【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及半导体，特别涉及一种大基底的运动平台及光刻设备。
技术介绍
1、晶片曝光工艺是利用光照将掩模版上的图形经过光学系统后投影到光刻胶上，实现图形转移。曝光工艺是集成电路制造中光刻工艺的重要工序之一。在进行曝光时，需要运动平台吸附基底，例如吸附基片或者晶圆。
2、运动平台是基底交接以及承载的平台，运动平台中的承片台用于承载并吸附基底。基于实际应用的需求，例如基于基底的缺陷检测、位置偏差补偿等的需求，需要承片台做直线运动或者转动运动。当承片台绕自身中轴线做转动运动时，由于其旋转体的质量较大，全部重力作用在轴承上，如果旋转体偏载，在旋转过程中会使会轴承受力不均，可能会影响轴承使用寿命，严重的情况下甚至可能导致轴承损坏发生卡死现象。而且如果设备断电或异常断电，现有的承片台无法使旋转体快速停止，此时承片台由于其惯性力转动，不确定因素较大，可能会与其他分系统产生碰撞，其具有较大的安全隐患。
3、因此，本专利技术需要一种大基底的运动平台及光刻设备，该运动平台配置有垂向作用组件，通过垂向作用组件对承片台组件提供向上的作用力以及向下的作用力，其中向上的作用力用于补偿其重力，以减小作用于轴承上的作用力，利于提高承片台组件旋转过程中的稳定性，延长轴承使用寿命；向下的作用力可提高承片台组件的刚度，进一步保证承片台的稳定性。另外向下的作用力单独作用于承片台组件时，可吸附所述承片台组件并锁定承片台组件，使得承片台组件实现在任意旋转角度下的机械锁紧，同时也可保证在设备断电或异常断电时，使承片台组件快速停机，消除安全隐患。p>
技术实现思路
1、专利技术提供了一种大基底的运动平台及光刻设备，该运动平台配置有垂向作用组件，通过垂向作用组件对承片台组件提供向上的作用力以及向下的作用力，其中向上的作用力用于补偿其重力，以减小作用于轴承上的作用力，利于提高承片台组件旋转过程中的稳定性，延长轴承使用寿命；向下的作用力可提高承片台组件的刚度，进一步保证承片台的稳定性。另外向下的作用力单独作用于承片台组件时，可吸附所述承片台组件并锁定承片台组件，使得承片台组件实现在任意旋转角度下的机械锁紧，同时也可保证在设备断电或异常断电时，使承片台组件快速停机，消除安全隐患。
2、本专利技术中，大基底的运动平台包括：承片台组件、基座以及垂向作用组件；
3、所述承片台组件设置于所述基座，所述垂向作用组件用于为所述承片台组件施加作用力；
4、所述作用力包括向上的作用力和向下的作用力；所述向上的作用力单独施加或者所述向上的作用力和所述向下的作用力同时施加时，所述垂向作用组件以非接触的方式施加所述作用力；
5、所述向上的作用力和所述向下的作用力同时施加时，所述向下的作用力小于向上的作用力；
6、所述向下的作用力单独施加时，用于将所述承片台组件锁定于所述基座。
7、可选地，所述垂向作用组件包括作用件，所述作用件上具有作用端，所述作用端沿竖向正对所述承片台组件，所述作用端设置有第一作用部和第二作用部，所述第一作用部用于对所述承片台组件提供向上的作用力，所述第二作用部用于对所述承片台组件提供向下的作用力。
8、可选地，所述第一作用部和所述第二作用部设置有多个，所述第一作用部和所述第二作用部在所述作用端上沿周向交替设置。
9、可选地，所述作用件呈环形，所述作用件延其轴向的一端作为所述作用端，所述第一作用部和所述第二作用部围绕所述作用件的中轴线周向设置。
10、可选地，所述第一作用部包括开设于所述作用端的第一气孔，所述第一气孔用于通入或吸出气体以对所述承片台组件提供向上的气压作用力。
11、可选地，所述第一气孔用于通入正压气体以对所述承片台组件的底部提供向上的气压作用力。
12、可选地，所述第一作用部还包括设置于所述作用端的作用平面，所述第一气孔开设于所述作用平面。
