【技术实现步骤摘要】
本技术涉及半导体去胶剂生产，具体为一种便于清洗的去胶剂过滤罐。
技术介绍
1、去胶剂是一种合成的化学药剂，可以有效去除种类快干胶、油脂等化学成份，半导体去胶剂用于半导体芯片制造图形化工艺中清除光刻胶；在半导体去胶剂生产过程中要对其进行过滤，因此需要用到过滤罐。
2、如申请号为cn201520561851.3的技术公开了一种半导体行业用电解去胶剂生产用过滤装置，类似于上述申请的去胶剂过滤装置目前还存在以下几点不足：不便于对过滤罐进行清洗，需要拆卸清洁，并且长时间过滤后容易造成杂质堆积，不便于及时排出过滤后的杂质，使用存在局限性。
3、于是，有鉴于此，针对现有的结构及缺失予以研究改良，提出一种便于清洗的去胶剂过滤罐。
技术实现思路
1、本技术的目的在于提供一种便于清洗的去胶剂过滤罐，以解决上述
技术介绍
中提出的问题。
2、为实现上述目的，本技术提供如下技术方案：一种便于清洗的去胶剂过滤罐，包括过滤罐体、清洗组件和过滤组件，所述过滤罐体的内侧固定有分隔板，且分隔板的内外侧两侧分别设置为过滤腔和储液腔，并且分隔板的下方固定有下滤板，所述过滤罐体的内部上方安装有清洗组件，且清洗组件包括外清洗环、进水管、连接管、内清洗环、下清洗环和清洗喷头，所述外清洗环的右侧连接有进水管，且外清洗环的内侧通过连接管安装有内清洗环，所述外清洗环的下侧通过连接管安装有下清洗环，且外清洗环、内清洗环和下清洗环的下方均安装有清洗喷头，并且下清洗环位于储液腔的内部上方，所述过滤腔的内部
3、进一步的，所述过滤组件包括过滤网和密封环，所述下滤板的内侧通过固定杆固定有过滤网，且过滤网呈圆锥状结构，所述过滤网与下滤板内壁之间的空隙处设置有密封环，且密封环为左右对称的两个半环形结构。
4、进一步的，所述过滤组件还包括连接杆和伸缩杆，所述过滤网、密封环均设置有上下三组，且密封环之间固定有连接杆，最上侧所述密封环的上方安装有伸缩杆。
5、进一步的，所述过滤罐体的上方安装有罐盖，且罐盖的前后侧均设置有进料管，并且罐盖和过滤罐体的中部安装有防堵组件。
6、进一步的，所述防堵组件包括旋转电机、旋转轴和防堵刷，所述旋转电机安装于罐盖的中部上方，且旋转电机的下侧设置有旋转轴，所述旋转轴位于过滤罐体的内部中间，且旋转轴的外侧安装有防堵刷。
7、进一步的，所述防堵组件还包括清理刷，所述防堵刷呈倾斜状结构，且防堵刷的下侧面与过滤网的上侧面相贴合，所述旋转轴的底部外侧固定有清理刷，且清理刷呈“l”型结构。
8、进一步的，所述过滤腔的中部下方安装有排污管，所述储液腔的下方连接有下料管。
9、本技术提供了一种便于清洗的去胶剂过滤罐，具备以下有益效果：
10、本技术设置有清洗组件，通过连接管便于将清洁水源送入到外清洗环的内部，使得清洗组件不同位置的多组清洗喷头能够对分隔板的内壁、过滤组件、储液腔进行充分清洗，伸缩杆便于带动上下三组密封环的升降，使得过滤网与下滤板内壁之间的空隙空出，以便于清洗过程中杂质的下料，从而便于通过底部的排污管进行排污，避免杂质堆积在过滤网上不便排出的问题。
11、本技术设置有过滤组件和防堵组件，过滤网呈圆锥状结构使得过滤后的杂质能够在重力的作用下流动至外环的密封环位置，下滤板用于对去胶剂进行再过滤使得去胶剂能够进入至储液腔的内部，以便于通过下料管排出过滤后的去胶剂，通过防堵组件便于对过滤网的上侧面、过滤腔的底面及下滤板的内侧壁进行清理。
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1.一种便于清洗的去胶剂过滤罐，包括过滤罐体(1)、清洗组件(6)和过滤组件(9)，其特征在于，所述过滤罐体(1)的内侧固定有分隔板(2)，且分隔板(2)的内外侧两侧分别设置为过滤腔(3)和储液腔(5)，并且分隔板(2)的下方固定有下滤板(4)，所述过滤罐体(1)的内部上方安装有清洗组件(6)，且清洗组件(6)包括外清洗环(601)、进水管(602)、连接管(603)、内清洗环(604)、下清洗环(605)和清洗喷头(606)，所述外清洗环(601)的右侧连接有进水管(602)，且外清洗环(601)的内侧通过连接管(603)安装有内清洗环(604)，所述外清洗环(601)的下侧通过连接管(603)安装有下清洗环(605)，且外清洗环(601)、内清洗环(604)和下清洗环(605)的下方均安装有清洗喷头(606)，并且下清洗环(605)位于储液腔(5)的内部上方，所述过滤腔(3)的内部中间安装有过滤组件(9)。
