【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种钢化低辐射镀膜玻璃及其制备方法，特别涉及一种用于近零能耗建筑用钢化低辐射镀膜玻璃及其制备方法，属于玻璃生产加工领域。
技术介绍
1、镀膜玻璃(reflective glass)也称反射玻璃。镀膜玻璃是在玻璃表面涂镀一层或多层金属、合金或金属化合物薄膜，以改变玻璃的光学性能，满足某种特定要求。镀膜玻璃按产品的不同特性，可分为以下几类：热反射玻璃、低辐射玻璃(low-e)、导电膜玻璃等。
2、镀膜玻璃的生产方法很多，如真空磁控溅射法、真空蒸发法、化学气相沉积法以及溶胶-凝胶法等。磁控溅射镀膜玻璃利用磁控溅射技术可以设计制造多层复杂膜系，可在白色玻璃基片上镀出多种颜色，膜层的耐腐蚀和耐磨性能较好，是目前生产和使用最多的技术。真空蒸发镀膜玻璃的品种和质量与磁控溅射镀膜玻璃相比均存在一定差距，已逐步被真空溅射法取代。化学气相沉积法是在浮法玻璃生产线上通入反应气体在灼热的玻璃表面分解，均匀地沉积在玻璃表面形成镀膜玻璃的技术。该方法的设备投入少、易调控，产品成本低、化学稳定性好、可热加工，是目前最有发展前途的生产方法之一。溶胶-凝胶法生产镀膜玻璃工艺简单，稳定性好，不足之处是产品光透射比太高，装饰性较差。
3、磁控溅射法是目前世界范围内应用最多、工艺最稳定、性能最好(辐射率e值≤0.12)、品种最丰富、能源需求相对较低的镀膜玻璃生产工艺。由于这种生产工艺不需要与浮法玻璃生产线捆绑在一起使用，即可以将浮法玻璃生产与玻璃镀膜工艺分开进行，有效的降低了玻璃深加工企业重复建设浮法玻璃生产线、减少了二氧化碳排放
4、磁控溅射镀膜的原理是在被溅射的靶极(阴极)与阳极之间加一个正交磁场和电场，在高真空室中充入所需要的惰性气体(通常为ar气)，永久磁铁在靶材料表面形成250～350高斯的磁场，同高压电场组成正交电磁场。在电场的作用下，氩气电离成正离子和电子，在靶上加有一定的负高压，从靶极发出的电子受磁场的作用与工作气体的电离几率增大，在阴极附近形成高密度的等离子体，ar离子在洛仑兹力的作用下加速飞向靶面，以很高的速度轰击靶面，靶上被溅射出来的原子以较高的动能脱离靶面飞向玻璃基片并淀积成膜。
5、目前应用最多的热反射玻璃和低辐射玻璃基本上采用真空磁控溅射法和化学气相沉积法生产。国际上比较著名的真空磁控溅射法设备生产厂家有boc公司(美国)和莱宝公司(德国)；化学气相沉积法设备厂家有皮尔金顿公司(英国)等。目前，我国已经出现数百家镀膜玻璃生产厂家，在行业中影响较大的真空磁控溅射法生产厂家有中国南玻集团公司和上海阳光镀膜玻璃公司等，化学气相沉积法生产厂家有山东蓝星玻璃公司和长江浮法玻璃公司等。
6、目前，低辐射镀膜玻璃已从单银low-e玻璃发展到了三银low-e玻璃，三银低辐射镀膜玻璃实现功能与异地热处理加工的技术迭代，为普及节能玻璃/建筑、改善人类居住舒适性做出了重大贡献。现有镀膜玻璃的光热比达不到进零能耗建筑用，阳光控制镀膜玻璃的光热比为0.5-0.9；单银low-e玻璃的光热比为1.1-1.3；双银low-e玻璃的光热比为1.4-1.7，节能性较差；虽然现有的三银low-e玻璃的光热比可以达到1.7-2.1，但是存在不能异地钢化处理的技术问题。
7、本专利技术的钢化低辐射玻璃可以调控光热比，光热比高，达到2.2以上(可见光透过率÷太阳能总透过率≈光热比lsg)；解决了目前建筑既要高的透射比，又要低的遮阳问题，适当的调低了传热系数，满足大幕墙玻璃的国家标准要求。