13、可选地，其特征在于，所述第二作用部包括开设于所述作用端的第二气孔，所述第二气孔用于通入或吸出气体以对所述承片台组件提供向下的气压作用力。
14、可选地，所述第二气孔用于吸出气体以对所述承片台组件的下端提供向下的气压作用力。
15、可选地，所述第二作用部还包括开设于所述作用端的吸附槽，所述第二气孔开设于所述吸附槽的槽底。
16、可选地，所述第一作用部包括作用平面时，所述作用平面高于所述吸附槽的槽底。
17、可选地，所述作用件的作用端还设置有隔离结构，所述隔离结构隔离于相邻的所述第一作用部和所述第二作用部之间。
18、可选地，所述隔离结构包括开设于所述作用端的隔离槽。
19、可选地，所述垂向作用组件包括第一磁吸和第二磁吸，所述第一磁吸和所述第二磁吸其一设置于所述承片台组件、另一设置于所述基座，所述第一磁吸和所述第二磁吸至少一者磁极可改变，所述第一磁吸和所述第二磁吸沿竖向正对设置。
20、可选地，所述作用件位于所述承片台组件的下方，所述作用件的上端作为所述作用端，所述作用端沿竖向正对所述承片台组件的下端。
21、可选地，所述承片台组件包括吸盘和转动座，所述转动座以可沿自身中轴线为中心转动的方式安装于所述基座上，所述转动座的转动中轴线竖向延伸；所述吸盘设置于所述转动座，吸盘的上端具有吸附区用于承载并吸附待吸附件，所述垂向作用组件用于对所述转动座施加所述作用力。
22、本专利技术还提供了一种光刻设备，所述光刻设备安装有上述所述的大基底的运动平台。
23、综上所述，大基底的运动平台包括：承片台组件、基座以及垂向作用组件；所述承片台组件设置于所述基座，所述垂向作用组件用于为所述承片台组件施加作用力；所述作用力包括向上的作用力和向下的作用力；所述向上的作用力单独施加或者所述向上的作用力和所述向下的作用力同时施加时，所述垂向作用组件以非接触的方式施加所述作用力；所述向上的作用力和所述向下的作用力同时施加时，所述向下的作用力小于向上的作用力；所述向下的作用力单独施加时，用于锁定所述基座。
24、如此配置，该运动平台配置有垂向作用组件，通过垂向作用组件对承片台组件提供向上的作用力以及向下的作用力，其中向上的作用力用于补偿其重力，以减小作用于轴承上的作用力，利于提高承片台组件旋转过程中的稳定性，延长轴承使用寿命；向下的作用力可提高承片台组件的刚度，进一步保证承片台的稳定性。另外向下的作用力单独作用于承片台组件时，可吸附所述承片台组件并锁定承片台组件，使得承片台组件实现在任意旋转角度下的机械锁紧，同时也可保证在设备断电或异常断电时，使承片台组件快速停机，消除安全隐患。
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1.一种大基底的运动平台，其特征在于，包括：承片台组件、基座以及垂向作用组件；
2.如权利要求1所述的大基底的运动平台，其特征在于，所述垂向作用组件包括作用件，所述作用件上具有作用端，所述作用端沿竖向正对所述承片台组件，所述作用端设置有第一作用部和第二作用部，所述第一作用部用于对所述承片台组件提供向上的作用力，所述第二作用部用于对所述承片台组件提供向下的作用力。
3.如权利要求2所述的大基底的运动平台，其特征在于，所述第一作用部和所述第二作用部设置有多个，所述第一作用部和所述第二作用部在所述作用端上沿周向交替设置。
4.如权利要求3所述的大基底的运动平台，其特征在于，所述作用件呈环形，所述作用件延其轴向的一端作为所述作用端，所述第一作用部和所述第二作用部围绕所述作用件的中轴线周向设置。
5.如权利要求2所述的大基底的运动平台，其特征在于，所述第一作用部包括开设于所述作用端的第一气孔，所述第一气孔用于通入或吸出气体以对所述承片台组件提供向上的气压作用力。
6.如权利要求5所述的大基底的运动平台，其特征在于，所述第一气孔用于
7.如权利要求5所述的大基底的运动平台，其特征在于，所述第一作用部还包括设置于所述作用端的作用平面，所述第一气孔开设于所述作用平面。