2.根据权利要求1所述的一种便于清洗的去胶剂过滤罐，其特征在于，所述过滤组件(9)包括过滤网(901)和密封环(902)，所述下滤板(4)的内侧通过固定杆固定
3.根据权利要求2所述的一种便于清洗的去胶剂过滤罐，其特征在于，所述过滤组件(9)还包括连接杆(903)和伸缩杆(904)，所述过滤网(901)、密封环(902)均设置有上下三组，且密封环(902)之间固定有连接杆(903)，最上侧所述密封环(902)的上方安装有伸缩杆(904)。
4.根据权利要求2所述的一种便于清洗的去胶剂过滤罐，其特征在于，所述过滤罐体(1)的上方安装有罐盖(7)，且罐盖(7)的前后侧均设置有进料管(8)，并且罐盖(7)和过滤罐体(1)的中部安装有防堵组件(10)。
5.根据权利要求4所述的一种便于清洗的去胶剂过滤罐，其特征在于，所述防堵组件(10)包括旋转电机(1001)、旋转轴(1002)和防堵刷(1003)，所述旋转电机(1001)安装于罐盖(7)的中部上方，且旋转电机(1001)的下侧设置有旋转轴(1002)，所述旋转轴(1002)位于过滤罐体(1)的内部中间，且旋转轴(1002)的外侧安装有防堵刷(1003)。
6.根据权利要求5所述的一种便于清洗的去胶剂过滤罐，其特征在于，所述防堵组件(10)还包括清理刷(1004)，所述防堵刷(1003)呈倾斜状结构，且防堵刷(1003)的下侧面与过滤网(901)的上侧面相贴合，所述旋转轴(1002)的底部外侧固定有清理刷(1004)，且清理刷(1004)呈“L”型结构。
7.根据权利要求1所述的一种便于清洗的去胶剂过滤罐，其特征在于，所述过滤腔(3)的中部下方安装有排污管(11)，所述储液腔(5)的下方连接有下料管(12)。
...【技术特征摘要】
1.一种便于清洗的去胶剂过滤罐，包括过滤罐体(1)、清洗组件(6)和过滤组件(9)，其特征在于，所述过滤罐体(1)的内侧固定有分隔板(2)，且分隔板(2)的内外侧两侧分别设置为过滤腔(3)和储液腔(5)，并且分隔板(2)的下方固定有下滤板(4)，所述过滤罐体(1)的内部上方安装有清洗组件(6)，且清洗组件(6)包括外清洗环(601)、进水管(602)、连接管(603)、内清洗环(604)、下清洗环(605)和清洗喷头(606)，所述外清洗环(601)的右侧连接有进水管(602)，且外清洗环(601)的内侧通过连接管(603)安装有内清洗环(604)，所述外清洗环(601)的下侧通过连接管(603)安装有下清洗环(605)，且外清洗环(601)、内清洗环(604)和下清洗环(605)的下方均安装有清洗喷头(606)，并且下清洗环(605)位于储液腔(5)的内部上方，所述过滤腔(3)的内部中间安装有过滤组件(9)。
2.根据权利要求1所述的一种便于清洗的去胶剂过滤罐，其特征在于，所述过滤组件(9)包括过滤网(901)和密封环(902)，所述下滤板(4)的内侧通过固定杆固定有过滤网(901)，且过滤网(901)呈圆锥状结构，所述过滤网(901)与下滤板(4)内壁之间的空隙处设置有密封环(902)，且密封环(902)为左右对称的两个半环形结构。
3.根据权利要求2所述的一种便于清洗的去胶剂过滤罐，其特征在于，所述过滤组件(9)还包括连接...
【专利技术属性】
技术研发人员：朱海良，
申请(专利权)人：江苏矽研半导体科技有限公司，
类型：新型
国别省市：
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