【技术实现步骤摘要】
本申请涉及废气处理，具体而言，涉及一种废气处理设备及方法。
技术介绍
1、工业生产过程中，为了较少有害气体排放，废气处理设备被广泛应用。
2、目前，在半导体行业，废气处理设备通过化学反应处理晶元加工产生的废气，来减少有害气体的排放。
3、但是，废气处理设备反应腔内，废气因快速直线通过高温热源可能未充分反应或分解，导致处理效率低下。同时，腔内气流稳定且速度快造成温度分布不均，温差大。此外，反应腔内壁面气体速度慢易积粉尘，需定期使用刮刀清除，以延长设备寿命。
技术实现思路
1、有鉴于此，本申请的目的在于提供一种废气处理设备及方法，通过在废气处理设备中引入被动旋转扰流装置于反应腔及相连的溢流腔内，通过底座翅片的旋转来控制整个被动旋转扰流装置的转速，以实现被动旋转扰流装置在反应腔内的旋转，增强气体湍流，促进废气旋转流动，改善了温度分布，减小了温差，从而提升了处理效率。此外，反应腔内壁面气体也不易积粉尘，从而无需定期使用刮刀清除，提高了设备寿命。
2、第一方面，本申请实施例提供了一种废气处理方法，所述废气处理设备包括反应腔、溢流腔和被动旋转扰流装置；所述被动旋转扰流装置包括锥形扰流板、扰流板支架、空心底座和底座翅片；
3、所述溢流腔与所述反应腔连接；所述锥形扰流板和所述扰流板支架放置于所述反应腔内，所述空心底座和所述底座翅片放置于所述溢流腔内；所述锥形扰流板通过所述扰流板支架的支撑连接所述空心底座；所述空心底座上布置所述底座翅片；
5、所述底座翅片，用于通过自身的旋转来控制整个所述被动旋转扰流装置的转速，实现所述被动旋转扰流装置在所述反应腔内的旋转。
6、在一种可能的实施方式中，所述溢流腔具有溢流腔水槽；
7、所述底座翅片和所述空心底座漂浮在所述溢流腔的所述溢流腔水槽内；所述被动旋转扰流装置放置漂浮于所述溢流腔的所述溢流腔水槽内；
8、所述溢流腔水槽，用于保证所述被动旋转扰流装置漂浮于所述废气处理设备的反应腔和溢流腔中。
9、在一种可能的实施方式中，所述空心底座为空心带有翅片的游泳圈形的底座；所述锥形扰流板为多孔的锥型面板；其中，所述多孔为异型孔。
10、在一种可能的实施方式中，所述溢流腔水槽为环形水槽；所述溢流腔水槽上设置有多个与水槽边缘切向的进水口；
11、所述溢流腔水槽，用于在水流通过所述进水口进入所述溢流腔水槽，以通过所述溢流腔水槽冲击所述底座翅片使得所述底座翅片旋转，以控制所述被动旋转扰流装置的转速。
12、在一种可能的实施方式中，所述反应腔上端设置有多个气体进口；所述溢流腔下端设置有气体出口；所述废气处理设备包括控制装置；
13、所述控制装置，用于监控所述溢流腔的所述气体出口的废气的气体温度，并基于所述气体出口的废气的气体温度调整所述被动旋转扰流装置的转速。
14、在一种可能的实施方式中，所述监控所述溢流腔的所述气体出口的废气的气体温度，包括：
15、获取预设时间内的所述气体出口的废气的气体温度；
16、基于所述预设时间内的所述气体出口的废气的气体温度，得到所述预设时间内的废气的历史温度分布均匀性。
17、在一种可能的实施方式中，所述基于所述气体出口的废气的气体温度调整所述被动旋转扰流装置的转速，包括：
18、基于所述气体出口的废气的气体温度获取对应的当前温度分布均匀性；
19、响应于所述气体出口的气体温度降低，且当前温度分布均匀性相对于所述历史温度分布均匀性变差，则增大所述进水口的进水速度；
20、基于所述增大后的所述进水口的进水速度，增加所述被动旋转扰流装置的转速。
21、在一种可能的实施方式中，所述控制装置，还用于针对所述气体出口的废气的气体温度，设置对应的合理气体温度范围；基于增大后的所述进水口的进水速度，调整所述气体出口的废气的气体温度至所述合理气体温度范围内。
22、在一种可能的实施方式中，所述控制装置，还用于所述控制装置，还用于获取所述气体进口的废气的进气量；响应于所述气体进口的废气的进气量增加，增加所述溢流腔的进水口的进水速度，以增加所述被动旋转扰流装置的转速。
