【技术实现步骤摘要】
本专利技术提供了一种基于饱和流体的高精度变温黑体辐射源及其温度控制装置和方法，属于黑体辐射源。
技术介绍
1、焦平面红外探测器的性能评价中，高精度黑体辐射源是关键设备，其需要具备高温度稳定性和温度确定性，以实现对于红外探测器芯片和组件的性能综合评测。在实际应用中对于便携式大开口黑体有广泛的应用需求。目前黑体辐射源的常规的做法是利用半导体制冷器+密闭流体+加热片的方式实现；虽然温度均匀性和控制精度能够满足要求，但是实际温度与客观温度的差别没有现场直观的验证，导致对用于长波、甚长波红外探测器评价的低温黑体温度控制难度大，使用不方便。
技术实现思路
1、为了解决上述技术问题，本专利技术提出了一种基于饱和流体的高精度变温黑体辐射源及其温度控制装置和方法。
2、本专利技术采用的技术方案为：一种基于饱和流体的高精度变温黑体辐射源，包括绝热腔，绝热腔内设置有黑体，黑体的一侧设置有光学玻璃，使得黑体与光学玻璃之间形成真空夹层，黑体另一侧的腔室内充满有饱和液体。
3、进一步地，所述绝热腔的上下侧设置有绝热层。
4、进一步地，所述光学玻璃采用全透光学玻璃。
5、进一步地，所述黑体采用低温黑体。
6、进一步地，所述低温黑体的等温面温度范围为0-80℃。
7、一种基于饱和流体的高精度变温黑体辐射源的温控控制装置，包括基于饱和流体的高精度变温黑体辐射源，还包括循环泵、液体温控回路和精密调压装置，位于饱和液体一侧的绝热腔的腔体侧面上开设有
8、进一步地，所述液体温控回路包括半导体制冷机、加热器和温度计。
9、进一步地，所述精密调压装置上还设置有压力表。
10、进一步地，所述精密调压装置包括压力调整气缸和精密进给螺纹，精密进给螺纹的活动端伸入压力调整气缸内，精密进给螺纹的活动端设置有密封圈，精密进给螺纹的自由端设置有把手。
11、一种基于饱和流体的高精度变温黑体辐射源的温控控制方法，包括以下步骤：
12、s1：启动循环泵和液体控温回路，通过半导体制冷机和加热器的组合对饱和液体进行初步温度控制；
13、s2：利用精密调压装置，通过调节精密进给螺纹的进给量实现对饱和液体的压力调节，从而实现对饱和液体温度的精密控制；
14、s3：通过对循环泵的运行速度的控制，使饱和液体在腔室内匀速流动，实现对黑体表面的等温控制。
15、本专利技术相对于现有技术具备的有益效果为：本专利技术利用饱和液体的温度与其饱和压力强相关的客观物理规律，利用液体控温回路的饱和压力实现黑体侧温度的稳定、精确控制；控温精度高、自带温度计校准，通过低速循环泵使得黑体表面有持续的流体对流换热，提高了黑体等温面的表面温度均匀性。
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1.一种基于饱和流体的高精度变温黑体辐射源，其特征在于：包括绝热腔，绝热腔内设置有黑体，黑体的一侧设置有光学玻璃，使得黑体与光学玻璃之间形成真空夹层，黑体另一侧的腔室内充满有饱和液体。
2.根据权利要求1所述的一种基于饱和流体的高精度变温黑体辐射源，其特征在于：所述绝热腔的上下侧设置有绝热层。
3.根据权利要求1所述的一种基于饱和流体的高精度变温黑体辐射源，其特征在于：所述光学玻璃采用全透光学玻璃。
4.根据权利要求1-3任一项所述的一种基于饱和流体的高精度变温黑体辐射源，其特征在于：所述黑体采用低温黑体。
5.根据权利要求4所述的一种基于饱和流体的高精度变温黑体辐射源，其特征在于：所述低温黑体的等温面温度范围为0-80℃。
6.一种基于饱和流体的高精度变温黑体辐射源的温控控制装置，其特征在于：包括如权利要求1-5任一项所述的基于饱和流体的高精度变温黑体辐射源，还包括循环泵、液体温控回路和精密调压装置，位于饱和液体一侧的绝热腔的腔体侧面上开设有上下两个接口，上端接口通过管道连接循环泵后接入液体控温回路的输入端，从液体控温
7.根据权利要求6所述的一种基于饱和流体的高精度变温黑体辐射源的温控控制装置，其特征在于：所述液体温控回路包括半导体制冷机、加热器和温度计。
8.根据权利要求6所述的一种基于饱和流体的高精度变温黑体辐射源的温控控制装置，其特征在于：所述精密调压装置上还设置有压力表。
9.根据权利要求8所述的一种基于饱和流体的高精度变温黑体辐射源的温控控制装置，其特征在于：所述精密调压装置包括压力调整气缸和精密进给螺纹，精密进给螺纹的活动端伸入压力调整气缸内，精密进给螺纹的活动端设置有密封圈，精密进给螺纹的自由端设置有把手。
10.采用如权利要求6-9任一项所述的基于饱和流体的高精度变温黑体辐射源的温控控制装置对黑体温度进行控制的方法，其特征在于：包括以下步骤：
...【技术特征摘要】
1.一种基于饱和流体的高精度变温黑体辐射源，其特征在于：包括绝热腔，绝热腔内设置有黑体，黑体的一侧设置有光学玻璃，使得黑体与光学玻璃之间形成真空夹层，黑体另一侧的腔室内充满有饱和液体。
2.根据权利要求1所述的一种基于饱和流体的高精度变温黑体辐射源，其特征在于：所述绝热腔的上下侧设置有绝热层。
3.根据权利要求1所述的一种基于饱和流体的高精度变温黑体辐射源，其特征在于：所述光学玻璃采用全透光学玻璃。
4.根据权利要求1-3任一项所述的一种基于饱和流体的高精度变温黑体辐射源，其特征在于：所述黑体采用低温黑体。
5.根据权利要求4所述的一种基于饱和流体的高精度变温黑体辐射源，其特征在于：所述低温黑体的等温面温度范围为0-80℃。
6.一种基于饱和流体的高精度变温黑体辐射源的温控控制装置，其特征在于：包括如权利要求1-5任一项所述的基于饱和流体的高精度变温黑体辐射源，还包括循环泵、液体温控回路和精密调压装置，位于饱和...
【专利技术属性】
技术研发人员：蔡京辉，张培峰，李欣诺，薛建凯，
申请(专利权)人：浙江国科流体设备有限公司，
类型：发明
国别省市：
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