【技术实现步骤摘要】
本技术属于硅单晶制备，尤其是涉及一种单晶炉硅渣清理设备。
技术介绍
1、单晶炉复投过程中，存在硅渣飞溅至水冷内导上的现象，在单晶等径生长过程中，硅渣受热后容易掉落至生长液面上，导致液面吃渣断线。目前没有有效的方法避免溅硅现象发生，硅渣掉落至生长液面后，导致单晶硅等径断线率较高，影响单晶硅生长产量。
技术实现思路
1、鉴于上述问题，本技术提供一种单晶炉硅渣清理设备，以解决现有技术存在的以上或者其他前者问题。
2、为解决上述技术问题，本技术采用的技术方案是：一种单晶炉硅渣清理设备，包括导向装置、滑动设于导向装置上的升降装置、与升降装置相连接的伸缩装置以及与伸缩装置相连接的清理装置，升降装置沿着导向装置运动，驱动伸缩装置动作，伸缩装置带动清理装置动作，对水冷内导上的硅渣进行清理。
3、进一步的，导向装置包括固定组件以及与固定组件相连接的导向组件，导向组件设有多个导向槽，多个导向槽沿着固定组件的周向方向依次设置，导向槽沿着固定组件的轴向方向和周向方向设置，以使得升降装置升降的过程中驱动清理装置转动。
4、进一步的，固定组件包括固定件，导向组件设有安装件，固定件与安装件同轴设置，且固定件与安装件之间具有间隙，滑动装置与安装件滑动连接，并在该间隙内运动。
5、进一步的，升降装置包括支撑组件以及与支撑组件相连接的滑动组件，滑动组件可相对支撑组件运动；滑动组件包括多个滑动件，多个滑动件沿着支撑组件的周向方向依次设置，每一个滑动件上设置有导向件，导向件
6、进一步的，支撑组件包括与导向装置相连接的主支撑件以及与主支撑件相连接的移动件，移动件可相对主支撑件移动，主支撑件设有连接件，连接件可相对主支撑件移动。
7、进一步的，主支撑件上设置有第一限位件，对滑动组件上升行程进行限位，移动件上设置有第二限位件，对滑动组件下降行程进行限位。
8、进一步的，伸缩装置包括多组转动组件，多组转动组件沿着主支撑件的周向方向依次设置；转动组件包括转动连接的第一转动件和第二转动件，第一转动件的一端与连接件转动连接，另一端与清理装置转动连接，第二转动件与主支撑件转动连接，通过升降装置动作，驱动第二转动件和第一转动件转动，使得清理装置可相对打开或折叠。
9、进一步的，清理装置包括多组清理件，多组清理件沿着伸缩装置周向方向依次设置，以便对水冷内导的内侧面进行清理。
10、进一步的，清理件包括主连接链以及多个均与主连接链相连接的子连接链，多个子连接链沿着主连接链长度方向依次设置。
11、进一步的，主连接链与子连接链的材质均为钼材质。
12、由于采用上述技术方案，该单晶炉硅渣清理设备具有清理装置，该清理装置在升降装置的作用下，进行升降，同时进行转动，并在伸缩装置的作用下，进行收拢或展开，对水冷内导内侧面附着的硅渣进行清理，可在单晶硅等径生长的中后期复投后对硅渣进行清理，防止在单晶炉内温度升高后，附着在水冷内导内侧面的硅渣受热滑落至单晶硅的生长液面上而导致液面抖动或是在液面上形成结晶体，干扰单晶硅生产，保证单晶的品质；
13、该单晶炉硅渣清理设备具有导向装置，导向装置能够与隔离室的喉口法兰相配合，在硅渣清理设备下降过程中，导向装置停留在喉口法兰处，滑动装置在自身重力及伸缩装置和清理装置的重力作用下，继续下降，并在下降的过程中，通过导向槽的导向，使得伸缩装置和清理装置转动，以便清理装置与水冷内导内侧面接触并产生摩擦，对硅渣进行清理，结构简洁，操作简单，制造成本低，能够有效地去除水冷内导内侧面上硅渣，清炉干净。
本文档来自技高网...【技术保护点】
