【技术实现步骤摘要】
所述实施方案总体涉及采用设置在显示屏上的透明覆盖玻璃的电子设备。透明覆盖玻璃形成电子设备的外壳的外部部分并保护显示屏免受损坏。更具体地，本专利技术的实施方案涉及由各种玻璃或陶瓷材料形成的覆盖玻璃。覆盖玻璃可具有包含二氧化硅、氮化硅或氮氧化硅以及其它材料的一个或多个层。
技术介绍
1、许多便携式电子设备，诸如智能电话和平板计算机，包括触敏显示器。显示组件通常是部件叠层，该部件叠层包括显示屏、覆盖显示屏的触敏层、以及外部的透明玻璃片(通常称为“覆盖玻璃”)，该外部的透明玻璃片保护显示器和触敏层。由于覆盖玻璃形成电子设备的外壳的一部分，因此覆盖玻璃需要是坚固的并且耐磨光/刮擦，同时提供低反射以便于观察。用于许多便携式电子设备的覆盖玻璃包括相对薄的外层，该外层具有低硬度以减少反射并且沉积在较硬的底层上以减轻深刮擦。然而，最外层的低硬度可导致例如当覆盖玻璃抵靠膝上型计算机或其它折叠式便携式电子设备中的键盘存放时覆盖玻璃被磨光，其中按键可以重复地摩擦覆盖玻璃。
2、需要新的耐磨光和刮擦同时还提供低反射率的覆盖玻璃材料和/或制造该覆盖玻璃的方法。
技术实现思路
1、在一些实施方案中，电子设备包括壳体、定位在壳体内的显示器，以及设置在显示器上并附接到壳体的覆盖玻璃。覆盖玻璃包括玻璃片和设置于玻璃片上的干涉层。干涉层包括具有第一光学常数的第一层和具有第二光学常数的第二层，其中第一光学常数不同于第二光学常数。硬涂层设置在干涉层上并具有比玻璃片大的硬度。在一些实施方案中，干涉层包括三层或更多
2、在一些实施方案中，硬涂层主要是sion。在各种实施方案中，干涉层包括设置在第二层上的第三层，并且第一层是sion，第二层是sio2并且第三层是sion。在一些实施方案中，干涉层包括设置在第二层上的第三层，并且其中第一层是sin，第二层是sio2并且第三层是sin。在各种实施方案中，电子设备还包括设置在玻璃片上的梯度层和设置在梯度层上的中间硬涂层，其中干涉层设置在中间硬涂层上。在一些实施方案中，第一层和第二层中的每者具有在10纳米与100纳米之间的厚度。在一些实施方案中，干涉层经由相消干涉与硬涂层相互作用，从而与不具有干涉层的覆盖玻璃的反射率相比降低覆盖玻璃的反射率。
3、在一些实施方案中，覆盖玻璃包括玻璃片、设置在玻璃片上的干涉层和设置在干涉层上且硬度大于玻璃片的硬涂层，干涉层具有第一层和第二层，第一层具有第一光学常数，第二层具有第二光学常数，其中第一光学常数不同于第二光学常数。在各种实施方案中，干涉层包括三层或更多层。在一些实施方案中，至少部分地基于硬涂层的光学常数来选择第一光学常数和第二光学常数。在各种实施方案中，硬涂层主要是sion。在一些实施方案中，干涉层包括设置在第二层上的第三层，并且其中第一层是sion，第二层是sio2并且第三层是sion。在各种实施方案中，干涉层包括设置在第二层上的第三层，并且其中第一层是sin，第二层是sio2并且第三层是sin。
4、在一些实施方案中，覆盖玻璃还包括设置在玻璃片上的梯度层和设置在梯度层上的中间硬涂层，其中干涉层设置在中间硬涂层上。在各种实施方案中，第一层和第二层中的每者具有在10纳米与100纳米之间的厚度。在一些实施方案中，干涉层与硬涂层相互作用，从而与不具有干涉层的覆盖玻璃相比降低覆盖玻璃的反射率。
5、在一些实施方案中，形成透明基板的方法包括：提供玻璃片；在玻璃片上沉积梯度层；在梯度层上沉积中间硬涂层，其中梯度层从玻璃片的成分转变为中间硬涂层的成分；在中间硬涂层上沉积干涉层，干涉层具有带有第一光学常数的第一层和带有第二光学常数的第二层，其中第一光学常数不同于第二光学常数；以及在干涉层上沉积硬涂层，其中硬涂层的硬度大于玻璃片的硬度。在各种实施方案中，干涉层包括三层或更多层。
6、为更好地理解本公开的性质和优点，应参考以下描述及附图。然而，应当理解，图中的每个仅被提供用于例示的目的，并且图中的每个并非旨在作为对本公开的范围的限制的定义。而且，作为一般性规则，且除非明显与描述相反，若在不同图中的元件使用相同附图标号，则元件在功能或目的上一般是相同或至少类似的。