8.如权利要求2所述的大基底的运动平台，其特征在于，所述第二作用部包括开设于所述作用端的第二气孔，所述第二气孔用于通入或吸出气体以对所述承片台组件提供向下的气压作用力。
9.如权利要求8所述的大基底的运动平台，其特征在于，所述第二气孔用于吸出气体以对所述承片台组件的下端提供向下的气压作用力。
10.如权利要求8所述的大基底的运动平台，其特征在于，所述第二作用部还包括开设于所述作用端的吸附槽，所述第二气孔开设于所述吸附槽的槽底。
11.如权利要求10所述的大基底的运动平台，其特征在于，所述第一作用部包括作用平面时，所述作用平面高于所述吸附槽的槽底。
12.如权利要求3所述的大基底的运动平台，其特征在于，所述作用件的作用端还设置有隔离结构，所述隔离结构隔离于相邻的所述第一作用部和所述第二作用部之间。
13.如权利要求12所述的大基底的运动平台，其特征在于，所述隔离结构包括开设于所述作用端的隔离槽。
14.如权利要求1所述的大基底的运动平台，其特征在于，所述垂向作用组件包括第一磁吸和第二磁吸，所述第一磁吸和所述第二磁吸其一设置于所述承片台组件、另一设置于所述基座，所述第一磁吸和所述第二磁吸至少一者磁极可改变，所述第一磁吸和所述第二磁吸沿竖向正对设置。
15.如权利要求1所述的大基底的运动平台，其特征在于，所述作用件位于所述承片台组件的下方，所述作用件的上端作为所述作用端，所述作用端沿竖向正对所述承片台组件的下端。
16.如权利要求1所述的大基底的运动平台，其特征在于，所述承片台组件包括吸盘和转动座，所述转动座以可沿自身中轴线为中心转动的方式安装于所述基座上，所述转动座的转动中轴线竖向延伸；所述吸盘设置于所述转动座，吸盘的上端具有吸附区用于承载并吸附待吸附件，所述垂向作用组件用于对所述转动座施加所述作用力。
17.一种光刻设备，其特征在于，所述光刻设备安装有权利要求1-16任意一项所述的大基底的运动平台。
...【技术特征摘要】
1.一种大基底的运动平台，其特征在于，包括：承片台组件、基座以及垂向作用组件；
2.如权利要求1所述的大基底的运动平台，其特征在于，所述垂向作用组件包括作用件，所述作用件上具有作用端，所述作用端沿竖向正对所述承片台组件，所述作用端设置有第一作用部和第二作用部，所述第一作用部用于对所述承片台组件提供向上的作用力，所述第二作用部用于对所述承片台组件提供向下的作用力。
3.如权利要求2所述的大基底的运动平台，其特征在于，所述第一作用部和所述第二作用部设置有多个，所述第一作用部和所述第二作用部在所述作用端上沿周向交替设置。
4.如权利要求3所述的大基底的运动平台，其特征在于，所述作用件呈环形，所述作用件延其轴向的一端作为所述作用端，所述第一作用部和所述第二作用部围绕所述作用件的中轴线周向设置。
5.如权利要求2所述的大基底的运动平台，其特征在于，所述第一作用部包括开设于所述作用端的第一气孔，所述第一气孔用于通入或吸出气体以对所述承片台组件提供向上的气压作用力。
6.如权利要求5所述的大基底的运动平台，其特征在于，所述第一气孔用于通入正压气体以对所述承片台组件的底部提供向上的气压作用力。
7.如权利要求5所述的大基底的运动平台，其特征在于，所述第一作用部还包括设置于所述作用端的作用平面，所述第一气孔开设于所述作用平面。
8.如权利要求2所述的大基底的运动平台，其特征在于，所述第二作用部包括开设于所述作用端的第二气孔，所述第二气孔用于通入或吸出气体以对所述承片台组件提供向下的气压作用力。
9.如权利要求8所述的大基底的运动平台，其特征在于，所述第二气孔用于吸出气体以...
【专利技术属性】
技术研发人员：杨博光，蔡晨，王鑫鑫，郎新科，冒鹏飞，
申请(专利权)人：上海微电子装备集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：
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