System.ArgumentOutOfRangeException: 索引和长度必须引用该字符串内的位置。 参数名: length 在 System.String.Substring(Int32 startIndex, Int32 length) 在 zhuanliShow.Bind() 阻隔膜、量子点膜及其制备方法技术_技高网

阻隔膜、量子点膜及其制备方法技术

技术编号:44834464 阅读:5 留言:0更新日期:2025-04-01 19:34
本发明专利技术提供了一种阻隔膜、量子点膜及其制备方法,具体涉及液晶显示器技术领域。该阻隔膜包括单面阻隔膜和/或双面阻隔膜;所述单面阻隔膜包括基材和位于基材一侧表面的阻隔镀层;所述双面阻隔膜包括基材和位于基材一侧表面的阻隔镀层以及位于基材另一个表面的背涂层。本发明专利技术提供的阻隔膜,具有更强的阻隔性能,在不影响其他性能下,能降低量子点膜生产过程阻隔膜刮伤导致局部失效问题,以及消除因镀层原子排列的针孔失效问题,整体阻隔性能提升增强对量子点的保护延长使用寿命。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及液晶显示器,尤其是涉及一种阻隔膜、量子点膜及其制备方法


技术介绍

1、当前直下式背光源成为高端显示产品的直接应用,miniled的设计展示更强的光强,同时密集蓝光芯片分布造成腔体里温度更高。在最求更高亮度更好色域的现实下,蓝光miniled加量子点膜的方案为最好的量产形式,而量子点显示技术即蓝光激发量子点,产生红绿光,再结合蓝光形成3原色进而在出光面混合成白光。

2、又因量子点尺寸为nm级,材质本身对强光,高热,水氧及其敏感,在这严苛的环境中极易荧光淬灭,丧失功能。需要对其进行保护,延长其寿命。阻隔膜阻隔水氧提供安全环境是当前最好的保护方式。

3、现有技术中量子点膜中使用单层阻隔层,容易存在针孔缝隙问题,且镀层厚度有限,对量子点的保护程度有限;同时单层阻隔层容易引起刚度挺度不足,水氧阻隔性能较差以及量子点损伤的问题。

4、有鉴于此,特提出本专利技术。


技术实现思路

1、本专利技术的目的之一在于提供一种阻隔膜,旨在解决现有技术中上述技术问题的至少一种。

2、本专利技术的目的之二在于提供一种量子点膜。

3、本专利技术的目的之三在于提供一种量子点膜的制备方法。

4、为了实现本专利技术的上述目的,特采用以下技术方案:

5、本专利技术的第一方面提供了一种阻隔膜,包括单面阻隔膜和/或双面阻隔膜;

6、所述单面阻隔膜包括基材和位于基材一侧表面的阻隔镀层;

7、所述双面阻隔膜包括基材和位于基材一侧表面的阻隔镀层以及位于基材另一个表面的背涂层。

8、进一步地,所述阻隔镀层或所述背涂层通过pvd或cvd方式得到。

9、进一步地,所述基材包括苯二甲酸乙二醇酯、聚萘二甲酸乙二酯、聚碳酸酯、聚甲基丙烯酸甲酯、聚乳酸或聚酯型聚氨酯,优选为苯二甲酸乙二醇酯。

10、优选地,所述阻隔镀层的材质包括siox、sinx、sicx和zrox中的至少一种,其中,0<x≤2。

11、优选地,所述背涂层由背涂胶水涂覆形成。

12、优选地,所述背涂胶水中包括树脂、有机/无机粒子。

13、优选地,所述树脂包括uv型丙烯酸树脂。

14、进一步地,所述基材的厚度为12~150μm。

15、优选地,所述阻隔镀层的厚度为100~200nm。

16、优选地,所述背涂层的厚度为2~10μm。

17、本专利技术第二方面提供了一种量子点膜,包括依次层叠设置的第一阻隔膜组、量子点胶层和第二阻隔膜组。

18、所述第一阻隔膜组和所述第二阻隔膜组包括至少一层所述的阻隔膜。

19、进一步地,所述量子点胶层中含有量子点。

20、优选地,所述量子点包括红色量子点和绿色量子点。

21、进一步地,所述红色量子点的波长为620~634nm。

22、优选地,所述绿色量子点的波长为528~539nm。

23、进一步地,所述第一阻隔膜组包括一层双面阻隔膜和单面阻隔膜。

24、优选地,所述单面阻隔膜的层数为0~3层。

25、优选地,所述双面阻隔膜位于所述第一阻隔膜组的最外侧。

26、进一步地,所述第二阻隔膜组包括一层双面阻隔膜和单面阻隔膜。

27、优选地,所述单面阻隔膜的层数为0~3层。

28、优选地,所述双面阻隔膜位于所述第二阻隔膜组的最外侧。

29、本专利技术第三方面提供了所述的量子点膜的制备方法,包括以下步骤:

