【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及镀膜，尤其涉及一种保鲜膜表面的镀膜方法。
技术介绍
1、目前，保鲜膜在食品、医疗等行业的应用越来越广泛，其具有易成型、重量轻、价格低廉等优点，能够有效的使被包装物和空气隔绝，达到一定的保鲜效果。
2、然而，低分子的氧气仍然可以透过保鲜膜进入包装内部，使得被包装物被氧化，从而削减被包装物的保鲜效果。
技术实现思路
1、本专利技术实施例的目的在于，提供一种保鲜膜表面的镀膜方法，通过在保鲜膜表面进行真空镀膜，使得镀膜后的保鲜膜具有光滑紧致、不亲油的特点，氧分子无法透过保鲜膜，能够有效避免被包装物被氧化，从而延长了保鲜时间，增强了保鲜效果。
2、为了实现上述目的，本专利技术实施例提供了一种保鲜膜表面的镀膜方法，包括：
3、采用磁控溅射离子镀在保鲜膜的表面上沉积碳过渡层；
4、采用磁控溅射离子镀在所述碳过渡层的表面上沉积复合物层；
5、在所述复合物层的表面上掺杂氟离子，以在所述复合物层的表面上沉积氟层。
6、进一步地，所述采用磁控溅射离子镀在保鲜膜的表面上沉积碳过渡层，具体包括：
7、将保鲜膜置于真空室内，并抽真空至真空度在1.0×10-3pa以上，控制所述真空室内的温度保持在20℃～50℃；
8、向所述真空室内通入氩气，并将所述真空室内的气压控制在0.8～1.0pa；
9、开启碳靶，采用磁控溅射离子镀在所述保鲜膜的表面上沉积形成碳过渡层；其中，所述碳靶的电流为1.0～1
10、进一步地，所述碳过渡层的厚度为20nm。
11、进一步地，所述采用磁控溅射离子镀在所述碳过渡层的表面上沉积复合物层，具体包括：
12、将所述真空室内的真空度调整为1.5×10-3pa以上，向所述真空室内通入氮气，并将所述真空室内的气压控制在0.5pa；
13、开启钛靶和碳靶，采用磁控溅射离子镀在所述碳过渡层的表面上沉积形成复合物层；其中，所述钛靶的电流为0.5a，所述碳靶的电流为2.5a，施加的偏压为-150v，偏压频率为120khz。
14、进一步地，所述复合物层的厚度为10～15nm。
15、进一步地，所述在所述复合物层的表面上掺杂氟离子，以在所述复合物层的表面上沉积氟层，具体包括：
16、在所述真空室内的真空度为3.5×10-4pa的条件下，以四氟化碳作为掺杂气体，采用零偏压掺杂的方式在所述复合物层的表面上掺杂氟离子，以在所述复合物层的表面上沉积形成氟层；其中，所述四氟化碳的流量为80sccm，离子能量为400ev，离子束密度为100μa/cm2。
17、进一步地，所述氟层的掺杂时间为20min。
18、进一步地，所述氟层的沉积速率为
19、进一步地，所述氟层的厚度为5nm。
20、进一步地，所述碳过渡层、所述复合物层和所述氟层的总厚度为20～50nm。
21、与现有技术相比，本专利技术实施例提供了一种保鲜膜表面的镀膜方法，首先，采用磁控溅射离子镀在保鲜膜的表面上沉积碳过渡层；接着，采用磁控溅射离子镀在碳过渡层的表面上沉积复合物层；最后，在复合物层的表面上掺杂氟离子，以在复合物层的表面上沉积氟层。本专利技术实施例通过在保鲜膜表面进行真空镀膜，使得镀膜后的保鲜膜具有光滑紧致、不亲油的特点，氧分子无法透过保鲜膜，能够有效避免被包装物被氧化，从而延长了保鲜时间，增强了保鲜效果。
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1.一种保鲜膜表面的镀膜方法，其特征在于，包括：
2.如权利要求1所述的保鲜膜表面的镀膜方法，其特征在于，所述采用磁控溅射离子镀在保鲜膜的表面上沉积碳过渡层，具体包括：
3.如权利要求2所述的保鲜膜表面的镀膜方法，其特征在于，所述碳过渡层的厚度为20nm。
4.如权利要求2所述的保鲜膜表面的镀膜方法，其特征在于，所述采用磁控溅射离子镀在所述碳过渡层的表面上沉积复合物层，具体包括：
5.如权利要求4所述的保鲜膜表面的镀膜方法，其特征在于，所述复合物层的厚度为10～15nm。
6.如权利要求4所述的保鲜膜表面的镀膜方法，其特征在于，所述在所述复合物层的表面上掺杂氟离子，以在所述复合物层的表面上沉积氟层，具体包括：
7.如权利要求6所述的保鲜膜表面的镀膜方法，其特征在于，所述氟层的掺杂时间为20min。
8.如权利要求6所述的保鲜膜表面的镀膜方法，其特征在于，所述氟层的沉积速率为
9.如权利要求6所述的保鲜膜表面的镀膜方法，其特征在于，所述氟层的厚度为5nm。
10.如权利要求1
...【技术特征摘要】
1.一种保鲜膜表面的镀膜方法，其特征在于，包括：
2.如权利要求1所述的保鲜膜表面的镀膜方法，其特征在于，所述采用磁控溅射离子镀在保鲜膜的表面上沉积碳过渡层，具体包括：
3.如权利要求2所述的保鲜膜表面的镀膜方法，其特征在于，所述碳过渡层的厚度为20nm。
4.如权利要求2所述的保鲜膜表面的镀膜方法，其特征在于，所述采用磁控溅射离子镀在所述碳过渡层的表面上沉积复合物层，具体包括：
5.如权利要求4所述的保鲜膜表面的镀膜方法，其特征在于，所述复合物层的厚度为10～15nm。
6.如权利要求4...
【专利技术属性】
技术研发人员：陈儒，
申请(专利权)人：东莞新科技术研究开发有限公司，
类型：发明
国别省市：
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