【技术实现步骤摘要】
本技术涉及光罩，特别涉及一种光罩。
技术介绍
1、在芯片生产过程中，需要使用光罩。如图1所示，光罩1包括底层101和图形层102；底层101设置在图形层102的下面，底层101通常采用石英玻璃制成；图形层102通常包括金属层1021和硅化物层1022，金属层1021设置在硅化物层1022的上面，金属层1021通常采用铬(cr)制成，硅化物层1022通常采用硅化钼(mosi)制成。图形层102的上表面上的电路图形可以利用黄光微影技术曝光至晶圆上。
2、参考图1和图2所示，光罩1具有一定的使用寿命，光罩1在使用一段时间后需要更换新的光罩1。在更换新的光罩1的时候，需要利用光罩图形检查机对光罩1进行对位(alignment，对位)和图形校准(image calibration，图形校准)等操作。在进行光罩对位时，需要将光罩1放在光罩图形检查机的承载台2上，然后根据对位图形(mark image，对位图形)找到r点(reference，r点或原点，参考图2中左下角圆的中心所示)、p点(primary，p点或起始点，参考图2中左下角圆的中心所示)和s点(secondary，s点或第二点，参考图2中右下角圆的中心所示)，通常r点和p点重合，在找到r点和s点之后，将r点和s点之间的连线作为x轴，并且x轴与承载台2沿x轴方向设置的水平支撑板201平行，然后将r点的坐标设定为(0，0)。如图2所示，虚线画的光罩1表示光罩1放倾斜了，需要重新对位；实线画的光罩1表示光罩1的位置放置正确，此时光罩图形检查机根据前述x轴和(0，0)坐标建立
3、然而，晶圆制造厂通常使用多个供应商提供的光罩1，不同供应商提供的光罩1上的主图形相同但是对位图形不同，即对位图形的形状、位置和大小均不同，晶圆制造厂的作业人员需要根据光罩1的供应商的不同更换光罩对位方案，导致光罩对位效率较低，作业人员的失误率较大。
技术实现思路
1、本技术提供了一种光罩，以解决光罩对位效率较低和作业人员的失误率较大的技术问题。
2、为解决上述技术问题，本技术提供了一种光罩，包括图形层，所述图形层包括主图形区域和非主图形区域，所述非主图形区域环绕所述主图形区域设置；所述非主图形区域的上表面上间隔设置有四个对位图形，所述主图形区域位于四个所述对位图形的中点所围合形成的矩形区域内；所述对位图形包括矩形边框，所述矩形边框内设置有两个第一图形和一个第二图形，所述第二图形设置在两个所述第一图形之间。
3、可选的，所述第一图形的形状为十字形。
4、可选的，所述第二图形的形状为矩形。
5、可选的，两个所述第一图形分布在所述矩形边框的对角线位置上。
6、可选的，所述第二图形的中心偏离所述矩形边框的中心。
7、可选的，所述主图形区域的形状为矩形，所述非主图形区域的轮廓为矩形，所述主图形区域的中心、所述非主图形区域的中心和四个所述对位图形围成的矩形的中心重合。
8、可选的，所述矩形边框的长度为1.5mm～2.5mm，所述矩形边框的宽度为1.5mm～2.5mm。
9、可选的，相邻两个所述对位图形之间的间距为133mm～134mm。
10、可选的，所述非主图形区域的上表面设置有保护膜框架，所述主图形区域设置在所述保护膜框架内，所述对位图形和所述保护膜框架之间的距离为6.6mm～8mm。
11、本技术提供了一种光罩，包括对位图形，该对位图形可以附加到各供应商提供的光罩上。该对位图形适用于正光阻或负光阻型态的光罩。当光罩需要对位时，只需要根据该对位图形进行对位即可，不再需要根据各供应商的不同对位图形进行对位，简化了光罩对位的难度。对位图形的矩形边框可以用于判断光罩相对x轴是否放斜，对位图形采用黑色和透明色相间设计，具有高辨识度，便于作业人员利用光罩图形检查机建立自动化程式。意想不到的效果是提高了光罩对位效率，降低了作业人员的失误率。
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1.一种光罩，其特征在于，包括图形层，所述图形层包括主图形区域和非主图形区域，所述非主图形区域环绕所述主图形区域设置；所述非主图形区域的上表面上间隔设置有四个对位图形，所述主图形区域位于四个所述对位图形的中点所围合形成的矩形区域内；所述对位图形包括矩形边框，所述矩形边框内设置有两个第一图形和一个第二图形，所述第二图形设置在两个所述第一图形之间。
2.如权利要求1所述的一种光罩，其特征在于，所述第一图形的形状为十字形。
3.如权利要求2所述的一种光罩，其特征在于，所述第二图形的形状为矩形。
4.如权利要求1所述的一种光罩，其特征在于，两个所述第一图形分布在所述矩形边框的对角线位置上。
5.如权利要求1所述的一种光罩，其特征在于，所述第二图形的中心偏离所述矩形边框的中心。
6.如权利要求1所述的一种光罩，其特征在于，所述主图形区域的形状为矩形，所述非主图形区域的轮廓为矩形，所述主图形区域的中心、所述非主图形区域的中心和四个所述对位图形围成的矩形的中心重合。
7.如权利要求1所述的一种光罩，其特征在于，所述矩形边框
8.如权利要求1所述的一种光罩，其特征在于，相邻两个所述对位图形之间的间距为133mm～134mm。
9.如权利要求1所述的一种光罩，其特征在于，所述非主图形区域的上表面设置有保护膜框架，所述主图形区域设置在所述保护膜框架内，所述对位图形和所述保护膜框架之间的距离为6.6mm～8mm。
...【技术特征摘要】
1.一种光罩，其特征在于，包括图形层，所述图形层包括主图形区域和非主图形区域，所述非主图形区域环绕所述主图形区域设置；所述非主图形区域的上表面上间隔设置有四个对位图形，所述主图形区域位于四个所述对位图形的中点所围合形成的矩形区域内；所述对位图形包括矩形边框，所述矩形边框内设置有两个第一图形和一个第二图形，所述第二图形设置在两个所述第一图形之间。
2.如权利要求1所述的一种光罩，其特征在于，所述第一图形的形状为十字形。
3.如权利要求2所述的一种光罩，其特征在于，所述第二图形的形状为矩形。
4.如权利要求1所述的一种光罩，其特征在于，两个所述第一图形分布在所述矩形边框的对角线位置上。
5.如权利要求1所述的一种光罩，其特征在于，所述第二图...
【专利技术属性】
技术研发人员：马春燕，黄瑞宇，齐志翰，司巧云，
申请(专利权)人：合肥晶合集成电路股份有限公司，
类型：新型
国别省市：
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