30、a、使用贴合胶将第一阻隔膜组和第二阻隔膜组中的阻隔膜贴合在一起,固化后对应得到第一阻隔膜组和第二阻隔膜组。

31、b、将量子点胶水涂布于第一阻隔膜组和第二阻隔膜组中间,uv固化得到所述量子点膜。

32、进一步地,所述贴合胶包括uv型贴合胶、热固型贴合胶或混合型贴合胶,优选为热固型贴合胶。

33、优选地,所述贴合的方式包括辊压贴合。

34、优选地,步骤b中,所述涂布的方式为狭缝涂布。

35、优选地,步骤b中,所述uv固化中,能量为150~600mj/cm。

36、与现有技术相比,本专利技术至少具有如下有益效果:

37、本专利技术提供的阻隔膜,具有更强的阻隔性能,在不影响其他性能下,能降低量子点膜生产过程阻隔膜刮伤导致局部失效问题,以及消除因镀层原子排列的针孔失效问题,整体阻隔性能提升增强对量子点的保护延长使用寿命。

38、本专利技术提供的量子点膜,鉴于上述阻隔膜所具有的优势,使得制备得到的量子点膜具有更久的使用寿命和性能稳定性。这种技术方案使得量子点膜在显示
具有显著的应用优势和广泛的市场前景。

39、本专利技术提供的量子点膜的制备方法,工艺简单,机械化程度高,适合大规模工业化生产。

本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种阻隔膜,其特征在于,包括单面阻隔膜和/或双面阻隔膜;

2.根据权利要求1所述的阻隔膜,其特征在于,所述基材包括苯二甲酸乙二醇酯、聚萘二甲酸乙二酯、聚碳酸酯、聚甲基丙烯酸甲酯、聚乳酸或聚酯型聚氨酯,优选为苯二甲酸乙二醇酯;

3.根据权利要求1所述的阻隔膜,其特征在于,所述基材的厚度为12~150μm;

4.一种量子点膜,其特征在于,包括依次层叠设置的第一阻隔膜组、量子点胶层和第二阻隔膜组;

5.根据权利要求4所述的量子点膜,其特征在于,所述量子点胶层中含有量子点;

6.根据权利要求5所述的量子点膜,其特征在于,所述红色量子点的波长为620~634nm;

7.根据权利要求4所述的量子点膜,其特征在于,所述第一阻隔膜组包括一层双面阻隔膜和单面阻隔膜;

8.根据权利要求4所述的量子点膜,其特征在于,所述第二阻隔膜组包括一层双面阻隔膜和单面阻隔膜;

9.一种权利要求4~8任一项所述的量子点膜的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:

10.根据权利要求9所述的制备方法,其特征在于,所述贴合胶包括UV型贴合胶、热固型贴合胶或混合型贴合胶,优选为热固型贴合胶;

...

【技术特征摘要】

1.一种阻隔膜,其特征在于,包括单面阻隔膜和/或双面阻隔膜;

2.根据权利要求1所述的阻隔膜,其特征在于,所述基材包括苯二甲酸乙二醇酯、聚萘二甲酸乙二酯、聚碳酸酯、聚甲基丙烯酸甲酯、聚乳酸或聚酯型聚氨酯,优选为苯二甲酸乙二醇酯;

3.根据权利要求1所述的阻隔膜,其特征在于,所述基材的厚度为12~150μm;

4.一种量子点膜,其特征在于,包括依次层叠设置的第一阻隔膜组、量子点胶层和第二阻隔膜组;

5.根据权利要求4所述的量子点膜,其特征在于,所述量子点胶层中含有量子点;

...

【专利技术属性】
技术研发人员:李刚张彦梁德志徐良霞许林陈加平李兵军唐海江
申请(专利权)人:宁波激智科技股份有限公司
类型:发明
国别省市:

网友询问留言 已有0条评论
  • 还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。

1