System.ArgumentOutOfRangeException: 索引和长度必须引用该字符串内的位置。 参数名: length 在 System.String.Substring(Int32 startIndex, Int32 length) 在 zhuanliShow.Bind() 真空吸盘及机械手制造技术_技高网

真空吸盘及机械手制造技术

技术编号:44697537 阅读:0 留言:0更新日期:2025-03-19 20:47
本发明专利技术提供了一种真空吸盘及机械手,所述真空吸盘的盘体上设有真空吸附腔以及泄压槽,所述盘体的一侧设有与所述真空吸附腔连通的气孔,所述盘体的另一侧为吸附面,所述泄压槽位于所述吸附面上且与所述真空吸附腔相通;所述真空吸盘上还设有气密结构,所述气密结构包括充气状态和放气状态,所述气密结构在充气状态时向所述吸附面侧凸起且隔断所述泄压槽与所述真空吸附腔的连通,所述气密结构在放气状态时所述泄压槽与所述真空吸附腔相连通。本发明专利技术通过泄压槽的设置消除了晶圆和吸附面间真空释放不及时导致的镜面效应,减少拖片、跳片现象的发生,减少了晶圆损伤概率。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及真空吸附,特别涉及一种真空吸盘及机械手


技术介绍

1、晶圆的转移一般采用带真空吸盘的机械手,然而真空吸盘在长期使用后其表面由于和晶圆的长期摩擦会变得十分光滑,与真空吸盘相连的抽真空装置关闭后真空吸盘与晶圆间依旧存在真空,形成镜面吸附效应,导致跳片或者晶圆被带出晶圆盒,有可能导致晶圆损伤或者掉落。

2、目前针对这种问题常见的处理方法是对真空吸盘进行打磨、更换,通过打磨消除真空吸盘的光滑镜面,使其表面光滑度满足与晶圆接触不损伤晶圆表面即可,但是长期打磨会影响真空吸盘的使用寿命和改变取片位置,每次打磨和更换真空吸盘后都需要花费大量时间重新做机械手臂取/放片位置矫正,耗时、耗力。

3、因此,有必要开发一种无需频繁打磨更换的真空吸盘。


技术实现思路

1、本专利技术的目的在于提供一种真空吸盘及机械手,其用于避免真空吸盘的吸附面过于光滑,导致与晶圆间产生镜面吸附效应,不能稳定取放晶圆。

2、本专利技术提供一种真空吸盘,所述真空吸盘的盘体上设有真空吸附腔以及泄压槽,所述盘体的一侧设有与所述真空吸附腔连通的气孔,所述盘体的另一侧为吸附面,所述泄压槽在所述真空吸附腔的径向上贯穿所述盘体以将所述真空吸附腔与盘体外部相通,且所述泄压槽在所述吸附面上设有槽口;所述真空吸盘上还设有气密结构,所述气密结构包括充气状态和放气状态,所述气密结构在充气状态时向所述吸附面侧凸起且用于与待吸附物密封接触以隔断所述泄压槽与所述真空吸附腔的连通,所述气密结构在放气状态时背离所述吸附面且用于与待吸附物远离使所述泄压槽与所述真空吸附腔相连通。

3、优选的,所述真空吸盘上绕所述真空吸附腔环向设置多个所述泄压槽。

4、优选的,所述泄压槽在所述吸附面上的槽口宽度由所述真空吸附腔侧向所述盘体外侧逐渐增大。

5、优选的,所述气密结构包括绕所述真空吸附腔设置的环形槽,以及置于环形槽中且带充放气口的气路,所述环形槽与所述泄压槽相通,且气路具有在充气状态时向所述吸附面侧凸起的密封部,所述密封部用于在槽口处与待吸附物密封接触以隔断所述泄压槽与所述真空吸附腔连通。

