【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及氧化反应池的，特别是铜氧化设备的。
技术介绍
1、铜的氧化发黑工艺主要目的是消光、装饰和防腐；通过氧化发黑处理，可以在铜制品表面形成一层致密的黑色氧化膜，提高铜制品的耐磨性和耐腐蚀性。
2、磷青铜填料进行氧化处理时，需要将填料浸入氧化池中，与氧化池中的反应液在一定的温度下进行反应，现有的氧化池在使用时，由于氧化池内的温度和液体浓度分布不均匀，存在氧化不均匀的情况，导致氧化效果不理想。
技术实现思路
1、本专利技术的目的就是解决现有技术中的问题，提出一种铜氧化设备，能够解决以上问题。
2、为实现上述目的，本专利技术提出了一种铜氧化设备，包括氧化池、控制单元和循环装置，所述氧化池内设有氧化槽，所述氧化槽内设有超声单元和加热单元，所述氧化槽的上方设有回流进水口，所述回流进水口通过回流管与循环装置相连，所述氧化槽的下方设有循环出水口，所述循环出水口通过进水管与循环装置相连。
3、作为优选，所述超声单元包括超声波发生器和超声波振板，所述超声波发生器与超声波振板相连接，所述超声波发生器设置在控制单元，所述超声波振板安装在氧化槽内。
4、作为优选，所述超声波振板安装在氧化槽的底壁和/或侧壁。
5、作为优选，所述加热单元包括加热器和温度控制器，所述氧化槽内设有温度传感器，所述温度传感器与温度控制器相连接，所述加热器与温度控制器相连接，所述温度控制器设置在控制单元，所述加热器安装在氧化槽的底壁和/或侧壁。
6、作为
7、作为优选，所述氧化池的四周内壁上设有循环出水板，所述循环出水板与氧化槽的侧壁宽度匹配，所述循环出水板的表面开设有若干循环出水口，所述循环出水口上安装有循环水喷头，所述循环出水板内设有出水通道，所述出水通道与进水管相连通，所述循环出水口与所述出水通道相连通，所述进水管上设有循环水泵。
8、作为优选，所述氧化池的池壁中设有保温层，所述氧化槽的顶部设有可拆卸的保温盖。
9、作为优选，所述循环装置包括箱体，所述箱体内设有缓冲板，所述缓冲板将箱体分隔为进水室和出水室，所述进水室和出水室的上方连通，进水室和出水室的底部通过缓冲板隔开，所述缓冲板的底部两侧设有通孔，进水室和出水室的底部通过通孔连通，所述回流管与进水室上方连接，所述进水管与出水室下方连接。
10、本专利技术的有益效果：本专利技术通过在氧化池内设置加热单元，通过加热单元对反应液进行恒温加热，使反应液能够达到氧化反应需要的反应温度；在氧化池内设置超声单元，通过超声波对反应液进行振动，使温度分布均匀，使氧化池内的反应效率增高并且能使金属铜表层的氧化效果更优；循环单元通过让氧化设备内的反应溶液不断循环流动，使各处反应液的浓度和温度始终保持均匀；超声单元和循环单元能够让铜的氧化彻底、均匀且快速，提高氧化效率，改善氧化效果；保温层使氧化设备具备优秀的保温性能；呈线性均匀排布的循环出水口使循环后的液体均匀快速地与池内的液体混合。
11、本专利技术的特征及优点将通过实施例结合附图进行详细说明。
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1.一种铜氧化设备，其特征在于：包括氧化池（1）、控制单元（2）和循环装置（3），所述氧化池（1）内设有氧化槽（11），所述氧化槽（11）内设有超声单元（4）和加热单元（5），所述氧化槽（11）的上方设有回流进水口（12），所述回流进水口（12）通过回流管（6）与循环装置（3）相连，所述氧化槽（11）的下方设有循环出水口（7），所述循环出水口（7）通过进水管（8）与循环装置（3）相连。