8、本专利技术的钢化低辐射镀膜玻璃可以在异地进行钢化热处理，处理的玻璃的尺寸大，生产效率高，解决了现有三银低辐射镀膜玻璃不能异地钢化处理的技术难题。
9、本专利技术选用特定的镍铬、硅铝、氧化锌铝、银、氧化锌锡、氧化锆等为溅射靶材制作的高品质钢化低辐射镀膜玻璃，色彩鲜艳且容易调节、质量稳定、制作效率高；而且，本专利技术方法制作的钢化低辐射镀膜玻璃，对波长在4.5～25微米范围内的中、远红外线有较高的反射比，与现有的三银low-e玻璃相比；大幅度的降低建筑能耗，夏季节约空调制冷费用，冬季节约采暖费用；且产品的室外反射率低，光线柔和，远低于国家规范要求的16％以下，特别适用于不同地域、环境、场景的高层、超高层建筑对建筑室外可见光反射“光污染”需求，不会对人的肉眼(特别是驾车人员)产生较强反射光刺激，避免交替事故产生，适宜长期使用，是我国工信部推广产品。
10、采用本专利技术的三银低辐射镀膜玻璃的建筑达到了国家标准gb55015-2021《建筑节能与可再生能源利用通用规范》的要求，符合建筑节能要求。
11、太阳能反射率、遮阳系数和太阳能总透过率，太阳能反射率+吸收率+透过＝100％，太阳能透过率越低说明室外热量进入室内的越少，越能节约夏季的制冷费用，太阳能室内反射率越高越能锁住夏季空调冷气、冬季采暖热量通过玻璃散发到室外。
12、不同膜层构造的镀膜玻璃的颜色不同，玻璃的性能不同，本专利技术的钢化低辐射镀膜玻璃的膜结构设计合理、膜层的厚度设计科学，反射层(第2、3银层)的膜结构设置位置和厚度合理，不仅起到反射的功效，还可以使得本专利技术的钢化低辐射镀膜玻璃在进行钢化处理的过程中，在钢化炉内反射热量相对温和，膜层在钢化稳定下保持完整，不破坏膜层，可以异地进行大幅面的镀膜玻璃的钢化处理。
技术实现思路
1、本专利技术的首要目的是针对使用现有三银镀膜玻璃的建筑不能达到近零能耗建筑要求的技术缺陷，提供一种钢化低辐射镀膜玻璃的制备方法，本专利技术方法制备的钢化低辐射镀膜玻璃具有三层银膜层，为用于近零能耗建筑用的钢化镀膜玻璃，制备的钢化低辐射镀膜玻璃呈浅灰色，达到近零能耗建筑降低建筑冷热需求，提升能源系统的能效，达到超低能耗的要求和标准；采用本专利技术方法制备的钢化镀膜玻璃的建筑达到了国家标准gb55015-2021《建筑节能与可再生能源利用通用规范》的要求，符合建筑节能要求。
2、为实现本专利技术的目的，本专利技术提供钢化低辐射镀膜玻璃的制备方法，包括如下顺序进行的步骤：
3、1)烧结靶材
4、将靶材硅铝合金、氧化锌铝合金、镍铬合金、银、氧化锌锡、氧化锆分别烧结在玻璃镀膜机的真空溅射室的靶位上，备用；
5、2)玻璃的预处理
6、将待镀膜处理的玻璃基片置于真空状态下，进行排湿、脱气处理，降低玻璃表面沉积的水份和气体，制得排湿、脱气玻璃基片；
7、3)镀膜处理
8、将排湿、脱气玻璃基片送入分别烧结有硅铝合金、氧化锌铝合金、镍铬合金、银、氧化锌锡合金、氧化锆靶材的玻璃镀膜机的真空磁控溅射室内，在排湿、脱气玻璃基片的表面顺序进行第一硅铝膜层；第二氧化锌铝膜层；第三镍铬合金膜层；第四银膜层；第五镍铬合金膜层；第六氧化锌铝膜层；第七硅铝膜层；第八氧化锌铝膜层；第九镍铬合金膜层；第十银膜层；第十一镍铬金膜层；第十二氧化锌铝膜层；第十三硅本文档来自技高网...
