【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及抛光砖制备，具体涉及一种局部具有镶嵌图案效果的抛光砖制备方法。
技术介绍
1、抛光砖在建筑行业应用广泛，例如作为墙面、地面材料。随着人们对于美感的追求，局部具有镶嵌图案效果的抛光砖受到广大消费者的喜爱。
2、传统具有镶嵌图案效果的抛光砖有以下几种制备工艺：
3、(1)布料工艺：将抛光砖粉料布设在栅格中，并压制成型；烧制形成抛光砖胚体；抛光后得到抛光砖。但是，由于图案粉料与抛光砖主体粉料在压制、烧制过程中发生共混，导致抛光砖上的镶嵌图案与抛光砖主体边界不清晰，因此图案效果不佳。
4、(2)板料工艺：将具有图案的板料与抛光砖粉料压制成型；烧制形成抛光砖胚体；抛光后得到抛光砖。其虽然边界感较为清晰，但是其图案不够清晰，同样影响最终的图案效果。
5、(3)cn109293399b公开了一种具有石纹浮凸感干粒砖及其制备方法，在砖坯上施底釉、喷墨打印仿石材图案；在喷墨图案的石材纹理处施加胶水后在砖面上布干粒；去除未粘牢固干粒；在砖面上施覆盖釉，烧成。但是，其直接在底釉打印图案，在图案上布干粒，烧制后砖面上会形成凸起状的图案，难以成型平面抛光砖，且图案与底釉的牢固程度不足，存在脱落风险。
6、基于此，本专利技术设计了一种局部具有镶嵌图案效果的抛光砖制备方法以解决上述问题。
技术实现思路
1、针对现有技术所存在的上述缺点，本专利技术提供了一种局部具有镶嵌图案效果的抛光砖制备方法。
2、为实现以上目的，本专利技术通
3、一种局部具有镶嵌图案效果的抛光砖制备方法，包括以下步骤：
4、步骤一、布粉料：将砖主体粉料布施在模框中；
5、步骤二、压制成型：粉料使用具有凹凸结构的模具压制得到砖坯，在砖坯上形成若干凹坑，然后将砖坯进行干燥处理；
6、步骤三、喷透明面釉：将面釉喷在砖坯的表面，之后进行干燥；
7、步骤四：制备耐高温打印墨水，使用喷墨打印机在凹坑的底面打印一层5～15μm的图案，然后用3d打印机在图案的上方打印一层0.5～1mm的胶水；
8、步骤五：在砖坯的整个表面布施干粒；所述干粒由直径为0.1～1mm的干粒a和直径为1～2mm的干粒b按照1：1混合而成；干粒b包括两部分，其内部与干粒a的原料相同，干粒b外部包覆0.2mm胶水后烘干；
9、步骤六：将未被胶水粘住的多余干粒吸走，使得仅图案上方的胶水处保留干粒；
10、步骤九：将砖坯入窑烧制，烧制过程中，胶水受热分解，干粒填充至凹坑内并形成玻璃体结构，将打印的图案封在凹坑内；
11、步骤十：使用抛光机对砖体进行抛光处理，得到局部具有镶嵌图案效果的抛光砖。
12、更进一步的，步骤二中，在砖坯上形成若干规则或者不规则形状的凹坑。
13、更进一步的，步骤二中，所述凹坑的深度控制在1～3mm。
14、更进一步的，步骤四中，所述胶水采用透明胶水。
15、更进一步的，步骤四中，所述胶水采用甲基丙烯酸粘胶剂。
16、更进一步的，步骤四中，所述耐高温打印墨水的原料以重量份计包括：丙烯酸树脂35～40份，层状水滑石1～3份，锆镁铬尖晶石粉末0.03～0.1份，氧化锡0.03～0.1份，多孔二氧化硅纳米球1～3份，纳米钛酸锂2～6份，颜料1～5份。
17、更进一步的，步骤五中，所述干粒a的原料以重量份计包括：废玻璃50～55份、α纳米氧化铝5～7份、硼砂3～5份、氧化铈0.3～1份、硅酸锆3～5份、碳酸钾1～3份、氧化硼0.8～1.3份。
18、更进一步的，步骤五中，所述干粒a的制备方法为：将原料混合后置于1500～1600℃下烧制成液体熔块流出后，进行研磨加工符合相应细度要求，得到形状不一的干粒。
19、更进一步的，步骤九中，烧制时间为45～70min，低温预热温度为900～1000℃，高温烧制温度为1150～1250℃。
20、更进一步的，还包括步骤七：在砖坯的整体表面喷一层0.2～0.5mm的胶水，固定干粒的位置。步骤八：对砖坯进行烘干处理。