1.一种单晶炉硅渣清理设备，其特征在于：包括导向装置、滑动设于导向装置上的升降装置、与升降装置相连接的伸缩装置以及与伸缩装置相连接的清理装置，所述升降装置沿着所述导向装置运动，驱动所述伸缩装置动作，所述伸缩装置带动所述清理装置动作，对水冷内导上的硅渣进行清理；所述导向装置包括固定组件以及与固定组件相连接的导向组件，所述导向组件设有多个导向槽，多个所述导向槽沿着所述固定组件的周向方向依次设置，所述导向槽沿着所述固定组件的轴向方向和周向方向设置，以使得所述升降装置升降的过程中驱动所述清理装置转动；所述清理装置包括多组清理件，多组所述清理件沿着所述伸缩装置周向方向依次设置，以便对水冷内导的内侧面进行清理；所述清理件包括主连接链以及多个均与所述主连接链相连接的子连接链，多个所述子连接链沿着所述主连接链长度方向依次设置；所述主连接链与所述子连接链的材质均为钼材质。
2.根据权利要求1所述的单晶炉硅渣清理设备，其特征在于：所述固定组件包括固定件，所述导向组件设有安装件，所述固定件与所述安装件同轴设置，且所述固定件与所述安装件之间具有间隙，所述升降装置与所述安装件滑动连接，并在该间
3.根据权利要求1-2任一项所述的单晶炉硅渣清理设备，其特征在于：所述升降装置包括支撑组件以及与支撑组件相连接的滑动组件，所述滑动组件可相对所述支撑组件运动；所述滑动组件包括多个滑动件，多个所述滑动件沿着所述支撑组件的周向方向依次设置，每一个所述滑动件上设置有导向件，所述导向件与所述导向装置滑动连接。
4.根据权利要求3所述的单晶炉硅渣清理设备，其特征在于：所述支撑组件包括与导向装置相连接的主支撑件以及与主支撑件相连接的移动件，所述移动件可相对所述主支撑件移动，所述主支撑件设有连接件，所述连接件可相对所述主支撑件移动。
5.根据权利要求4所述的单晶炉硅渣清理设备，其特征在于：所述主支撑件上设置有第一限位件，对所述滑动组件上升行程进行限位，所述移动件上设置有第二限位件，对所述滑动组件下降行程进行限位。
6.根据权利要求4或5所述的单晶炉硅渣清理设备，其特征在于：所述伸缩装置包括多组转动组件，多组所述转动组件沿着所述主支撑件的周向方向依次设置；所述转动组件包括转动连接的第一转动件和第二转动件，所述第一转动件的一端与所述连接件转动连接，另一端与所述清理装置转动连接，所述第二转动件与所述主支撑件转动连接，通过所述升降装置动作，驱动所述第二转动件和所述第一转动件转动，使得清理装置可相对打开或折叠。
...【技术特征摘要】
1.一种单晶炉硅渣清理设备，其特征在于：包括导向装置、滑动设于导向装置上的升降装置、与升降装置相连接的伸缩装置以及与伸缩装置相连接的清理装置，所述升降装置沿着所述导向装置运动，驱动所述伸缩装置动作，所述伸缩装置带动所述清理装置动作，对水冷内导上的硅渣进行清理；所述导向装置包括固定组件以及与固定组件相连接的导向组件，所述导向组件设有多个导向槽，多个所述导向槽沿着所述固定组件的周向方向依次设置，所述导向槽沿着所述固定组件的轴向方向和周向方向设置，以使得所述升降装置升降的过程中驱动所述清理装置转动；所述清理装置包括多组清理件，多组所述清理件沿着所述伸缩装置周向方向依次设置，以便对水冷内导的内侧面进行清理；所述清理件包括主连接链以及多个均与所述主连接链相连接的子连接链，多个所述子连接链沿着所述主连接链长度方向依次设置；所述主连接链与所述子连接链的材质均为钼材质。
2.根据权利要求1所述的单晶炉硅渣清理设备，其特征在于：所述固定组件包括固定件，所述导向组件设有安装件，所述固定件与所述安装件同轴设置，且所述固定件与所述安装件之间具有间隙，所述升降装置与所述安装件滑动连接，并在该间隙内运动。
3.根据权利要求1-2任一项所述的单晶炉硅渣清理设备，其特征在...
【专利技术属性】
技术研发人员：张富强，
申请(专利权)人：内蒙古中环晶体材料有限公司，
类型：新型
国别省市：
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