【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及真空镀膜，具体是指一种用于真空镀膜机的控制系统。
技术介绍
1、真空镀膜技术作为一种在材料表面制备薄膜的先进工艺手段，在众多领域如光学、电子、机械防护等发挥着极为关键的作用。在光学领域，通过真空镀膜可制备增透膜、反射膜等，显著提升光学元件的性能，广泛应用于相机镜头、望远镜镜片以及各类光学仪器中；在电子行业，能够为电子器件提供导电、绝缘、防护等功能薄膜，助力集成电路、显示屏等的制造与性能优化；在机械防护方面，制备的耐磨、耐腐蚀薄膜可延长机械零部件的使用寿命，降低设备维护成本。随着现代科技的迅猛发展，对真空镀膜质量与效率的要求日益严苛，促使相关技术不断演进与创新。
2、传统的真空镀膜机控制系统在真空度控制方面，仅能进行简单的压强监测与粗略控制，难以精确掌握真空度的动态变化，无法有效应对诸如微小漏气、真空泵性能波动等问题，导致真空环境不稳定，进而使镀膜过程中易出现膜层杂质混入、膜厚不均匀等质量缺陷，严重影响产品的光学性能、电学性能及附着力等关键指标，降低了产品的良品率与可靠性；对于气体流量控制，缺乏对多种进气气体与出气流量的精准匹配分析能力，在反应性镀膜工艺中，由于无法准确根据镀膜反应的化学计量比来控制气体流量，容易造成薄膜成分偏离预期，致使薄膜性能无法满足实际应用需求，限制了镀膜工艺在一些对薄膜成分要求严格的高端领域的应用。
技术实现思路
1、针对上述情况，为克服现有技术的缺陷，本专利技术提供了一种用于真空镀膜机的控制系统，为了解决上述提出的技术缺陷。
...【技术保护点】
1.一种用于真空镀膜机的控制系统，其特征在于，包括真空稳定状态分析模块、气体流量匹配分析模块、镀膜环境控制分析模块、镀膜参数控制分析模块；其特征在于：
2.根据权利要求1所述的一种用于真空镀膜机的控制系统，其特征在于，还包括：预警控制模块和数据库；
3.根据权利要求1所述的一种用于真空镀膜机的控制系统，其特征在于，基于真空镀膜机在工作过程中对应各控制时段中各监测时间点的压强值和真空度变化率进行综合计算分析的方式如下：
4.根据权利要求3所述的一种用于真空镀膜机的控制系统，其特征在于，得到真空镀膜机对应各控制时段的真空稳定状态指数的具体计算分析方式如下：
5.根据权利要求4所述的一种用于真空镀膜机的控制系统，其特征在于，基于真空镀膜机在工作过程中对应各控制时段中各监测时间点的各类进气气体的进气流量和出气流量进行综合计算分析的方式如下：
6.根据权利要求5所述的一种用于真空镀膜机的控制系统，其特征在于，若真空镀膜机对应某个控制时段的流量匹配状态指数小于0.1，则表示真空镀膜机对应该控制时段镀膜室内的气体环境稳定，反之，则表示
7.根据权利要求6所述的一种用于真空镀膜机的控制系统，其特征在于，基于真空镀膜机对应各控制时段的真空稳定状态指数和流量匹配状态指数进行综合计算分析的方式如下：
8.根据权利要求1所述的一种用于真空镀膜机的控制系统，其特征在于，基于真空镀膜机在工作过程中对应各控制时段中各监测时间点的温度参数和膜厚参数进行综合计算分析的方式如下：
9.根据权利要求8所述的一种用于真空镀膜机的控制系统，其特征在于：
10.根据权利要求9所述的一种用于真空镀膜机的控制系统，其特征在于：若真空镀膜机对应某个控制时段的镀膜综合控制系数超过0.3，则表示真空镀膜机对应该控制时段的镀膜厚度出现偏差，生成镀膜状态异常信号；此时分析真空镀膜机对应各控制时段的镀膜综合控制系数中的镀膜材料平均温度、镀膜材料平均温度和膜厚生长速率指数，若镀膜材料平均温度超过安全阈值，则表示温度均匀性差，对基底的控温装置进行调整，若镀膜材料平均温度超过安全阈值，则表示镀膜基底的运行方式需要调整，若膜厚生长速率指数偏离设定值，则表示蒸发源功率、气体流量等参数需要进行调节，反之，则表示真空镀膜机对应该控制时段的镀膜厚度稳定。
...【技术特征摘要】
1.一种用于真空镀膜机的控制系统，其特征在于，包括真空稳定状态分析模块、气体流量匹配分析模块、镀膜环境控制分析模块、镀膜参数控制分析模块；其特征在于：
2.根据权利要求1所述的一种用于真空镀膜机的控制系统，其特征在于，还包括：预警控制模块和数据库；
3.根据权利要求1所述的一种用于真空镀膜机的控制系统，其特征在于，基于真空镀膜机在工作过程中对应各控制时段中各监测时间点的压强值和真空度变化率进行综合计算分析的方式如下：
4.根据权利要求3所述的一种用于真空镀膜机的控制系统，其特征在于，得到真空镀膜机对应各控制时段的真空稳定状态指数的具体计算分析方式如下：
5.根据权利要求4所述的一种用于真空镀膜机的控制系统，其特征在于，基于真空镀膜机在工作过程中对应各控制时段中各监测时间点的各类进气气体的进气流量和出气流量进行综合计算分析的方式如下：
6.根据权利要求5所述的一种用于真空镀膜机的控制系统，其特征在于，若真空镀膜机对应某个控制时段的流量匹配状态指数小于0.1，则表示真空镀膜机对应该控制时段镀膜室内的气体环境稳定，反之，则表示真空镀膜机对应该控制时段镀膜室内的气体环境不稳定，在磁控溅射镀膜制备氧化物薄膜时，...
【专利技术属性】
技术研发人员：严敬敬，梁成民，谈荣国，田亮，郭子豪，
申请(专利权)人：杭州宏隽科技有限公司，
类型：发明
国别省市：
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