23、第二方面，本申请实施例还提供了一种废气处理方法，应用于第一方面实施例所述的废气处理设备；所述废气处理设备包括反应腔、溢流腔和被动旋转扰流装置；所述被动旋转扰流装置包括锥形扰流板、扰流板支架、空心底座和底座翅片；所述方法包括：
24、所述锥形扰流板在所述废气通过所述反应腔时产生湍流或涡流；
25、所述底座翅片通过自身的旋转来控制整个所述被动旋转扰流装置的转速，实现所述被动旋转扰流装置在所述反应腔内的旋转。
26、本申请实施例提供的一种废气处理设备及方法，该废气处理设备包括反应腔、溢流腔和被动旋转扰流装置，被动旋转扰流装置包括锥形扰流板、扰流板支架、空心底座和底座翅片，溢流腔与反应腔连接；锥形扰流板和扰流板支架放置于反应腔内，空心底座和底座翅片放置于溢流腔内；锥形扰流板通过扰流板支架的支撑连接空心底座；空心底座上布置底座翅片；锥形扰流板用于在废气通过反应腔时产生湍流或涡流，底座翅片用于通过自身的旋转来控制整个被动旋转扰流装置的转速，实现被动旋转扰流装置在反应腔内的旋转。本申请，通过在废气处理设备中引入被动旋转扰流装置于反应腔及相连的溢流腔内，通过底座翅片的旋转来控制整个被动旋转扰流装置的转速，以实现被动旋转扰流装置在反应腔内的旋转，增强气体湍流，促进废气旋转流动，改善了温度分布，减小了温差，从而提升了处理效率。此外，反应腔内壁面气体也不易积粉尘，从而无需定期使用刮刀清除，提高了设备寿命。
27、为使本申请的上述目的、特征和优点能更明显易懂，下文特举较佳实施例，并配合所附附图，作详细说明如下。
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1.一种废气处理设备，其特征在于，所述废气处理设备包括反应腔、溢流腔和被动旋转扰流装置；所述被动旋转扰流装置包括锥形扰流板、扰流板支架、空心底座和底座翅片；
2.根据权利要求1所述的设备，其特征在于，所述溢流腔具有溢流腔水槽；
3.根据权利要求2所述的设备，其特征在于，所述空心底座为空心带有翅片的游泳圈形的底座；所述锥形扰流板为多孔的锥型面板；其中，所述多孔为异型孔。
4.根据权利要求3所述的设备，其特征在于，所述溢流腔水槽为环形水槽；所述溢流腔水槽上设置有多个与水槽边缘切向的进水口；
5.根据权利要求4所述的设备，其特征在于，所述反应腔上端设置有多个气体进口；所述溢流腔下端设置有气体出口；所述废气处理设备包括控制装置；
6.根据权利要求5所述的设备，其特征在于，所述监控所述溢流腔的所述气体出口的废气的气体温度，包括：
7.根据权利要求6所述的设备，其特征在于，所述基于所述气体出口的废气的气体温度调整所述被动旋转扰流装置的转速，包括：
8.根据权利要求7所述的设备，其特征在于，
9.根
10.一种废气处理方法，其特征在于，应用于权利要求1-9中任一项所述的废气处理设备；所述废气处理设备包括反应腔、溢流腔和被动旋转扰流装置；所述被动旋转扰流装置包括锥形扰流板、扰流板支架、空心底座和底座翅片；
...【技术特征摘要】
1.一种废气处理设备，其特征在于，所述废气处理设备包括反应腔、溢流腔和被动旋转扰流装置；所述被动旋转扰流装置包括锥形扰流板、扰流板支架、空心底座和底座翅片；
2.根据权利要求1所述的设备，其特征在于，所述溢流腔具有溢流腔水槽；
3.根据权利要求2所述的设备，其特征在于，所述空心底座为空心带有翅片的游泳圈形的底座；所述锥形扰流板为多孔的锥型面板；其中，所述多孔为异型孔。
4.根据权利要求3所述的设备，其特征在于，所述溢流腔水槽为环形水槽；所述溢流腔水槽上设置有多个与水槽边缘切向的进水口；
5.根据权利要求4所述的设备，其特征在于，所述反应腔上端设置有多个气体进口；所述溢流腔下端设置有气体出口；所述废气处理设备包括控制装置；
6.根据权利要求5所述的...
【专利技术属性】
技术研发人员：张昱翀，
申请(专利权)人：北京京仪自动化装备技术股份有限公司，
类型：发明
国别省市：
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