【技术保护点】
1.一种钢化低辐射镀膜玻璃的制备方法，其特征是，包括如下顺序进行的步骤：
2.如权利要求1所述的制备方法，其特征是，步骤3)中所述第一硅铝合金膜层的厚度为50.0～80.0nm；所述第二氧化锌铝合金膜层的厚度为10.0～30.0nm；所述第三镍铬合金层的厚度为0.5～3.0nm；所述第四银膜层的厚度为8.0～15.0nm；所述第五镍铬合金膜层的厚度为1.0～3.0nm；所述第六氧化锌铝合金膜层的厚度为10.0～30.0nm；所述第七硅铝合金膜层的厚度为300.0～420.0nm；所述第八氧化锌铝合金膜层的厚度为15.0～35.0nm；所述第九镍铬合金膜层的厚度为1.0～5.0nm；所述第十银膜层的厚度为5.0～15.0nm；所述第十一镍铬合金膜层的厚度为1.0～5.0nm；所述第十二氧化锌铝合金膜层的厚度为15.0～50.0nm；所述第十三硅铝合金膜层的厚度为130.0～200.0nm；所述第十四氧化锌锡合金膜层的厚度为15.0～50.0nm；所述第十五硅铝合金膜层的厚度为100.0～200.0nm；所述第十六氧化锌铝合金膜层的厚度为10.0～40.0nm；所述第十七
3.如权利要求1所述的制备方法，其特征是，步骤3)中所述第一硅铝合金膜层的厚度为55.0～65.0nm；所述第二氧化锌铝合金膜层的厚度为18.0～22.0nm；所述第三镍铬合金层的厚度为1.0～1.8nm；所述第四银膜层的厚度为10.0～13.0nm；所述第五镍铬合金膜层的厚度为1.2～1.8nm；所述第六氧化锌铝合金膜层的厚度为18.0～25.0nm；所述第七硅铝合金膜层的厚度为315.0～335.0nm；所述第八氧化锌铝合金膜层的厚度为15.0～30.0nm；所述第九镍铬合金膜层的厚度为2.0～3.0nm；所述第十银膜层的厚度为9～12.0nm；所述第十一镍铬合金膜层的厚度为1.2～2.2nm；所述第十二氧化锌铝合金膜层的厚度为25.0～35.0nm；所述第十三硅铝合金膜层的厚度为145.0～160.0nm；所述第十四氧化锌锡合金膜层的厚度为24.0～30.0nm；所述第十五硅铝合金膜层的厚度为120.0～140.0nm；所述第十六氧化锌铝合金膜层的厚度为18.0～25.0nm；所述第十七镍铬合金膜层的厚度为1.2～2.2nm；所述第十八银膜层的厚度为10.0～13.0nm；所述第十九镍铬合金膜层的厚度为1.5～2.5nm；所述第二十氧化锌铝合金膜层的厚度为15.0～25.0nm；所述第二十一硅铝合金膜层的厚度为165.0～175.0nm；所述第二十二氧化锆合金膜层的厚度为22.0～30.0nm。
4.如权利要求1所述的制备方法，其特征是，步骤3)中所述第一硅铝合金膜层分两次镀覆处理而成；所述第七硅铝合金膜层分六次镀覆处理而成；所述第十三硅铝合金膜层分四次镀覆处理而成；所述第十五硅铝合金膜层分两次镀覆处理而成；所述第二十一硅铝合金膜层分四次镀覆处理而成；所述第八氧化锌铝合金膜层分二次镀覆处理而成；所述第十二氧化锌铝合金膜层分二次镀覆处理而成；所述第十四氧化锌锡合金膜层分二次镀覆处理而成；所述第二十二氧化锆膜层分二次镀覆处理而成。
5.如权利要求1-4任一所述的制备方法，其特征是，步骤2)中所述排湿、脱气处理是将待镀膜玻璃分2个处理阶段降低玻璃表面沉积的水份和气体，制得所述的排湿、脱气玻璃。
6.如权利要求5所述的制备方法，其特征是，所述排湿、脱气处理过程中第一处理阶段中的绝对压力高于第二处理阶段中的绝对压力。
7.如权利要求6所述的制备方法，其特征是，第1处理阶段过程中的绝对压力5.0～6.0×10－2mbar；第2处理阶段过程中的绝对压力为3.0～6.0×10-5mbar。
8.如权利要求1-3任一所述的制备方法，其特征是，步骤4)中所述钢化处理过程中控制加热时间为400～500s；钢化加热炉的温度为630～710℃；加热炉内玻璃上部温度为650～695℃、下部为630～680℃。
9.如权利要求1-3任一所述的制备方法，其特征是，步骤4)中所述钢化处理过程中控制玻璃急冷淬火处理中的急冷风压大于2500Pa；控制淬火处理后的冷却风压为1000～2000Pa。
10.一种按照如权利要求1-9任一所述方法制备而成的钢化低辐射镀膜玻璃，其特征是...
