【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及薄膜制备，更为具体地，涉及一种旋涂装置、旋涂方法及电子设备。
技术介绍
1、在现有的制膜过程中，当移液器对旋涂仪进行排液的时候，通常需要人工打开旋涂仪上盖进行排液，或者是在旋涂仪上盖上开设一个排液口，将移液器插入排液口内进行排液。但是，使用人工打开和关闭旋涂仪上盖的方式无疑提高了成本，影响了生产效率，而在上盖上开设排液口，则可能在旋涂过程中将溶液排出。
2、此外，现有的制膜工艺通常需要多种不同规格的溶剂，随之也就需要适配不同规格的吸液件，在这些吸液件的抓取选用过程中，根据不同的需求选择的吸液件的位置也不尽相同，如何保证每一次都能够选取到需要的吸液件也成为了亟待解决的技术问题。
3、有鉴于此，确有必要对现有的薄膜制备旋涂装置进行改进，以解决上述问题。
技术实现思路
1、鉴于上述问题，本专利技术的目的是提供一种旋涂装置、旋涂方法及电子设备，以解决现有技术中存在的至少一个问题。
2、根据本专利技术的一个方面，提供一种旋涂装置，包括控制模组、支撑平台和设置在所述支撑平台上方的横梁结构，在支撑平台上依次设置的旋涂仪模组和供液模组；在所述横梁结构上设置的移液器；
3、所述供液模组包括依次设置的第一支架和第二支架，所述第一支架上设置有用于容置吸液件的收容槽，所述第二支架用于容置储液器；
4、控制模组用于控制所述移液器移动至所述第一支架中的收容槽处，并与所述吸液件组合连接；将与所述吸液件组合连接后的所述移液器移动至所述第二支
5、进一步，优选的技术方案为，还包括设置在所述支撑平台上的回收箱；所述回收箱设置在所述供液模组的远离所述旋涂仪模组的一侧。
6、另一方面，本专利技术还提供一种旋涂方法，方法包括，用于控制如上所述的旋涂装置进行旋涂制膜作业，所述方法包括，
7、将所述移液器沿第一方向和/或第二方向移动至所述第一支架中的目标收容槽对应的第一目标位置，以与所述目标收容槽中的目标吸液件组合连接；
8、将所述移液器沿所述第一方向和/或所述第二方向移动至所述第二支架中的目标储液器对应的第二目标位置，并利用所述目标吸液件从所述目标储液器中吸取目标溶液；
9、将所述旋涂仪模组的上盖打开，以及控制所述移液器在所述旋涂仪模组的上盖打开预设开度时沿所述第一方向和/或所述第二方向移动至所述旋涂仪模组，以在所述旋涂仪模组的上盖完全打开时所述移液器移动至与所述旋涂仪模组对应的第三目标位置；
10、控制所述移液器滴液，并控制所述旋涂仪模组的上盖闭合并激活所述旋涂仪模组。
11、进一步，优选的技术方案为，所述第一目标位置和所述第二目标位置根据预设的所述目标溶液与所述目标收容槽的坐标位置的映射关系，以及所述目标溶液与所述目标储液器的映射关系确定。
12、进一步，优选的技术方案为，当吸取目标溶液后的移液器移动至与所述旋涂仪模组对应的第三目标位置时，还包括，获取第三目标位置处的实时温度值以及实时湿度值；
13、利用预设的滴液量评估自适应模型，根据所述目标溶液的物理性质参数、所述实时温度值、所述实时湿度值获取所述目标溶液对应的滴液量；其中，所述目标溶液的物理性质参数包括表面张力、粘度和溶剂挥发速率；
14、根据所述滴液量进行滴液。
15、进一步，优选的技术方案为，根据所述滴液量进行滴液后，还包括，
16、以预设的时间间隔采集旋涂仪模组的实时转速数据；
17、基于预设的旋涂转速波动阈值，对所述实时转速数据的波动幅度进行持续监控；
18、若检测到实时转速数据的波动幅度超出预设的旋涂转速波动阈值，则即时触发报警信号；其中，所述旋涂仪模组的实时转速对旋涂转速数据集进行更新，所述旋涂转速波动阈值通过预设的旋涂转速评估模型确定；所述预设的旋涂转速评估模型基于所述旋涂转速数据集训练获得。
19、进一步，优选的技术方案为，所述第一支架包括至少两组阵列排布的收容槽，不同阵列组用于收容不同规格的吸液件，每组所述收容槽用于收容同一规格的吸液件，所述第二支架包括与每组所述阵列排布的收容槽对应的储液器，所述方法还包括，
