【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及热处理控制，具体涉及一种用于锻件的调质处理装置及方法。
技术介绍
1、锻件的调质处理中淬火阶段主要包括加热阶段、保温阶段和冷却阶段，其中加热阶段需要对锻件的加热速率进行精确掌控，若加热速度过快，会导致锻件产生过大的热应力、甚至出现裂纹；若加热速度过慢，容易形成晶粒粗化，晶粒边界不断迁移合并，进而影响材料的性能。
2、现有技术（如方案cn113701898b中的一种锻件温度检测装置）通过热电偶传感器测量锻件的温度，进而通过计算机等控制系统自动控制加热炉的加热速度，但由于热电偶传感器只能测量到局部的温度，因而需要预先根据经验设定阶梯式的加热曲线，使得锻件完全均匀加热。这种方式下，由于场景中电磁辐射、光照辐射等异常影响对热电偶传感器所测量得到的温度值产生干扰，使得无法有效实现锻件的均匀升温效果，锻件调质的质量较差。
技术实现思路
1、为了解决相关技术中由于场景中电磁辐射、光照辐射等异常影响对热电偶传感器所测量得到的温度值产生干扰，使得无法有效实现锻件的均匀升温效果，锻件调质的质量较差的技术问题，本专利技术提供一种用于锻件的调质处理装置及方法，所采用的技术方案具体如下：
2、本专利技术提出了一种用于锻件的调质处理方法，在锻件内不同检测深度安装热电偶传感器，其中，锻件的检测深度至少为三个，检测深度的最大值为锻件厚度的一半，所述方法包括：
3、获取加温过程中不同热电偶传感器在不同时刻下所分别采集的温度数据；根据任一热电偶传感器的相邻两个时刻下的
4、在当前时刻之前预设时间窗口内，根据相邻的两个检测深度下温度变化指标的波动变化，确定两个检测深度的中心深度的异常干扰程度；
5、在预设时间窗口内，根据相邻两个中心深度的深度差异和异常干扰程度差异，确定锻件的检测深度增大时的异常干扰衰减系数；
6、根据不同检测深度与最大检测深度的差异，以及异常干扰衰减系数，确定不同检测深度的干扰指标；在当前时刻下，根据不同检测深度的干扰指标和温度数据，确定当前时刻的温度均匀需求程度，根据所述温度均匀需求程度调整当前时刻锻件的升温速度。
7、进一步地，所述根据相邻的两个检测深度下温度变化指标的波动变化，确定两个检测深度的中心深度的异常干扰程度，包括：
8、将相邻两个检测深度的均值作为对应两个检测深度的中心深度；
9、对预设时间窗口内相邻两个检测深度下温度变化指标进行波动相似性分析，确定第一干扰影响系数；
10、将预设时间窗口内相邻两个检测深度下的温度变化指标均值的差异，作为第二干扰影响系数；
11、正向融合第一干扰影响系数和第二干扰影响系数，归一化处理得到对应中心深度的异常干扰程度。
12、进一步地，所述对预设时间窗口内相邻两个检测深度下温度变化指标进行波动相似性分析，确定第一干扰影响系数，包括：
13、基于动态时间规整算法，对相邻两个检测深度在预设时间窗口的不同时刻下的温度变化指标进行分析，确定dtw值；
14、计算预设时间窗口内每一检测深度下的温度变化指标的方差，得到变化方差；
15、将相邻两个检测深度下的变化方差的差值绝对值，作为方差系数；
16、将所述dtw值和所述方差系数的乘积，归一化处理作为第一干扰影响系数。
17、进一步地，所述根据相邻两个中心深度的深度差异和异常干扰程度差异，确定锻件的检测深度增大时的异常干扰衰减系数，包括：
18、将相邻两个中心深度的异常干扰程度差值绝对值与深度差值绝对值的比值，作为对应两个中心深度的初始衰减系数；
19、计算所有初始衰减系数的均值作为异常干扰衰减系数。
20、进一步地，将最大检测深度的干扰指标设定为预设常数，所述根据不同检测深度与最大检测深度的差异，以及异常干扰衰减系数，确定不同检测深度的干扰指标，包括：
21、将任一检测深度与最大检测深度的差值绝对值作为深度差异值；
22、将所述深度差异值与异常干扰衰减系数的乘积作为对应检测深度的干扰衰减指标；
23、计算所述干扰衰减指标与预设常数的和值，得到对应检测深度的干扰指标。
24、进一步地，根据不同检测深度的干扰指标和温度数据，确定当前时刻的温度均匀需求程度，包括：
25、根据同一检测深度下的干扰指标对温度数据进行数值调整，得到调整温度；
26、将所有调整温度的极差，归一化处理作为当前时刻的温度均匀需求程度。
27、进一步地，根据同一检测深度下的干扰指标对温度数据进行数值调整，得到调整温度，包括：
28、将所述干扰指标与预设影响温度进行相乘，得到干扰温度；
29、将所述干扰温度与温度数据的和值作为调整温度。
30、进一步地，根据所述温度均匀需求程度调整当前时刻锻件的升温速度，包括：
31、将所述温度均匀需求程度的相反数进行归一化处理得到升温系数；
32、将升温系数与预设初始升温速度进行相乘，得到当前时刻锻件的升温速度。
