【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及光谱分析，特别是涉及一种光谱分析装置及其控制方法。
技术介绍
1、光谱分析装置是一种利用物质与光相互作用生成的光谱信息来获取该物质成分和特性的仪器。光谱分析装置已被广泛应用于化工、能源、制药、食品和环境保护等多个行业。与传统分析方法相比，光谱分析具有测试速度快、结果精确等优势。
2、现有技术中的光谱分析装置通常由光源、检测器和样品杯组成，主要采用在大气中进行直接测量的方式。具体而言，光源发射的光线入射到样品杯中的样品上，检测器随后分析样品反射的光谱信息。然而，当前光谱分析装置在进行光谱分析时面临以下技术问题：
3、（1）大气温度和湿度的变化会对光谱分析过程产生影响，从而导致分析结果的不稳定。
4、（2）在进行x射线荧光光谱分析（xrf）或激光诱导击穿光谱分析（libs）光谱分析时，光路中的大气会吸收部分测试光谱，从而影响分析结果的准确性。
5、（3）大气中的粉尘会粘附在光谱分析装置的视窗上，导致光谱信号的衰减和失真，进而影响最终的分析结果。
6、因此，亟需一种新型的光谱分析装置，旨在提高分析结果的稳定性和准确性。
技术实现思路
1、为解决上述技术问题，本专利技术的目的为提供一种光谱分析装置及其控制方法，旨在提高分析结果的稳定性和准确性。
2、本专利技术提供的技术方案如下：
3、一种光谱分析装置，包括：
4、光谱分析室，内部设置有光源和检测器，所述光源用于发射光信号以照射待测
5、测量气室，与所述光谱分析室相邻设置，用于向所述待测样品提供所需可调节的气氛条件，且所述测量气室与所述光谱分析室之间设置有供光信号通过的光学视窗；
6、载样装置，用于放置所述待测样品。
7、进一步地，所述载样装置设置在所述测量气室的外部；
8、所述测量气室包括进气端和出气端，所述进气端与外部气源连通，所述出气端与所述待测样品相对应设置，以向所述待测样品提供所需可调节的气氛条件。
9、进一步地，所述进气端设置有进气管，所述进气管上设置有流量控制器，以调节进入所述测量气室内气体的流量。
10、进一步地，所述进气管上还设置有加热器，所述测量气室内设置有测温探头，所述加热器和所述测温探头协同工作，以调节进入所述测量气室内气体的温度。
11、进一步地，所述外部气源选自以下之一：氦气、氮气或压缩空气；
12、和/或，所述出气端设置有气室门，所述气室门具有打开状态和关闭状态。
13、进一步地，所述光谱分析室为密闭箱体；
14、所述光源为近红外光源时，所述光学视窗的材质为石英材料；或，所述光源为x射线时，所述光学视窗的材质为聚酯薄膜。
15、进一步地，所述检测器包括接收模块、信号处理模块和分析模块，所述接收模块用于接受经过所述待测样品后生成的光信号，所述信号处理模块用于将所述光信号转换为电信号，所述分析模块用于对所述电信号进行分析和处理以获取所述待测样品的光谱信息。
16、另一方面，本专利技术还提供了一种光谱分析装置的控制方法，基于如上述实施例中任一项所述的光谱分析装置，所述控制方法包括以下步骤：
17、s1、接受来样信号；
18、s2、开启流量控制器、加热器和测温探头；
19、s3、打开气室门；
20、s4、判断测量气室内气体的流量和温度是否达到稳定，若是，则执行步骤s5步骤，若否，持续调节；
21、s5、开启光源和检测器；
22、s6、判断分析过程是否完成，若是，则执行步骤s7，若否，继续分析；
23、s7、关闭气室门；
24、s8、关闭流量控制器、加热器和测温探头。
25、进一步地，步骤s4具体包括：
26、实时监测测量气室内气体的流量，并与预设的流量稳定阈值范围进行比较，若监测到的流量在预设的流量稳定阈值范围内波动，则判定为稳定，若监测到的流量超出预设的流量稳定阈值范围，则判定为不稳定；
27、实时监测测量气室内气体的温度，并与预设的温度稳定阈值范围进行比较，若监测到的温度在预设的温度稳定阈值范围内波动，则判定为稳定，若监测到的温度超出预设的温度稳定阈值范围，则判定为不稳定；
