【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种稀释剂组成物，且特别是涉及一种稀释剂组成物以及基板处理的方法。
技术介绍
1、随着半导体装置、显示装置或光学元件的蓬勃发展，为了扩大其应用层面，对于效能与品质的需求逐渐上升。举例来说，在半导体装置的制造过程中，通常会在基板上涂布光刻胶组成物以形成光刻胶层。然而，光刻胶组成物可能在基板表面形成大小不一的堆积物，造成后续的制造过程中产生例如对焦的问题，进而影响其制得的装置的效能。
技术实现思路
1、本专利技术提供一种可良好地移除基板边缘凸起物的稀释剂组成物以及基板处理的方法。
2、本专利技术提供一种稀释剂组成物。稀释剂组成物包括溶剂(a)以及含氟添加剂(b)。含氟添加剂(b)包括由下述式(b-1)表示的化合物、由下述式(b-2)表示的聚合物、由下述式(b-3)表示的聚合物或其组合：
3、
4、式(b-1)中，x1至x7各自表示氢、氟或碳数为1～2的含氟烷基，且x1至x7中的至少一者为氟或碳数为1～2的含氟烷基；
5、
6、式(b-2)中，r1及r9各自表示cyh2y-3oz，其中y表示4～25的整数，z表示1～7的整数，
7、r2、r4、r5、r6及r8各自表示氢、碳数为1～5的烷基或碳数为1～5的烷氧基，
8、r3及r7各自表示cnh2n-2，其中n表示4～25的整数，
9、x8表示碳数为1～3的含氟烷基，
10、m表示2～39的整数，
11、当m
12、
13、式(b-3)中，x9及x10各自表示crf2r-1，其中r表示2～15的整数，
14、r10至r13各自表示氢、碳数为1～3的烷基或碳数为1～3的烷氧基或羟基，
15、t表示氢、碳数为1～3的烷基、碳数为1～3的烷氧基、羟基、羧基、*-cooch3、*-cooc2h5、醛基、胺基、*-oso3h、*-oso3nh4、*-oso3na、*-oso3k，其中*表示键结位置，
16、j和q各自表示2～30的整数，
17、k表示0～20的整数，
18、p表示1～9的整数，
19、当j、k、p及q各自为大于或等于2的整数时，多个r11彼此相同或不相同，多个r12彼此相同或不相同，多个r13彼此相同或不相同，多个x10彼此相同或不相同。
20、在本专利技术的一实施例中，上述溶剂(a)包括丙二醇单甲醚、丙二醇单甲醚乙酸酯、醋酸正丁酯、n-甲基吡咯烷酮、异丁醇、4-甲基-2-戊醇、γ-丁内酯、环己酮、环己醇、二甲基亚砜、乙醇、甲醇、丁醇或其组合。
21、在本专利技术的一实施例中，上述溶剂(a)为混合溶剂。混合溶剂是由至少两种不同的有机溶剂混合而成。
22、在本专利技术的一实施例中，上述混合溶剂的沸点为70℃至170℃，且浊度为小于或等于0.02ntu。
23、在本专利技术的一实施例中，上述溶剂(a)包括丙二醇单甲醚，且更包括丙二醇单甲醚乙酸酯、醋酸正丁酯、n-甲基吡咯烷酮、异丁醇、4-甲基-2-戊醇、γ-丁内酯、环己酮、环己醇、二甲基亚砜、乙醇、甲醇及丁醇中的至少一者。
24、在本专利技术的一实施例中，上述溶剂(a)是由丙二醇单甲醚与醋酸正丁酯混合而成的混合溶剂。丙二醇单甲醚与醋酸正丁酯的混合比例为5:95至45:55。
25、在本专利技术的一实施例中，上述溶剂(a)是由丙二醇单甲醚与丙二醇单甲醚乙酸酯混合而成的混合溶剂。丙二醇单甲醚与丙二醇单甲醚乙酸酯的混合比例为50:50至90:10。
26、在本专利技术的一实施例中，基于100重量份的上述稀释剂组成物，含氟添加剂(b)的量为0.001重量份至3重量份。
