硅片沥水装置和清洗设备制造方法及图纸

本申请公开了一种硅片沥水装置和清洗设备，硅片沥水装置包括沿水平方向布置的机械手横臂；装设于机械手横臂下方的第一可移动挂板、第二可移动挂板和第三可移动挂板，其中，第二可移动挂板设于第一可移动挂板和第三可移动挂板之间；与第二可移动挂板连接的升降调节组件，升降调节组件驱动第二可移动挂板沿竖直方向移动；分别与第一可移动挂板和第三可移动挂板连接的水平调节组件，水平调节组件驱动第一可移动挂板和/或第三可移动挂板沿水平方向调节。本申请有效减短了各个工艺槽之间来回移栽的时间，提升了设备利用率，同时可以兼容不同规格的硅片载具。

【技术实现步骤摘要】

本申请涉及硅片清洗，尤其是指一种硅片沥水装置和清洗设备。

技术介绍

1、在进行光伏硅片生产时，硅片加工后的清洗等工序均需要将硅片摆放在硅片载具中，然后通过机械手放入药水工艺槽中完成硅片加工后的清洗。

2、但是在现有技术中，现有机械手勾取硅片载具后需要悬停来完成工艺槽试剂的自然滴落，耗时比较长，并且自然滴落不干净容易造成机械手在移动过程中滴落至槽盖板上，腐蚀槽盖板，减少槽盖板寿命，同时自然滴落不干净容易造成在机械手移动至下一工艺槽后污染槽内试剂，造成试剂使用寿命减短，机械手在移动过程中，试剂挥发造成整体设备内环境污染，自然滴落不干净容易造成工序时间变长。

技术实现思路

1、为了解决现有技术的不足，本申请的目的在于提供一种硅片沥水装置和清洗设备。

2、为实现上述目的，本申请采用如下的技术方案：

3、第一方面，一种硅片沥水装置，该装置包括沿水平方向布置的机械手横臂；装设于机械手横臂下方的第一可移动挂板、第二可移动挂板和第三可移动挂板，其中，第二可移动挂板设于第一可移动挂板和第三可移动挂板之间；与第二可移动挂板连接的升降调节组件，升降调节组件驱动第二可移动挂板沿竖直方向移动，以调节第二可移动挂板的高度；分别与第一可移动挂板和第三可移动挂板连接的水平调节组件，水平调节组件驱动第一可移动挂板和/或第三可移动挂板沿水平方向移动，以调节第二可移动挂板与第一可移动挂板之间的距离，和/或调节第三可移动挂板与第一可移动挂板之间的距离。

4、进一步地，升降调节组件包括导向轴以及导向轴连接板，导向轴的一端与机械手横臂固定连接，另一端与导向轴连接板固定连接。

5、进一步地，升降调节组件还包括气缸安装板以及沿竖直方向伸缩的气缸，气缸通过气缸安装板装设于机械手横臂。

6、进一步地，导向轴沿竖直方向穿设于气缸安装板，气缸安装板具有沿竖直方向相对导向轴移动的活动自由度。

7、进一步地，水平调节组件包括第一滑块和第一滑动轨道，第一滑块具有沿水平方向相对第一滑动轨道滑动的活动自由度，第一滑块与第一可移动挂板连接。水平调节组件还包括第二滑块和第二滑动轨道，第二滑块具有沿水平方向相对第二滑动轨道滑动的活动自由度，第二滑块与第三可移动挂板连接。

8、进一步地，水平调节组件包括第一滑块夹和第二滑块夹，第一滑块夹装设于第一滑块上，第一滑块夹根据硅片载具大小限制第一滑块在水平方向上移动；第二滑块夹装设于第二滑块上，第二滑块夹根据硅片载具大小限制第二滑块在水平方向上移动。

9、进一步地，机械手横臂包括多个挂孔，所述机械手横臂通过多个挂孔与所述第一可移动挂板以及第三可移动挂板连接。

10、进一步地，所述第一可移动挂板设置有第一传感器，第三可移动挂板设置有第二传感器，硅片沥水装置还装设有硅片载具，第一传感器用于检测第一可移动挂板是否连接硅片载具，第二传感器用于检测第三可移动挂板是否连接硅片载具。

11、第二方面，本申请还提供了一种清洗设备，包括上述第一方面中的硅片沥水装置，清洗设备还包括：支撑架，支撑架与硅片沥水装置连接；若干个硅片载具，至少部分硅片载具设于第一可移动挂板与第二可移动挂板之间，至少部分硅片载具设于第二可移动挂板与第三可移动挂板之间；工艺槽，工艺槽设置于硅片沥水装置的下方，用于盛放清洗液；其中，所述硅片沥水装置用于夹持若干个硅片载具进入或者离开工艺槽。

12、进一步地，清洗设备还包括与机械手横臂传动连接的驱动电机，驱动电机装设于支撑架，并驱动机械手横臂沿支撑架的延伸方向移动。

13、与现有技术相比，本申请提出的升降调节组件可以在硅片沥水装置上升过程中，驱动第二可移动挂板沿竖直方向移动，使得硅片倾斜完成清洗液的滴落，有效减短了硅片在沥水过程中硅片载具的移动时间，提升了设备利用率。同时，本申请提出的水平调节组件可以调节第二可移动挂板与第一可移动挂板之间的距离，或者调节第二可移动挂板与第三可移动挂板之间的距离，使得任意相邻两个可移动挂板之间可以兼容不同硅片载具规格，增大了硅片沥水装置的兼容性。

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【技术保护点】

1.一种硅片沥水装置，其特征在于，所述硅片沥水装置包括：

2.根据权利要求1所述的硅片沥水装置，其特征在于，

3.根据权利要求2所述的硅片沥水装置，其特征在于，

4.根据权利要求3所述的硅片沥水装置，其特征在于，

5.根据权利要求1所述的硅片沥水装置，其特征在于，

6.根据权利要求1所述的硅片沥水装置，其特征在于，

7.根据权利要求1所述的硅片沥水装置，其特征在于，

8.根据权利要求1所述的硅片沥水装置，其特征在于，

9.一种清洗设备，其特征在于，所述清洗设备包括：

10.根据权利要求9所述的清洗设备，其特征在于，

【技术特征摘要】

1.一种硅片沥水装置，其特征在于，所述硅片沥水装置包括：

2.根据权利要求1所述的硅片沥水装置，其特征在于，

3.根据权利要求2所述的硅片沥水装置，其特征在于，

4.根据权利要求3所述的硅片沥水装置，其特征在于，

5.根据权利要求1所述的硅片沥水装置，其特征在于，<...

【专利技术属性】
技术研发人员：朱亮，谢龙辉，陈雷，周云，曾淘，李晓磊，刘鹏飞，余效銮，
申请(专利权)人：浙江求是半导体设备有限公司，
类型：新型
国别省市：