21、本专利技术相较于现有技术，其有益效果为：本专利技术在布粉后通过模具压制成具有若干凹坑的砖坯，之后喷透明面釉，再使用喷墨打印机在凹坑的底面打印一层5～15μm的图案，然后用3d打印机在图案的上方打印一层0.5～1mm的胶水，通过布施两种直径的不同干粒，并用胶水固定干粒位置，在烧制过程中干粒填充至凹坑内并形成玻璃体结构，将打印的图案封在凹坑内，抛光处理后，抛光砖上的镶嵌图案与抛光砖主体边界清晰且图案清晰，效果佳、可制备得到平面抛光砖。同时，图案被封在凹坑内，不存在脱落风险。本专利技术制备得到的抛光砖具有抗折强度、抗压强度高等优点。
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1.一种局部具有镶嵌图案效果的抛光砖制备方法，其特征在于，包括以下步骤：
2.根据权利要求1所述的局部具有镶嵌图案效果的抛光砖制备方法，其特征在于，步骤二中，在砖坯上形成若干规则或者不规则形状的凹坑。
3.根据权利要求2所述的局部具有镶嵌图案效果的抛光砖制备方法，其特征在于，步骤二中，所述凹坑的深度控制在1～3mm。
4.根据权利要求3所述的局部具有镶嵌图案效果的抛光砖制备方法，其特征在于，步骤四中，所述胶水采用透明胶水。
5.根据权利要求4所述的局部具有镶嵌图案效果的抛光砖制备方法，其特征在于，步骤四中，所述胶水采用甲基丙烯酸粘胶剂。
6.根据权利要求5所述的局部具有镶嵌图案效果的抛光砖制备方法，其特征在于，步骤四中，所述耐高温打印墨水的原料以重量份计包括：丙烯酸树脂35～40份，层状水滑石1～3份，锆镁铬尖晶石粉末0.03～0.1份，氧化锡0.03～0.1份，多孔二氧化硅纳米球1～3份，纳米钛酸锂2～6份，颜料1～5份。
7.根据权利要求6所述的局部具有镶嵌图案效果的抛光砖制备方法，其特征在于，步骤五中，
8.根据权利要求7所述的局部具有镶嵌图案效果的抛光砖制备方法，其特征在于，步骤五中，所述干粒A的制备方法为：将原料混合后置于1500～1600℃下烧制成液体熔块流出后，进行研磨加工符合相应细度要求，得到形状不一的干粒。
9.根据权利要求8所述的局部具有镶嵌图案效果的抛光砖制备方法，其特征在于，步骤九中，烧制时间为45～70min，低温预热温度为900～1000℃，高温烧制温度为1150～1250℃。
10.根据权利要求9所述的局部具有镶嵌图案效果的抛光砖制备方法，其特征在于，还包括步骤七：在砖坯的整体表面喷一层0.2～0.5mm的胶水，固定干粒的位置；
...【技术特征摘要】
1.一种局部具有镶嵌图案效果的抛光砖制备方法，其特征在于，包括以下步骤：
2.根据权利要求1所述的局部具有镶嵌图案效果的抛光砖制备方法，其特征在于，步骤二中，在砖坯上形成若干规则或者不规则形状的凹坑。
3.根据权利要求2所述的局部具有镶嵌图案效果的抛光砖制备方法，其特征在于，步骤二中，所述凹坑的深度控制在1～3mm。
4.根据权利要求3所述的局部具有镶嵌图案效果的抛光砖制备方法，其特征在于，步骤四中，所述胶水采用透明胶水。
5.根据权利要求4所述的局部具有镶嵌图案效果的抛光砖制备方法，其特征在于，步骤四中，所述胶水采用甲基丙烯酸粘胶剂。
6.根据权利要求5所述的局部具有镶嵌图案效果的抛光砖制备方法，其特征在于，步骤四中，所述耐高温打印墨水的原料以重量份计包括：丙烯酸树脂35～40份，层状水滑石1～3份，锆镁铬尖晶石粉末0.03～0.1份，氧化锡0.03～0.1份，多孔二氧化硅纳米球1～3份，纳米钛酸锂2～6...
【专利技术属性】
技术研发人员：汪成东，潘侦，胡建军，陈顺妹，
申请(专利权)人：广东天弼陶瓷有限公司，
类型：发明
国别省市：
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