【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种用于制造具有结构化装饰的陶瓷基时计或珠宝部件的方法。本专利技术还涉及一种包括通过该方法制造的外部元件和/或表盘的手表。本专利技术涉及用于钟表的外部或显示部件的领域以及珠宝领域。
技术介绍
1、对于装饰部件的制造，难以适当地实现光学效果，尤其是当装饰被同色调配色地附着时，并且装饰的机械结构化会改变装饰的光衍射和外观。
2、rolex名下的欧洲专利申请3067220公开了一种装饰时计元件的方法，包括以下步骤：使用飞秒激光对要装饰的元件的表面进行深蚀刻，以及表面结构化要装饰的时计元件的表面，这两种装饰至少部分地彼此叠置。
3、richemont名下的ch专利713871公开了一种用于具有多个图形元件的时计的部件及其制造方法，该部件包括衬底，该衬底的至少一部分涂覆有具有多个层的涂层，所述多个层包括外层和形成在衬底和外层之间的至少一个中间层，该中间层具有与外层的外观不同的外观；所述涂层包括限定第一图形元件的至少第一开口，所述第一开口具有暴露所述中间层的第一深度；以及限定第二图形元件的第二开口，所述第二开口具有不同于所述第一深度的第二深度；使得该部件具有至少两个图形元件，它们具有彼此不同的外观。
技术实现思路
1、本专利技术提出，开发一种用于产生装饰效果和色调或全息效果、特别是用于同色调配色的方法。
2、为此，本专利技术涉及一种根据权利要求1所述的用于制造具有结构化装饰的陶瓷基时计或珠宝部件的方法。
3、本专利技术还涉及一种包括
4、本专利技术还涉及一种珠宝饰件，该珠宝饰件包括通过根据本专利技术的方法制造的至少一个珠宝部件。
5、所提出的操作模式使得可以在诸如陶瓷、还有蓝宝石、玻璃等的衬底上获得高清晰度的装饰。
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1.一种用于制造具有结构化装饰的陶瓷基时计或珠宝部件的方法，其特征在于，基本循环被执行至少一次，所述基本循环以如下顺序包括以下步骤：
2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，在所述第一制备操作(400)期间，所述第一涂覆操作(500)在所述第二加工操作(600)之前执行。
3.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，在所述第一制备操作(400)期间，所述第二加工操作(600)在所述第二涂覆操作(500)之前执行。
4.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，在所述第二涂覆操作(800)之后，在第四加工操作(900)中，在所述第二层(5)上在凹坑中执行激光烧蚀，在所述凹坑的底部处暴露所述基部(1)的陶瓷材料或所述第一层(2)的第一处理材料。
5.根据权利要求4所述的方法，其特征在于，在所述第四加工操作(700)之后，执行迭代，其中每次执行涂覆操作，其中通过先前操作留下可见的所有表面被涂覆有另一处理材料的另一层的沉积物，然后在新层上在凹坑中执行激光烧蚀，在凹坑的底部处，所述基部的陶瓷材料、或所述第一层的第一处理材料、或在所述新层下面的一层
6.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，在最后的加工操作之后，执行最后的涂覆操作，其中，所述部件的所有可见表面在干法工艺中或在PVD或CVD或ALD工艺中、或在上漆或喷涂清漆工艺中用透明处理材料(5)的透明沉积物进行涂覆。
7.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，在最后的加工操作之后，执行最后的操作，其中，在干法工艺中或在PVD或CVD或ALD工艺或上漆或喷涂清漆工艺中利用着色透明沉积物在所述部件的可见表面上执行半透明着色处理。
8.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述第一层(2)被选择为具有与所述基部的所述陶瓷材料相同的颜色。
9.根据权利要求8所述的方法，其特征在于，所述第一层(2)被选择为具有比所述基部的所述陶瓷材料的着色颜料密度更高的着色颜料密度。
10.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，包括在所述部件中的所有叠置层被选择成具有与所述基部的所述陶瓷材料相同的颜色。
11.根据权利要求10所述的方法，其特征在于，包括在所述部件中的每个叠置层被选择成具有比所述叠置层所涂覆的层的着色颜料密度更高的着色颜料密度，并且具有比所述基部的所述陶瓷材料的着色颜料密度更高的着色颜料密度。
12.根据权利要求8所述的方法，其特征在于，所述颜色被选择为黑色或深灰色。
13.根据权利要求10所述的方法，其特征在于，所述颜色被选择为黑色或深灰色。
14.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述时计或珠宝部件被制造以形成外部元件或表盘。
15.一种手表(1000)，包括根据权利要求1所述的方法制造的钟表或珠宝的至少一个部件。
...【技术特征摘要】
1.一种用于制造具有结构化装饰的陶瓷基时计或珠宝部件的方法，其特征在于，基本循环被执行至少一次，所述基本循环以如下顺序包括以下步骤：
2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，在所述第一制备操作(400)期间，所述第一涂覆操作(500)在所述第二加工操作(600)之前执行。
3.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，在所述第一制备操作(400)期间，所述第二加工操作(600)在所述第二涂覆操作(500)之前执行。
4.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，在所述第二涂覆操作(800)之后，在第四加工操作(900)中，在所述第二层(5)上在凹坑中执行激光烧蚀，在所述凹坑的底部处暴露所述基部(1)的陶瓷材料或所述第一层(2)的第一处理材料。
5.根据权利要求4所述的方法，其特征在于，在所述第四加工操作(700)之后，执行迭代，其中每次执行涂覆操作，其中通过先前操作留下可见的所有表面被涂覆有另一处理材料的另一层的沉积物，然后在新层上在凹坑中执行激光烧蚀，在凹坑的底部处，所述基部的陶瓷材料、或所述第一层的第一处理材料、或在所述新层下面的一层的材料被暴露。
6.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，在最后的加工操作之后，执行最后的涂覆操作，其中，所述部件的所有可见表面在干法工艺中或在pvd或cvd或ald工艺中、或在上漆或喷涂清漆工艺中用透明处理材料(5)的透明沉积物...
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