【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及缺陷检测，尤其涉及一种透光薄膜缺陷检测方法、装置、设备、存储介质及产品。
技术介绍
1、透光薄膜在集成电路、光电器件、微纳制造等高端工业制造业应用广泛。随着现代加工精度的显著提高，传统的人工目视的透光薄膜缺陷检测方法已经无法适应大规模工业自动化生产的需求。目前主要采用基于机器视觉的透光薄膜缺陷检测方法，但该方法也存在一些局限性。一方面，该方法的检测精度在很大程度上依赖于缺陷图像的质量和特征标注的准确性。另一方面，由于透光薄膜内部缺陷样本的采集难度较高，缺陷样本数量不够，该方法的检测精度难以提升。因此，如何提高透光薄膜缺陷检测的精度，是当前亟待解决的问题。
技术实现思路
1、本专利技术提供一种透光薄膜缺陷检测方法、装置、设备、存储介质及产品，基于理论光场分布特征构建预设缺陷反演理论模型，结合理论光场分布特征和实际光场分布特征，提高透光薄膜缺陷检测的精度。
2、为了实现上述目的，本专利技术实施例提供了一种透光薄膜缺陷检测方法，包括：
3、对目标透光薄膜进行缺陷检测，得到所述目标透光薄膜的实际光场分布特征；
4、根据所述实际光场分布特征，采用预设缺陷反演理论模型对所述目标透光薄膜进行缺陷参数反演，得到所述目标透光薄膜的实际缺陷结果；其中，所述预设缺陷反演理论模型是通过透光薄膜的理论光场分布特征构建的。
5、作为上述方案的改进，所述预设缺陷反演理论模型是通过透光薄膜的理论光场分布特征构建的，包括：
6、根据透光薄膜的
7、根据所述缺陷仿真数据集，构建所述透光薄膜的预设缺陷反演理论模型。
8、作为上述方案的改进，所述根据透光薄膜的理论光场分布特征，建立所述透光薄膜的缺陷仿真数据集，包括：
9、建立透光薄膜的缺陷检测仿真模型，设定所述缺陷检测仿真模型的光源参数以及所述透光薄膜的标准参数和缺陷参数；
10、根据所述光源参数对不同的标准参数和缺陷参数组合下的透光薄膜进行缺陷仿真，获取所述透光薄膜的理论散射光场分布和理论透射光场分布；
11、对所述理论散射光场分布和理论透射光场分布进行数据处理，得到所述透光薄膜的理论光场分布特征；
12、根据所述理论光场分布特征，建立所述光源参数和所述标准参数对应的缺陷仿真数据集。
13、作为上述方案的改进，所述根据所述缺陷仿真数据集，构建所述透光薄膜的预设缺陷反演理论模型，包括：
14、将所述缺陷仿真数据集分为训练集、验证集和测试集；
15、使用深度学习算法对所述训练集进行模型训练，得到训练后的模型；
16、采用所述验证集对所述模型进行性能评估，且通过所述测试集对评估后的模型进行优化，得到所述透光薄膜的预设缺陷反演理论模型。
17、作为上述方案的改进，所述对目标透光薄膜进行缺陷检测，得到所述目标透光薄膜的实际光场分布特征，包括：
18、获取目标透光薄膜的实际标准参数；根据所述实际标准参数，匹配光学检测系统中的实际光源参数；
19、根据所述实际光源参数，通过所述光学检测系统对所述目标透光薄膜进行缺陷检测，提取所述目标透光薄膜的实际散射光场分布和实际透射光场分布；
20、根据所述实际散射光场分布和实际透射光场分布，得到所述目标透光薄膜的实际光场分布特征。
21、作为上述方案的改进，所述根据所述实际光场分布特征，采用预设缺陷反演理论模型对所述目标透光薄膜进行缺陷参数反演，得到所述目标透光薄膜的实际缺陷结果，包括：
22、将所述实际标准参数、所述实际光源参数和所述实际光场分布特征输入预设缺陷反演理论模型；
23、对所述目标透光薄膜的缺陷参数进行反演，计算所述实际光场分布特征与所述理论光场分布特征的匹配概率，并选择所述匹配概率最高的理论光场分布特征作为目标理论光场分布特征；
24、将所述目标理论光场分布特征对应的缺陷参数作为所述目标透光薄膜的实际缺陷结果。
25、为了实现上述目的，本专利技术实施例提供了一种透光薄膜缺陷检测装置，包括：
26、分布特征检测模块，用于对目标透光薄膜进行缺陷检测，得到所述目标透光薄膜的实际光场分布特征；
27、缺陷结果获取模块，用于根据所述实际光场分布特征，采用预设缺陷反演理论模型对所述目标透光薄膜进行缺陷参数反演，得到所述目标透光薄膜的实际缺陷结果；其中，所述预设缺陷反演理论模型是通过透光薄膜的理论光场分布特征构建的。