27、本专利技术的一种基板处理的方法，包括将上述的稀释剂组成物施加至基板表面。
28、在本专利技术的一实施例中，上述稀释剂组成物施加至基板表面的边缘。
29、在本专利技术的一实施例中，上述基板表面上已涂布有光刻胶组成物。稀释剂组成物移除光刻胶组成物的表面边缘的凸起物。
30、基于上述，本专利技术的稀释剂组成物包括具有特定结构的含氟添加剂(b)。从而可使稀释剂组成物用于基板处理的方法时，良好地移除基板边缘的凸起物。
31、为让本专利技术的上述特征和优点能更明显易懂，下文特举实施例作详细说明如下。
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1.一种稀释剂组成物，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的稀释剂组成物，其中所述溶剂(A)包括丙二醇单甲醚、丙二醇单甲醚乙酸酯、醋酸正丁酯、N-甲基吡咯烷酮、异丁醇、4-甲基-2-戊醇、γ-丁内酯、环己酮、环己醇、二甲基亚砜、乙醇、甲醇、丁醇或其组合。
3.根据权利要求1所述的稀释剂组成物，其中所述溶剂(A)为混合溶剂，所述混合溶剂是由至少两种不同的有机溶剂混合而成。
4.根据权利要求3所述的稀释剂组成物，其中所述混合溶剂的沸点为70℃至170℃，且浊度为小于或等于0.02NTU。
5.根据权利要求1所述的稀释剂组成物，其中所述溶剂(A)包括丙二醇单甲醚，且更包括丙二醇单甲醚乙酸酯、醋酸正丁酯、N-甲基吡咯烷酮、异丁醇、4-甲基-2-戊醇、γ-丁内酯、环己酮、环己醇、二甲基亚砜、乙醇、甲醇及丁醇中的至少一者。
6.根据权利要求1所述的稀释剂组成物，其中所述溶剂(A)是由丙二醇单甲醚与醋酸正丁酯混合而成的混合溶剂，且丙二醇单甲醚与醋酸正丁酯的混合比例为5:95至45:55。
7.根据权利要求1所述的稀释
8.根据权利要求1所述的稀释剂组成物，其中基于100重量份的所述稀释剂组成物，所述含氟添加剂(B)的量为0.001重量份至3重量份。
9.一种基板处理的方法，其特征在于，包括：
10.根据权利要求9所述的基板处理的方法，其中所述稀释剂组成物施加至所述基板表面的边缘。
11.根据权利要求9所述的基板处理的方法，其中所述基板表面上已涂布光刻胶组成物，且所述稀释剂组成物移除光刻胶组成物的表面边缘的凸起物。
...【技术特征摘要】
1.一种稀释剂组成物，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的稀释剂组成物，其中所述溶剂(a)包括丙二醇单甲醚、丙二醇单甲醚乙酸酯、醋酸正丁酯、n-甲基吡咯烷酮、异丁醇、4-甲基-2-戊醇、γ-丁内酯、环己酮、环己醇、二甲基亚砜、乙醇、甲醇、丁醇或其组合。
3.根据权利要求1所述的稀释剂组成物，其中所述溶剂(a)为混合溶剂，所述混合溶剂是由至少两种不同的有机溶剂混合而成。
4.根据权利要求3所述的稀释剂组成物，其中所述混合溶剂的沸点为70℃至170℃，且浊度为小于或等于0.02ntu。
5.根据权利要求1所述的稀释剂组成物，其中所述溶剂(a)包括丙二醇单甲醚，且更包括丙二醇单甲醚乙酸酯、醋酸正丁酯、n-甲基吡咯烷酮、异丁醇、4-甲基-2-戊醇、γ-丁内酯、环己酮、环己醇、二甲基亚砜、乙醇、甲醇及丁醇中的至少一者。
6.根据权利...
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