专利技术采用以下技术方案：
3、一种等离子体发生器，包括具有等离子体发生腔的壳体和用于向所述等离子体发生腔内通入气体的供气组件，所述等离子体发生腔设有多个进气口，所述供气组件设有用于分别通入两种不同气体的第一气源和第二气源，每个进气口均连通所述第一气源和第二气源，所述等离子体发生器对应至少一个进气口设有用于调节至少一种气体进气量的调节阀。
4、作为上述技术方案的进一步改进：
5、所述等离子体发生腔内设有一块布气板，多个进气口设于所述布气板上，各进气口通过设于所述布气板上的导气通道与第一气源和第二气源连通。
6、所述布气板设有多条导气通道，至少一条导气通道同时连通两个以上进气口。
7、所述调节阀包括调节螺钉，所述调节螺钉螺纹配合连接在布气板上并能通过旋拧调整伸入对应进气口所连通的导气通道内的长度。
8、每个进气口分别通过管路与第一气源和第二气源连通。
9、所述调节阀设于对应进气口所连接的管路上。
10、所述等离子体发生腔为长条形腔体，多个进气口沿长条形腔体的长度方向依次间隔布置。
11、所述长条形腔体分为沿长度方向依次相连的多个布气段，每个布气段设有一个以上进气口，每个布气段对应设有一个同时调节该布气段所有进气口至少一种气体进气量的调节阀。
12、一种磁控溅射镀膜机，所述磁控溅射镀膜机设有上述的等离子体发生器。
13、与现有技术相比，本专利技术的优点在于：
14、本专利技术的等离子体发生器的等离子体发生腔设有多个进气口，供气组件设有分别通入两种不同气体的第一气源和第二气源，同时对应至少一个进气口设有用于调节至少一种的气体进气量的调节阀，可通过第一气源和第二气源将用于产生等离子体的混合气中的不同气体分成两种气体分开通至各进气口，利用调节阀调节进气口的至少一种气体的进气量，可调节该进气口通入到等离子体发生腔内混合气的混气比例，从而调节该进气口位置区域处混合气的混气比例，通过调节混合气的混气比例可调节该进气口位置区域处产生的等离子体的能量密度，使等离子体发生腔内不同区域位置处产生的等离子体的能量密度一致，整个等离子体发生腔内产生的等离子体的能量密度均匀一致，能够提高镀膜质量。该等离子体发生器具有结构简单、成本低、易于实施应用的优点。
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1.一种等离子体发生器，包括具有等离子体发生腔(11)的壳体(1)和用于向所述等离子体发生腔(11)内通入气体的供气组件，其特征在于：所述等离子体发生腔(11)设有多个进气口(12)，所述供气组件设有用于分别通入两种不同气体的第一气源(2)和第二气源(3)，每个进气口(12)均连通所述第一气源(2)和第二气源(3)，所述等离子体发生器对应至少一个进气口(12)设有用于调节至少一种气体进气量的调节阀(4)。
2.根据权利要求1所述的等离子体发生器，其特征在于：所述等离子体发生腔(11)内设有一块布气板(5)，多个进气口(12)设于所述布气板(5)上，各进气口(12)通过设于所述布气板(5)上的导气通道(51)与第一气源(2)和第二气源(3)连通。
3.根据权利要求2所述的等离子体发生器，其特征在于：所述布气板(5)设有多条导气通道(51)，至少一条导气通道(51)同时连通两个以上进气口(12)。
4.根据权利要求2所述的等离子体发生器，其特征在于：所述调节阀(4)包括调节螺钉，所述调节螺钉螺纹配合连接在布气板(5)上并能通过旋拧调整伸入对应进气口
5.根据权利要求1所述的等离子体发生器，其特征在于：每个进气口(12)分别通过管路与第一气源(2)和第二气源(3)连通。
6.根据权利要求5所述的等离子体发生器，其特征在于：所述调节阀(4)设于对应进气口(12)所连接的管路上。
7.根据权利要求1至6中任一项所述的等离子体发生器，其特征在于：所述等离子体发生腔(11)为长条形腔体，多个进气口(12)沿长条形腔体的长度方向依次间隔布置。
8.根据权利要求7所述的等离子体发生器，其特征在于：所述长条形腔体分为沿长度方向依次相连的多个布气段，每个布气段设有一个以上进气口(12)，每个布气段对应设有一个同时调节该布气段所有进气口(12)至少一种气体进气量的调节阀(4)。
9.一种磁控溅射镀膜机，其特征在于：所述磁控溅射镀膜机设有权利要求1至8中任一项所述的等离子体发生器。
...【技术特征摘要】
1.一种等离子体发生器，包括具有等离子体发生腔(11)的壳体(1)和用于向所述等离子体发生腔(11)内通入气体的供气组件，其特征在于：所述等离子体发生腔(11)设有多个进气口(12)，所述供气组件设有用于分别通入两种不同气体的第一气源(2)和第二气源(3)，每个进气口(12)均连通所述第一气源(2)和第二气源(3)，所述等离子体发生器对应至少一个进气口(12)设有用于调节至少一种气体进气量的调节阀(4)。
2.根据权利要求1所述的等离子体发生器，其特征在于：所述等离子体发生腔(11)内设有一块布气板(5)，多个进气口(12)设于所述布气板(5)上，各进气口(12)通过设于所述布气板(5)上的导气通道(51)与第一气源(2)和第二气源(3)连通。
3.根据权利要求2所述的等离子体发生器，其特征在于：所述布气板(5)设有多条导气通道(51)，至少一条导气通道(51)同时连通两个以上进气口(12)。
4.根据权利要求2所述的等离子体发生器，其特征在于：所述调节阀(4)包...
【专利技术属性】
技术研发人员：黄乐，祝海生，力家东，唐莲，徐璐，
申请(专利权)人：湘潭宏大真空技术股份有限公司，
类型：发明
国别省市：
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