【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及蚀刻设备，具体涉及一种用于晶圆蚀刻的药液循环系统及蚀刻设备。
技术介绍
1、单晶圆蚀刻制程中，为了提高单台蚀刻设备的制程灵活性，经常通过改变制程药液的种类以及使用药液的混合比例来满足不同产品的制程需求。现有的药液供应系统在多次使用后药液在管道中残留量较大，一方面现有的原液槽底面积较大，且原液槽药液输送以及制程后药液回收均采用直接泵送，致使管道内药液残留较多，药液回收率较低。同时，现有的药液供应在混合配置好后直接通过输送管路输送给多个制程腔体，在输送管路上的阀门开闭时容易产生水锤现象，影响管道输出的液体流量以及压力的稳定性，而且，由于多个制程腔体的供应支路相互连通，各自管路上阀门通断时会相互影响其他制程腔体药液供应时的压力，进而对制程过程造成影响。
技术实现思路
1、本专利技术的目的在于提供一种用于晶圆蚀刻的药液循环系统及蚀刻设备，能够通过将原液槽设计成细长结构并配合压力氮气对药液进行压力输送以减少原液槽内的药液残留量；通过设计双回收槽进行切换式药液回收以确保回收槽和制程腔体之间的药液回收流程持续运行，并通过气压方式将回收槽内的药液输送回配酸槽内以提高药液回收率；通过在制程槽和制程腔体之间设置大循环管路以避免药液输送时发生水锤现象，从而更好的控制药液输送时的流量，通过设置小循环管路并在其末端设置稳压阀以提高药液输送时的压力稳定性，确保在蚀刻制程中的药液供应更加稳定。
2、为达到上述目的，根据本专利技术的第一方面，提供了一种用于晶圆蚀刻的药液循环系统，包括：<...
【技术保护点】
1.一种用于晶圆蚀刻的药液循环系统，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的用于晶圆蚀刻的药液循环系统，其特征在于，所述药液回收模组设置成两个所述回收槽中任一所述回收槽进行药液回收，在一所述回收槽注满药液后，切换至另一所述回收槽进行药液回收的同时，向一所述回收槽注入压力氮气以将药液输送回所述配酸槽完成药液回收。
3.根据权利要求1所述的用于晶圆蚀刻的药液循环系统，其特征在于，所述原液槽侧部设置有液位传感器。
4.根据权利要求1所述的用于晶圆蚀刻的药液循环系统，其特征在于，所述配酸槽出口设置有第一循环泵，所述第一循环泵输出端设置有第一三通阀，所述第一三通阀一输出端与所述制程槽进口连接，所述第一三通阀另一输出端设置有回流支路，所述回流支路末端回流至所述配酸槽内。
5.根据权利要求1所述的用于晶圆蚀刻的药液循环系统，其特征在于，所述制程槽出口设置有第二循环泵，所述第二循环泵输出端设置有第二三通阀，所述第二三通阀一输出端与所述大循环管路连接。
6.根据权利要求1所述的用于晶圆蚀刻的药液循环系统，其特征在于，单个所述小循环管路
7.根据权利要求1所述的用于晶圆蚀刻的药液循环系统，其特征在于，所述制程腔体出口设置有第四三通阀，所述第四三通阀一输出端与一所述回收槽连接，所述第四三通阀另一输出端与另一所述回收槽连接。
8.根据权利要求1所述的用于晶圆蚀刻的药液循环系统，其特征在于，所述原液槽、所述制程槽以及所述回收槽进口处设置有纯水口和气压平衡口。
9.一种蚀刻设备，其特征在于，包括如权利要求1至8任一项所述的用于晶圆蚀刻的药液循环系统。
...【技术特征摘要】
1.一种用于晶圆蚀刻的药液循环系统，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的用于晶圆蚀刻的药液循环系统，其特征在于，所述药液回收模组设置成两个所述回收槽中任一所述回收槽进行药液回收，在一所述回收槽注满药液后，切换至另一所述回收槽进行药液回收的同时，向一所述回收槽注入压力氮气以将药液输送回所述配酸槽完成药液回收。
3.根据权利要求1所述的用于晶圆蚀刻的药液循环系统，其特征在于，所述原液槽侧部设置有液位传感器。
4.根据权利要求1所述的用于晶圆蚀刻的药液循环系统，其特征在于，所述配酸槽出口设置有第一循环泵，所述第一循环泵输出端设置有第一三通阀，所述第一三通阀一输出端与所述制程槽进口连接，所述第一三通阀另一输出端设置有回流支路，所述回流支路末端回流至所述配酸槽内。
5.根据权利要求1所述的用于晶圆蚀刻的药液循环系统，其特征在...
【专利技术属性】
技术研发人员：黄自柯，丁文标，丁剑，贺竣，
申请(专利权)人：苏州冠礼科技有限公司，
类型：发明
国别省市：
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