33、进一步地，根据任一热电偶传感器的相邻两个时刻下的温度数据的数值变化，确定相邻时刻中后一时刻的温度变化指标，包括：
34、在相邻两个时刻中，计算后一时刻与前一时刻的温度数据的差值绝对值，得到相邻时刻中后一时刻的温度变化指标。
35、另一方面，本专利技术还提供一种用于锻件的调质处理装置，所述装置包括存储器、处理器以及存储在所述存储器中并可在所述处理器上运行的计算机程序，所述处理器执行所述计算机程序时实现如前述任意一项所述方法的步骤。
36、本专利技术具有如下有益效果：
37、本专利技术实施例中，通过在锻件内不同检测深度安装热电偶传感器，从而进行温度检测，又由于热电偶传感器易受到电磁辐射干扰、光照辐射干扰等异常干扰的影响，由此，可以对异常干扰进行具体分析，通过温度数据的数值变化，确定不同时刻的温度变化指标，进而根据温度变化指标的波动，确定中心深度的异常干扰程度，从而有效对异常干扰程度进行分析，便于后续针对异常干扰程度在不同检测深度下的数值变化，确定异常干扰衰减系数；基于异常干扰衰减系数对每一检测深度的干扰指标进行具体计算，从而将电磁辐射干扰、光照辐射干扰等异常干扰对温度数据的变化影响进行数值具象化，基于干扰指标实现温度均匀需求程度的获取，温度均匀需求程度能够有效表征当前时刻对温度均匀性的需求效果，进而根据温度均匀需求程度调整当前时刻锻件的升温速度。综上，本专利技术实施例中能够对不同检测深度的温度变化进行分析，消除异常干扰影响，确定更为准确有效的升温速度，便于实现锻件的均匀升温效果，提升锻件调质的质量。
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1.一种用于锻件的调质处理方法，其特征在于，在锻件内不同检测深度安装热电偶传感器，其中，锻件的检测深度至少为三个，检测深度的最大值为锻件厚度的一半，所述方法包括：
2.如权利要求1所述的一种用于锻件的调质处理方法，其特征在于，所述根据相邻的两个检测深度下温度变化指标的波动变化，确定两个检测深度的中心深度的异常干扰程度，包括：
3.如权利要求2所述的一种用于锻件的调质处理方法，其特征在于，所述对预设时间窗口内相邻两个检测深度下温度变化指标进行波动相似性分析，确定第一干扰影响系数，包括：
4.如权利要求1所述的一种用于锻件的调质处理方法，其特征在于，所述根据相邻两个中心深度的深度差异和异常干扰程度差异，确定锻件的检测深度增大时的异常干扰衰减系数，包括：
5.如权利要求1所述的一种用于锻件的调质处理方法，其特征在于，将最大检测深度的干扰指标设定为预设常数，所述根据不同检测深度与最大检测深度的差异，以及异常干扰衰减系数，确定不同检测深度的干扰指标，包括：
6.如权利要求1所述的一种用于锻件的调质处理方法，其特征在于，根据不同检测
7.如权利要求6所述的一种用于锻件的调质处理方法，其特征在于，根据同一检测深度下的干扰指标对温度数据进行数值调整，得到调整温度，包括：
8.如权利要求1所述的一种用于锻件的调质处理方法，其特征在于，根据所述温度均匀需求程度调整当前时刻锻件的升温速度，包括：
9.如权利要求1所述的一种用于锻件的调质处理方法，其特征在于，根据任一热电偶传感器的相邻两个时刻下的温度数据的数值变化，确定相邻时刻中后一时刻的温度变化指标，包括：
10.一种用于锻件的调质处理装置，所述装置包括存储器、处理器以及存储在所述存储器中并可在所述处理器上运行的计算机程序，其特征在于，所述处理器执行所述计算机程序时实现如权利要求1~9任意一项所述方法的步骤。
...【技术特征摘要】
1.一种用于锻件的调质处理方法，其特征在于，在锻件内不同检测深度安装热电偶传感器，其中，锻件的检测深度至少为三个，检测深度的最大值为锻件厚度的一半，所述方法包括：
2.如权利要求1所述的一种用于锻件的调质处理方法，其特征在于，所述根据相邻的两个检测深度下温度变化指标的波动变化，确定两个检测深度的中心深度的异常干扰程度，包括：
3.如权利要求2所述的一种用于锻件的调质处理方法，其特征在于，所述对预设时间窗口内相邻两个检测深度下温度变化指标进行波动相似性分析，确定第一干扰影响系数，包括：
4.如权利要求1所述的一种用于锻件的调质处理方法，其特征在于，所述根据相邻两个中心深度的深度差异和异常干扰程度差异，确定锻件的检测深度增大时的异常干扰衰减系数，包括：
5.如权利要求1所述的一种用于锻件的调质处理方法，其特征在于，将最大检测深度的干扰指标设定为预设常数，所述根据不同检测深度与最大检测深度的差异，以及异常干扰衰减系...
【专利技术属性】
技术研发人员：刘涛，卢如祥，张志忠，
申请(专利权)人：山西盛泰源特种材料科技有限公司，
类型：发明
国别省市：
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