【技术特征摘要】
1.一种钢化低辐射镀膜玻璃的制备方法，其特征是，包括如下顺序进行的步骤：
2.如权利要求1所述的制备方法，其特征是，步骤3)中所述第一硅铝合金膜层的厚度为50.0～80.0nm；所述第二氧化锌铝合金膜层的厚度为10.0～30.0nm；所述第三镍铬合金层的厚度为0.5～3.0nm；所述第四银膜层的厚度为8.0～15.0nm；所述第五镍铬合金膜层的厚度为1.0～3.0nm；所述第六氧化锌铝合金膜层的厚度为10.0～30.0nm；所述第七硅铝合金膜层的厚度为300.0～420.0nm；所述第八氧化锌铝合金膜层的厚度为15.0～35.0nm；所述第九镍铬合金膜层的厚度为1.0～5.0nm；所述第十银膜层的厚度为5.0～15.0nm；所述第十一镍铬合金膜层的厚度为1.0～5.0nm；所述第十二氧化锌铝合金膜层的厚度为15.0～50.0nm；所述第十三硅铝合金膜层的厚度为130.0～200.0nm；所述第十四氧化锌锡合金膜层的厚度为15.0～50.0nm；所述第十五硅铝合金膜层的厚度为100.0～200.0nm；所述第十六氧化锌铝合金膜层的厚度为10.0～40.0nm；所述第十七镍铬合金膜层的厚度为0.5～5.0nm；所述第十八银膜层的厚度为8.0～15.0nm；所述第十九镍铬合金膜层的厚度为1.0～3.0nm；所述第二十氧化锌铝合金膜层的厚度为10.0～30.0nm；所述第二十一硅铝合金膜层的厚度为150.0～200.0nm；所述第二十二氧化锆合金膜层的厚度为10.0～50.0nm。
3.如权利要求1所述的制备方法，其特征是，步骤3)中所述第一硅铝合金膜层的厚度为55.0～65.0nm；所述第二氧化锌铝合金膜层的厚度为18.0～22.0nm；所述第三镍铬合金层的厚度为1.0～1.8nm；所述第四银膜层的厚度为10.0～13.0nm；所述第五镍铬合金膜层的厚度为1.2～1.8nm；所述第六氧化锌铝合金膜层的厚度为18.0～25.0nm；所述第七硅铝合金膜层的厚度为315.0～335.0nm；所述第八氧化锌铝合金膜层的厚度为15.0～30.0nm；所述第九镍铬合金膜层的厚度为2.0～3.0nm；所述第十银膜层的厚度为9～12.0nm；所述第十一镍铬合金膜层的厚度为1.2～2.2nm；所述第十二氧化锌铝合金膜层的厚度为25.0～35.0nm；所述第十三硅铝合金膜层的厚度为145.0～160.0nm；所述第十四氧化锌锡合金膜层的厚度为2...
【专利技术属性】
技术研发人员：田永刚，张润第，陈玉平，
申请(专利权)人：新福兴玻璃工业集团有限公司，
类型：发明
国别省市：
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