20、确定所述目标吸液件所属的目标阵列组，并从所述目标阵列组中确定收容所述目标吸液件的目标收容槽对应的第一目标位置；
21、以及
22、根据所述目标阵列组确定所述第二支架中与所述目标阵列组对应的储液器及其对应的第二目标位置。
23、进一步，优选的技术方案为，所述旋涂仪模组还包括回收箱，所述方法还包括，
24、控制激活所述旋涂仪模组后，控制所述移液器移动至与所述回收箱对应的第四目标位置，并卸载所述目标吸液件；以及
25、返回执行控制所述移液器沿第一方向和/或第二方向移动至所述第一支架中的目标收容槽对应的第一目标位置的步骤。
26、第三方面，本专利技术还保护一种电子设备，所述电子设备包括存储器、处理器和存储在所述存储器上并可在所述处理器上运行的旋涂程序，所述旋涂程序被所述处理器执行时实现如上所述的旋涂方法。
27、第四方面，所述可读存储介质存储有计算机程序，所述计算机程序被处理器执行时实现如如上所述的旋涂方法。
28、上述旋涂装置、旋涂方法及电子设备，通过精准的滴液控制、实时的环境适应性调整，本专利技术显著提高了薄膜制备的良率，减少了因设备误差、操作失误或环境变化导致的制膜次品率。通过自动化、智能化和环境自适应等技术手段，有效解决了传统旋涂制膜过程中存在的精度不足、环境依赖性强以及操作复杂等问题，显著提升了薄膜制备的质量和效率，降低了生产成本，具有显著的技术优势和应用价值。
29、为了实现上述以及相关目的，本专利技术的一个或多个方面包括后面将详细说明的特征。下面的说明以及附图详细说明了本专利技术的某些示例性方面。然而，这些方面指示的仅仅是可使用本专利技术的原理的各种方式中的一些方式。此外，本专利技术旨在包括所有这些方面以及它们的等同物。
本文档来自技高网...【技术保护点】
1.一种旋涂装置，其特征在于，包括控制模组、支撑平台和设置在所述支撑平台上方的横梁结构，在所述支撑平台上依次设置旋涂仪模组和供液模组；在所述横梁结构上设置的移液器；
2.根据权利要求1所述的旋涂装置，其特征在于，还包括设置在所述支撑平台上的回收箱；所述回收箱设置在所述供液模组的远离所述旋涂仪模组的一侧。
3.一种旋涂方法，其特征在于，用于控制权利要求1所述的旋涂装置进行旋涂制膜作业，所述方法包括，
4.根据权利要求3所述的旋涂方法，其特征在于，所述第一目标位置和所述第二目标位置根据预设的所述目标溶液与所述目标收容槽的坐标位置的映射关系，以及所述目标溶液与所述目标储液器的映射关系确定。
5.根据权利要求3所述的旋涂方法，其特征在于，当吸取目标溶液后的移液器移动至与所述旋涂仪模组对应的第三目标位置时，还包括，获取第三目标位置处的实时温度值以及实时湿度值；
6.根据权利要求5所述的旋涂方法，其特征在于，根据所述滴液量进行滴液后，还包括，
7.根据权利要求3所述的旋涂方法，其特征在于，
8.根据权利要求3
9.一种电子设备，其特征在于，
10.一种计算机可读存储介质，其特征在于，所述存储介质存储有计算机程序，所述计算机程序被处理器执行时实现如权利要求3至8中任一项所述的旋涂方法。
...【技术特征摘要】
1.一种旋涂装置，其特征在于，包括控制模组、支撑平台和设置在所述支撑平台上方的横梁结构，在所述支撑平台上依次设置旋涂仪模组和供液模组；在所述横梁结构上设置的移液器；
2.根据权利要求1所述的旋涂装置，其特征在于，还包括设置在所述支撑平台上的回收箱；所述回收箱设置在所述供液模组的远离所述旋涂仪模组的一侧。
3.一种旋涂方法，其特征在于，用于控制权利要求1所述的旋涂装置进行旋涂制膜作业，所述方法包括，
4.根据权利要求3所述的旋涂方法，其特征在于，所述第一目标位置和所述第二目标位置根据预设的所述目标溶液与所述目标收容槽的坐标位置的映射关系，以及所述目标溶液与所述目标储液器的...
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。