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1.一种电子设备，包括：
2.根据权利要求1所述的电子设备，其中所述干涉层包括三层或更多层。
3.根据权利要求1所述的电子设备，其中所述第一光学常数和所述第二光学常数至少部分地基于所述硬涂层的光学常数来选择。
4.根据权利要求1所述的电子设备，其中所述硬涂层主要是SiON。
5.根据权利要求1所述的电子设备，其中所述干涉层包括设置在所述第二层上的第三层，并且其中所述第一层是SiON，所述第二层是SiO2并且所述第三层是SiON。
6.根据权利要求1所述的电子设备，其中所述干涉层包括设置在所述第二层上的第三层，并且其中所述第一层是SiN，所述第二层是SiO2并且所述第三层是SiN。
7.根据权利要求1所述的电子设备，还包括设置在所述玻璃片上的梯度层和设置在所述梯度层上的中间硬涂层，其中所述干涉层设置在所述中间硬涂层上。
8.根据权利要求1所述的电子设备，其中所述第一层和所述第二层中的每者具有在10纳米与100纳米之间的厚度。
9.根据权利要求1所述的电子设备，其中所述干涉层通过相消干涉与
10.一种覆盖玻璃，包括：
11.根据权利要求10所述的覆盖玻璃，其中所述干涉层包括三层或更多层。
12.根据权利要求10所述的覆盖玻璃，其中所述第一光学常数和所述第二光学常数至少部分地基于所述硬涂层的光学常数来选择。
13.根据权利要求10所述的覆盖玻璃，其中所述硬涂层主要是SiON。
14.根据权利要求10所述的覆盖玻璃，其中所述干涉层包括设置在所述第二层上的第三层，并且其中所述第一层是SiON，所述第二层是SiO2，并且所述第三层是SiON。
15.根据权利要求10所述的覆盖玻璃，其中所述干涉层包括设置在所述第二层上的第三层，并且其中所述第一层是SiN，所述第二层是SiO2并且所述第三层是SiN。
16.根据权利要求10所述的覆盖玻璃，还包括设置在所述玻璃片上的梯度层和设置在所述梯度层上的中间硬涂层，其中所述干涉层设置在所述中间硬涂层上。
17.根据权利要求10所述的覆盖玻璃，其中所述第一层和所述第二层中的每者具有在10纳米与100纳米之间的厚度。
18.根据权利要求10所述的覆盖玻璃，其中所述干涉层与所述硬涂层相互作用，从而与没有所述干涉层的覆盖玻璃相比，降低所述覆盖玻璃的反射率。
19.一种形成透明基板的方法，所述方法包括：
20.根据权利要求19所述的方法，其中所述干涉层包括三层或更多层。
...【技术特征摘要】
1.一种电子设备，包括：
2.根据权利要求1所述的电子设备，其中所述干涉层包括三层或更多层。
3.根据权利要求1所述的电子设备，其中所述第一光学常数和所述第二光学常数至少部分地基于所述硬涂层的光学常数来选择。
4.根据权利要求1所述的电子设备，其中所述硬涂层主要是sion。
5.根据权利要求1所述的电子设备，其中所述干涉层包括设置在所述第二层上的第三层，并且其中所述第一层是sion，所述第二层是sio2并且所述第三层是sion。
6.根据权利要求1所述的电子设备，其中所述干涉层包括设置在所述第二层上的第三层，并且其中所述第一层是sin，所述第二层是sio2并且所述第三层是sin。
7.根据权利要求1所述的电子设备，还包括设置在所述玻璃片上的梯度层和设置在所述梯度层上的中间硬涂层，其中所述干涉层设置在所述中间硬涂层上。
8.根据权利要求1所述的电子设备，其中所述第一层和所述第二层中的每者具有在10纳米与100纳米之间的厚度。
9.根据权利要求1所述的电子设备，其中所述干涉层通过相消干涉与所述硬涂层相互作用，从而与没有所述干涉层的所述覆盖玻璃的反射率相比，降低所述覆盖玻璃的反射率。
10.一种覆盖玻璃，包括：
11.根据权利要求10所述的...
【专利技术属性】
技术研发人员：鲍利捷，T·R·罗斯楚克，M·S·罗杰斯，
申请(专利权)人：苹果公司，
类型：发明
国别省市：
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