【技术实现步骤摘要】
本技术涉及电流传感器设备，尤其涉及电流传感器过电回路结构。
技术介绍
1、如图1所示，常规的电流传感器过电结构中的铜排是由一根主路铜排11分叉为三根支路铜排12的并联结构，当电流传感器穿入铜排后，连接件伸出连接三根支路铜排12形成回路，电流正极由主干路流入主路铜排11，流经三条支路铜排12后又汇入主干路流出。
2、根据牛顿公式i2*r＝kt*a*δt可得，过电铜排发热率δt和电流i的平方成正比，现有铜排结构的主路铜排11要比支路铜排12承载三倍的电流量，发热率是支路铜排12的9倍，要想正常使用的话必须增大主路铜排11的截面积，需要消耗很多材料，成本高；
3、另外，若要保证三条支路铜排12并联分得的电流相等，必须使三根支路铜排12的阻值相同，根据铜排电阻的计算公式r＝ρ*l/a，三根支路铜排12的长度和截面积必须相同，这也大大增加了铜排的加工难度。
技术实现思路
1、本申请实施例提供一种电流传感器过电回路结构，该电流传感器过电回路结构不需要增大流过铜排的电流量，可以大大减少发热功率，延长铜排的使用寿命，同时还可以有效降低铜排的加工难度。
2、本申请实施例提供一种电流传感器过电回路结构，包括：
3、电流传感器，所述电流传感器沿长度方向依次设置有第一回路孔、第二回路孔和第三回路孔；
4、过电铜排，所述过电铜排包括呈一字型延伸的第一铜排和呈u字型分布的第二铜排，所述第一铜排贯穿所述第一回路孔，并具有用于连接正极的第一端和位于所述电
5、连接件，所述连接件以能够被驱动而定向移动电性连接所述导电端和所述第二端的方式与所述过电铜排相配合。
6、在一种可能的实现方式中，所述第一回路孔靠近所述电流传感器长度方向的任意一端。
7、在一种可能的实现方式中，所述连接件位于所述过电铜排的下方；
8、所述电流传感器过电回路结构还包括气缸，所述气缸位于所述连接件的下方，且所述气缸的活塞杆垂直固定连接所述连接件，以在所述过电铜排穿过所述电流传感器后能够通过所述活塞杆驱动所述连接件而连接所述导电端和所述第二端。
9、在一种可能的实现方式中，所述连接件被实施为垫片。
10、在一种可能的实现方式中，在所述第一铜排的长度方向，所述第一铜排和所述第二铜排的长度相等。
11、有益效果：与现有技术相比，本申请提供的电流传感器过电回路结构将原有的一分三式并联结构改进为第一铜排和第二铜排形成的串联式结构，既可以满足电流传感器的过电，同时还不需要增大流经铜排的电流量，可以大大减少铜排的发热功率，延长铜排的使用寿命，另外，串联式结构使得第一铜排和第二铜排的电流值相同，不需要考虑常规三根铜排的长度和截面积需要保持一致的苛刻要求，能够有效降低铜排的加工难度，并确保测试的准确性。
12、本技术的这些和其它目的、特点和优势，通过下述的详细说明，得以充分体现。
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1.电流传感器过电回路结构，其特征在于，包括：
2.如权利要求1所述的电流传感器过电回路结构，其特征在于，所述第一回路孔靠近所述电流传感器长度方向的任意一端。
3.如权利要求1所述的电流传感器过电回路结构，其特征在于，所述连接件位于所述过电铜排的下方；
4.如权利要求3所述的电流传感器过电回路结构，其特征在于，所述连接件被实施为垫片。
5.如权利要求1所述的电流传感器过电回路结构，其特征在于，在所述第一铜排的长度方向，所述第一铜排和所述第二铜排的长度相等。
【技术特征摘要】
1.电流传感器过电回路结构，其特征在于，包括：
2.如权利要求1所述的电流传感器过电回路结构，其特征在于，所述第一回路孔靠近所述电流传感器长度方向的任意一端。
3.如权利要求1所述的电流传感器过电回路结构，其特征在于，所述连接件位...
【专利技术属性】
技术研发人员：付忠宇，
申请(专利权)人：驭芯科技上海有限公司，
类型：新型
国别省市：
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