阵列基板及其制备方法、显示面板、显示装置制造方法及图纸

技术编号：44835544 阅读：4 留言：0更新日期：2025-04-01 19:35

一种阵列基板及其制备方法、显示面板、显示装置；该阵列基板包括衬底基板(1)；第一电极层(4)设于衬底基板(1)的一侧，包括第一电极(41)；第一导电层(5)设于第一电极层(4)背离衬底基板(1)的一侧，包括源极(51)和漏极(52)，源极(51)和漏极(52)之间设置有第一间隙(54)，漏极(52)在衬底基板(1)上的正投影与第一电极层(4)在衬底基板(1)上的正投影有交叠；有机平坦化层(6)包括多个间隔设置的有机平坦部(61)，有机平坦部(61)至少设于第一间隙(54)内，且至少未覆盖源极(51)和漏极(52)背离第一间隙(54)的端部，有机平坦部(61)靠近第一间隙(54)的侧壁与第一导电层(5)靠近有机平坦化层(6)的一面之间的夹角小于第一导电层(5)靠近第一间隙(54)的侧壁与第一电极层(4)靠近第一导电层(5)的一面之间的夹角；有机有源层(7)设于有机平坦化层(6)背离衬底基板(1)的一侧，且在有机平坦部(61)背离第一间隙(54)的一侧与源极(51)及漏极(52)连接。

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【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】

技术介绍

技术实现思路

【技术保护点】

PCT国内申请，权利要求书已公开。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】

pct国内申请，权...

【专利技术属性】
技术研发人员：袁广才，胡合合，谢昌翰，杨维，董立文，贺家煜，侯东飞，张震，谷新，宁策，李正亮，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：

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