28、若测量气室内气体的流量和温度均判定为稳定，则执行步骤 s5，若测量气室内气体的流量和温度中至少其中之一判定为不稳定，则持续自动调节流量控制器的开度和/或加热器的功率，直至测量气室内气体的流量和温度均达到稳定状态为止。
29、进一步地，步骤s6具体包括：
30、根据预设的分析条件或时间参数判断分析是否完成，若确认分析已完成，执行步骤 s7，若分析未完成，则继续进行分析。
31、相对于现有技术，本专利技术实施例提供的一种光谱分析装置及其控制方法至少具备以下技术效果：
32、光谱分析装置包括光谱分析室、测量气室和载样装置。光谱分析室内部设置有光源和检测器，光源用于发射光信号以照射待测样品，检测器用于接受并分析经过待测样品后生成的光信号，以获取待测样品的光谱信息；测量气室与光谱分析室相邻设置，用于向待测样品提供所需可调节的气氛条件，且测量气室与光谱分析室之间设置有供光信号通过的光学视窗；载样装置用于放置待测样品。通过在光谱分析室的相邻位置增加测量气室，测量气室能够向待测样品提供所需可调节的气氛条件，确保分析过程中环境条件的稳定，从而提高光谱分析结果的稳定性。进一步地，通过测量气室能够提供所需可调节的气氛条件，在进行x射线荧光光谱分析（xrf）或激光诱导击穿光谱分析（libs）光谱分析时，可以选择使用惰性气体（如氦气）填充，以有效减少光路中大气对光谱信号的吸收，提升xrf和libs技术的分析准确性。更进一步地，测量气室的设置可以将待测样品与光学视窗隔开，有效避免了因外部粉尘附着而导致的光谱信号衰减和失真，确保获取的光谱数据更加准确。
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1.一种光谱分析装置，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的光谱分析装置，其特征在于，所述载样装置设置在所述测量气室的外部；
3.根据权利要求2所述的光谱分析装置，其特征在于，所述进气端设置有进气管，所述进气管上设置有流量控制器，以调节进入所述测量气室内气体的流量。
4.根据权利要求3所述的光谱分析装置，其特征在于，所述进气管上还设置有加热器，所述测量气室内设置有测温探头，所述加热器和所述测温探头协同工作，以调节进入所述测量气室内气体的温度。
5.根据权利要求2所述的光谱分析装置，其特征在于，所述外部气源选自以下之一：氦气、氮气或压缩空气；
6.根据权利要求1所述的光谱分析装置，其特征在于，所述光谱分析室为密闭箱体；
7.根据权利要求1所述的光谱分析装置，其特征在于，所述检测器包括接收模块、信号处理模块和分析模块，所述接收模块用于接受经过所述待测样品后生成的光信号，所述信号处理模块用于将所述光信号转换为电信号，所述分析模块用于对所述电信号进行分析和处理以获取所述待测样品的光谱信息。
8.一种
9.根据权利要求书8所述的光谱分析装置的控制方法，其特征在于，步骤S4具体包括：
10.根据权利要求书8所述的光谱分析装置的控制方法，其特征在于，步骤S6具体包括：
...【技术特征摘要】
1.一种光谱分析装置，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的光谱分析装置，其特征在于，所述载样装置设置在所述测量气室的外部；
3.根据权利要求2所述的光谱分析装置，其特征在于，所述进气端设置有进气管，所述进气管上设置有流量控制器，以调节进入所述测量气室内气体的流量。
4.根据权利要求3所述的光谱分析装置，其特征在于，所述进气管上还设置有加热器，所述测量气室内设置有测温探头，所述加热器和所述测温探头协同工作，以调节进入所述测量气室内气体的温度。
5.根据权利要求2所述的光谱分析装置，其特征在于，所述外部气源选自以下之一：氦气、氮气或压缩空气；
6.根据权利要求1所述的光谱分析...
【专利技术属性】
技术研发人员：曹学军，文胜，袁康，陈志强，姜超，瞿建，罗超凡，
申请(专利权)人：长沙开元仪器有限公司，
类型：发明
国别省市：
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