2.如权利要求1所述的铜氧化设备，其特征在于：所述超声单元（4）包括超声波发生器和超声波振板（41），所述超声波发生器与超声波振板（41）相连接，所述超声波发生器设置在控制单元（2），所述超声波振板（41）安装在氧化槽（11）内。
3.如权利要求2所述的铜氧化设备，其特征在于：所述超声波振板（41）安装在氧化槽（11）的底壁和/或侧壁。
4.如权利要求1所述的铜氧化设备，其特征在于：所述加热单元（5）包括加热器（51）和温度控制器，所述氧化槽（11）内设有温度传感器，所述温度传感器与温度控制器相连接，所述加热器（51）与温度控制器相连接，所述温度控制器设置在控制
5.如权利要求4所述的铜氧化设备，其特征在于：四组加热器（51）呈中心对称分布在氧化槽（11）的四周内壁上。
6.如权利要求1所述的铜氧化设备，其特征在于：所述氧化池（1）的四周内壁上设有循环出水板（9），所述循环出水板（9）与氧化槽（11）的侧壁宽度匹配，所述循环出水板（9）的表面开设有若干循环出水口（7），所述循环出水口（7）上安装有循环水喷头，所述循环出水板（9）内设有出水通道，所述出水通道与进水管（8）相连通，所述循环出水口（7）与所述出水通道相连通，所述进水管（8）上设有循环水泵（10）。
7.如权利要求1所述的铜氧化设备，其特征在于：所述氧化池（1）的池壁中设有保温层（13），所述氧化槽（11）的顶部设有可拆卸的保温盖（14）。
8.如权利要求1所述的铜氧化设备，其特征在于：所述循环装置（3）包括箱体（31），所述箱体（31）内设有缓冲板（32），所述缓冲板（32）将箱体（31）分隔为进水室（33）和出水室（34），所述进水室（33）和出水室（34）的上方连通，进水室（33）和出水室（34）的底部通过缓冲板（32）隔开，所述缓冲板（32）的底部两侧设有通孔（35），进水室（33）和出水室（34）的底部通过通孔（35）连通，所述回流管（6）与进水室（33）上方连接，所述进水管（8）与出水室（34）下方连接。
...【技术特征摘要】
1.一种铜氧化设备，其特征在于：包括氧化池（1）、控制单元（2）和循环装置（3），所述氧化池（1）内设有氧化槽（11），所述氧化槽（11）内设有超声单元（4）和加热单元（5），所述氧化槽（11）的上方设有回流进水口（12），所述回流进水口（12）通过回流管（6）与循环装置（3）相连，所述氧化槽（11）的下方设有循环出水口（7），所述循环出水口（7）通过进水管（8）与循环装置（3）相连。
2.如权利要求1所述的铜氧化设备，其特征在于：所述超声单元（4）包括超声波发生器和超声波振板（41），所述超声波发生器与超声波振板（41）相连接，所述超声波发生器设置在控制单元（2），所述超声波振板（41）安装在氧化槽（11）内。
3.如权利要求2所述的铜氧化设备，其特征在于：所述超声波振板（41）安装在氧化槽（11）的底壁和/或侧壁。
4.如权利要求1所述的铜氧化设备，其特征在于：所述加热单元（5）包括加热器（51）和温度控制器，所述氧化槽（11）内设有温度传感器，所述温度传感器与温度控制器相连接，所述加热器（51）与温度控制器相连接，所述温度控制器设置在控制单元（2），所述加热器（51）安装在氧化槽（11）的底壁和/或侧壁。
5.如权利要求4所述的铜氧化设备，其特征在于：四...
【专利技术属性】
技术研发人员：沈叶飞，张伟，施王杰，徐建兵，赵轶凡，王威，
申请(专利权)人：嘉兴中和化学工程有限公司，
类型：发明
国别省市：
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