28、为了实现上述目的，本专利技术实施例对应提供了一种透光薄膜缺陷检测设备，包括处理器、存储器以及存储在所述存储器中且被配置为由所述处理器执行的计算机程序，所述处理器执行所述计算机程序时实现上述透光薄膜缺陷检测方法。
29、为了实现上述目的，本专利技术实施例还提供了一种计算机可读存储介质，所述计算机可读存储介质包括存储的计算机程序，其中，在所述计算机程序运行时控制所述计算机可读存储介质所在设备执行上述透光薄膜缺陷检测方法。
30、为实现上述目的，本专利技术实施例还提供了一种计算机程序产品，所述计算机程序产品被存储在存储介质中，所述程序产品被至少一个处理器执行以实现上述的透光薄膜缺陷检测方法的步骤。
31、与现有技术相比，本专利技术实施例公开的一种透光薄膜缺陷检测方法、装置、设备、存储介质及产品，通过对目标透光薄膜进行缺陷检测，得到所述目标透光薄膜的实际光场分布特征；根据所述实际光场分布特征，采用预设缺陷反演理论模型对所述目标透光薄膜进行缺陷参数反演，得到所述目标透光薄膜的实际缺陷结果；其中，所述预设缺陷反演理论模型是通过透光薄膜的理论光场分布特征构建的。能够基于理论光场分布特征构建预设缺陷反演理论模型，结合理论光场分布特征和实际光场分布特征进行缺陷检测，提高透光薄膜缺陷检测的精度。
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1.一种透光薄膜缺陷检测方法，其特征在于，包括：
2.如权利要求1所述的透光薄膜缺陷检测方法，其特征在于，所述预设缺陷反演理论模型是通过透光薄膜的理论光场分布特征构建的，包括：
3.如权利要求2所述的透光薄膜缺陷检测方法，其特征在于，所述根据透光薄膜的理论光场分布特征，建立所述透光薄膜的缺陷仿真数据集，包括：
4.如权利要求2所述的透光薄膜缺陷检测方法，其特征在于，所述根据所述缺陷仿真数据集，构建所述透光薄膜的预设缺陷反演理论模型，包括：
5.如权利要求1所述的透光薄膜缺陷检测方法，其特征在于，所述对目标透光薄膜进行缺陷检测，得到所述目标透光薄膜的实际光场分布特征，包括：
6.如权利要求5所述的透光薄膜缺陷检测方法，其特征在于，所述根据所述实际光场分布特征，采用预设缺陷反演理论模型对所述目标透光薄膜进行缺陷参数反演，得到所述目标透光薄膜的实际缺陷结果，包括：
7.一种透光薄膜缺陷检测装置，其特征在于，包括：
8.一种透光薄膜缺陷检测设备，其特征在于，包括处理器、存储器以及存储在所述存储器中且被配置
9.一种计算机可读存储介质，其特征在于，所述计算机可读存储介质包括存储的计算机程序，其中，在所述计算机程序运行时控制所述计算机可读存储介质所在设备执行如权利要求1-6中任意一项所述的透光薄膜缺陷检测方法。
10.一种计算机程序产品，其特征在于，所述计算机程序产品被存储在存储介质中，所述程序产品被至少一个处理器执行以实现如权利要求1-6中任意一项所述的透光薄膜缺陷检测方法的步骤。
...【技术特征摘要】
1.一种透光薄膜缺陷检测方法，其特征在于，包括：
2.如权利要求1所述的透光薄膜缺陷检测方法，其特征在于，所述预设缺陷反演理论模型是通过透光薄膜的理论光场分布特征构建的，包括：
3.如权利要求2所述的透光薄膜缺陷检测方法，其特征在于，所述根据透光薄膜的理论光场分布特征，建立所述透光薄膜的缺陷仿真数据集，包括：
4.如权利要求2所述的透光薄膜缺陷检测方法，其特征在于，所述根据所述缺陷仿真数据集，构建所述透光薄膜的预设缺陷反演理论模型，包括：
5.如权利要求1所述的透光薄膜缺陷检测方法，其特征在于，所述对目标透光薄膜进行缺陷检测，得到所述目标透光薄膜的实际光场分布特征，包括：
6.如权利要求5所述的透光薄膜缺陷检测方法，其特征在于，所述根据所述实际光场分布特征，采用预设缺陷反演理论模型对所述目标...
【专利技术属性】
技术研发人员：车振，赵晓萌，马志平，罗亮，
申请(专利权)人：广东省科技基础条件平台中心，
类型：发明
国别省市：
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