6、优选的,所述密封部为设于所述环形槽中的弹性件,所述弹性件与所述环形槽的槽壁形成所述气路。

7、优选的,所述气密结构包括设于所述泄压槽中的弹性件,以及驱动所述弹性件凸起的充放气组件。

8、优选的,所述充放气组件包括带充放气口的气管,所述气管在所述弹性件处与所述弹性件密封形成充放气室。

9、优选的,所述真空吸盘的盘体为陶瓷材料。

10、本专利技术还提供一种机械手,所述机械手的端部设有如上任一项所述的真空吸盘。

11、优选的,所述机械手还包括与所述气密结构相连的充放气装置,所述充放气装置设有控制充放气流速的控制机构。

12、本专利技术的真空吸盘和机械手,其具有以下有益效果:真空吸盘的吸附面上设有沿真空吸附腔的径向贯通盘体的泄压槽,真空吸附腔与盘体外部通过泄压槽相通,气密结构的设置以实现对泄压槽与真空吸附腔间的阻断和连通,以此在吸取晶圆时通过气密结构充气向吸附面侧凸起以在泄压槽的槽口处可与待吸附物接触进而隔断泄压槽与真空吸附腔的连通,随真空吸附腔被抽真空,实现了吸附面与晶圆间构成真空;在释放晶圆时仅需控制气密结构放气远离吸附面凹陷解除在泄压槽的槽口处与待吸附物的接触,泄压槽与所述真空吸附腔相连通,随真空吸附腔释放真空,吸附面与晶圆间的真空也被破除,由此泄压槽和气密结构的设置消除了晶圆和吸附面间真空释放不及时导致的镜面效应,减少拖片、跳片现象的发生,减少了晶圆损伤概率;另外,该真空吸盘无需定期打磨,减少了维保时间,提高机械手利用效率。

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【技术保护点】

1.一种真空吸盘,其特征在于:所述真空吸盘的盘体上设有真空吸附腔以及泄压槽,所述盘体的一侧设有与所述真空吸附腔连通的气孔,所述盘体的另一侧为吸附面,所述泄压槽在所述真空吸附腔的径向上贯穿所述盘体以将所述真空吸附腔与盘体外部相通,且所述泄压槽在所述吸附面上设有槽口;所述真空吸盘上还设有气密结构,所述气密结构在充气状态和放气状态间切换,所述气密结构在充气状态时向所述吸附面侧凸起且用于与待吸附物密封接触进而隔断所述泄压槽与所述真空吸附腔的连通,所述气密结构在放气状态时背离所述吸附面且用于与待吸附物远离使所述泄压槽与所述真空吸附腔相连通。

2.根据权利要求1所述的真空吸盘,其特征在于:所述真空吸盘上绕所述真空吸附腔环向设置多个所述泄压槽。

3.根据权利要求1或权利要求2所述的真空吸盘,其特征在于:所述泄压槽在所述吸附面上的槽口宽度由所述真空吸附腔侧向所述盘体外侧逐渐增大。

4.根据权利要求1所述的真空吸盘,其特征在于:所述气密结构包括绕所述真空吸附腔设置的环形槽,以及置于环形槽中且带充放气口的气路,所述环形槽与所述泄压槽相通,且气路具有在充气状态时向所述吸附面侧凸起的密封部,所述密封部用于在槽口处与待吸附物密封接触以隔断所述泄压槽与所述真空吸附腔连通。

5.根据权利要求4所述的真空吸盘,其特征在于:所述密封部为设于所述环形槽中的弹性件,所述弹性件与所述环形槽的槽壁形成所述气路。

6.根据权利要求1所述的真空吸盘,其特征在于:所述气密结构包括设于所述泄压槽中的弹性件,以及驱动所述弹性件凸起的充放气组件。

7.根据权利要求6所述的真空吸盘,其特征在于:所述充放气组件包括带充放气口的气管,所述气管在所述弹性件处与所述弹性件密封形成充放气室。

8.根据权利要求1所述的真空吸盘,其特征在于:所述真空吸盘的盘体为陶瓷材料。

9.一种机械手,其特征在于:所述机械手的端部设有如权利要求1至权利要求8任一项所述的真空吸盘。

10.根据权利要求9所述的机械手,其特征在于:所述机械手还包括与所述气密结构相连的充放气装置,所述充放气装置设有控制充放气流速的控制机构。

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【技术特征摘要】

1.一种真空吸盘,其特征在于:所述真空吸盘的盘体上设有真空吸附腔以及泄压槽,所述盘体的一侧设有与所述真空吸附腔连通的气孔,所述盘体的另一侧为吸附面,所述泄压槽在所述真空吸附腔的径向上贯穿所述盘体以将所述真空吸附腔与盘体外部相通,且所述泄压槽在所述吸附面上设有槽口;所述真空吸盘上还设有气密结构,所述气密结构在充气状态和放气状态间切换,所述气密结构在充气状态时向所述吸附面侧凸起且用于与待吸附物密封接触进而隔断所述泄压槽与所述真空吸附腔的连通,所述气密结构在放气状态时背离所述吸附面且用于与待吸附物远离使所述泄压槽与所述真空吸附腔相连通。

2.根据权利要求1所述的真空吸盘,其特征在于:所述真空吸盘上绕所述真空吸附腔环向设置多个所述泄压槽。

3.根据权利要求1或权利要求2所述的真空吸盘,其特征在于:所述泄压槽在所述吸附面上的槽口宽度由所述真空吸附腔侧向所述盘体外侧逐渐增大。

4.根据权利要求1所述的真空吸盘,其特征在于:所述气密结构包括绕所述真空吸附腔设置的环形槽,以及置于环形槽中且带充放气口的气...

【专利技术属性】
技术研发人员:孙强郭明炯
申请(专利权)人:上海集成电路装备材料产业创新中心有限公司
类型:发明
国别省市:

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