【技术实现步骤摘要】
本申请涉及薄膜制备，特别是涉及一种缓冲装置及镀膜设备。
技术介绍
1、目前的镀膜设备中，通常在工艺室的真空环境内对基片进行镀膜。为了在基片进入工艺室之前或者从工艺室出来后进行缓冲，基片会进入缓冲室。以进入工艺室为例，基片线进入缓冲室，且进入缓冲室时缓冲室与外部连通，即缓冲室内的大气压与外部相同。进入缓冲室后，隔断缓冲室与外部，然后对缓冲室进行抽真空，使得缓冲室和工艺室保持相同或接近的真空度，接下来将基片送入工艺室即可。现有的缓冲室抽真空或者破真空过程中，气体会对基片产生冲击，导致基片容易晃动从而导致损伤。
技术实现思路
1、基于此，有必要针对上述问题，提供一种能够避免气体对基片产生冲击导致基片晃动，避免基片损伤的缓冲装置及镀膜设备。
2、一种缓冲装置，包括：
3、缓冲件，具有缓冲腔及送料口和通气口；
4、匀气结构，设置于所述缓冲腔内，且将所述缓冲腔分隔成通气空间及所述缓冲空间，所述通气空间和所述缓冲空间通过所述匀气结构导通，所述匀气结构能够对流经的气体进行缓冲处理，所述送料口与所述缓冲空间连通，所述通气口与所述通气空间连通；
5、阀门组件，设置于所述缓冲件，用于打开或关闭所述送料口；
6、抽放气组件，与所述通气口连通，且所述抽放气组件能够对所述缓冲腔抽真空和破真空。
7、进一步地，所述匀气结构具有多条匀气通道，每一所述匀气通道均连通所述通气空间与所述缓冲空间。
8、进一步地，所述匀气结构为多孔结构。
9、进一步地，所述送料口包括进料口及出料口，所述阀门组件包括进料阀及出料阀，所述进料阀设置于所述进料口处，所述出料阀设置于所述出料口处。
10、进一步地，所述缓冲装置还包括输送组件，所述输送组件设置于所述缓冲空间内，且所述输送组件能够将所述进料口输入的基片从所述出料口输出。
11、进一步地，所述进料口和所述出料口位于所述缓冲件相对的两端。
12、进一步地，所述通气口包括抽气口及放气口，所述抽放气组件包括抽气模块及放气模块，所述抽气模块与所述抽气口连通，用于对所述缓冲腔抽真空，所述放气模块与所述放气口连通，用于对所述缓冲腔破真空。
13、进一步地，所述抽气模块包括抽气管道、抽气阀及抽气机构，所述抽气管道连接于所述缓冲件和所述抽气阀之间，且所述抽气管道与所述抽气口连通，所述抽气阀与所述抽气机构连接。
14、进一步地，所述放气模块包括放气管道及放气阀，所述放气管道连接于所述缓冲件和所述放气阀之间，且所述放气管道与所述放气口连通。
15、进一步地，所述通气口包括两组，两组所述通气口分别位于所述缓冲件相对的两侧，所述匀气结构包括两个，每一所述匀气结构对应一组所述通气口设置。
16、一种镀膜设备，包括上述的缓冲装置。
17、采用上述的缓冲装置，由于通气空间和缓冲空间之间设置有匀气结构，匀气结构能够对流经的气体进行缓冲，从而在抽真空和破真空时对气流进行缓冲，避免气流直接冲击缓冲空间中的基片，保证基片的稳定性，避免基片晃动损伤，进而保证后续的镀膜效果。同时，由于基片的稳定性得以保证，故可以提高基片的输送速度，提高加工效率。
18、此外，缓冲件的相对两侧各设置一组通气口，缓冲腔内设置两个匀气结构，实现在缓冲件的两侧同时对缓冲腔抽真空或破真空，从而提高抽放气速度，即提高抽真空和破真空的速度，而且在提高抽放气速度的同时能够保证气流平稳，实现基片快速平稳传输，减少基片损坏，提高传输节拍。
本文档来自技高网...【技术保护点】
1.一种缓冲装置，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的缓冲装置，其特征在于，所述匀气结构具有多条匀气通道，每一所述匀气通道均连通所述通气空间与所述缓冲空间。
3.根据权利要求2所述的缓冲装置，其特征在于，所述匀气结构为多孔结构。
4.根据权利要求1所述的缓冲装置，其特征在于，所述送料口包括进料口及出料口，所述阀门组件包括进料阀及出料阀，所述进料阀设置于所述进料口处，所述出料阀设置于所述出料口处。
5.根据权利要求4所述的缓冲装置，其特征在于，所述缓冲装置还包括输送组件，所述输送组件设置于所述缓冲空间内，且所述输送组件能够将所述进料口输入的基片从所述出料口输出。
6.根据权利要求4所述的缓冲装置，其特征在于，所述进料口和所述出料口位于所述缓冲件相对的两端。
7.根据权利要求1-6任一项所述的缓冲装置，其特征在于，所述通气口包括抽气口及放气口，所述抽放气组件包括抽气模块及放气模块，所述抽气模块与所述抽气口连通，用于对所述缓冲腔抽真空，所述放气模块与所述放气口连通，用于对所述缓冲腔破真空。
8.
9.根据权利要求7所述的缓冲装置，其特征在于，所述放气模块包括放气管道及放气阀，所述放气管道连接于所述缓冲件和所述放气阀之间，且所述放气管道与所述放气口连通。
10.根据权利要求1-6任一项所述的缓冲装置，其特征在于，所述通气口包括两组，两组所述通气口分别位于所述缓冲件相对的两侧，所述匀气结构包括两个，每一所述匀气结构对应一组所述通气口设置。
11.一种镀膜设备，其特征在于，包括权利要求1-10任一项所述的缓冲装置。
...【技术特征摘要】
1.一种缓冲装置，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的缓冲装置，其特征在于，所述匀气结构具有多条匀气通道，每一所述匀气通道均连通所述通气空间与所述缓冲空间。
3.根据权利要求2所述的缓冲装置，其特征在于，所述匀气结构为多孔结构。
4.根据权利要求1所述的缓冲装置，其特征在于，所述送料口包括进料口及出料口，所述阀门组件包括进料阀及出料阀，所述进料阀设置于所述进料口处，所述出料阀设置于所述出料口处。
5.根据权利要求4所述的缓冲装置，其特征在于，所述缓冲装置还包括输送组件，所述输送组件设置于所述缓冲空间内，且所述输送组件能够将所述进料口输入的基片从所述出料口输出。
6.根据权利要求4所述的缓冲装置，其特征在于，所述进料口和所述出料口位于所述缓冲件相对的两端。
7.根据权利要求1-6任一项所述的缓冲装置，其特征在于，所述通气口包括抽气口及放...
【专利技术属性】
技术研发人员：冯长卫，袁铮，何坤鹏，
申请(专利权)人：江苏先导微电子科技有限公司，
类型：新型
国别省市：
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。