System.ArgumentOutOfRangeException: 索引和长度必须引用该字符串内的位置。 参数名: length 在 System.String.Substring(Int32 startIndex, Int32 length) 在 zhuanliShow.Bind() 蒸镀装置和蒸镀方法制造方法及图纸_技高网

蒸镀装置和蒸镀方法制造方法及图纸

技术编号:44551436 阅读:4 留言:0更新日期:2025-03-11 14:14
本申请提供了一种蒸镀装置和蒸镀方法,该装置包括:坩埚、坩埚盖、M个坩埚喷嘴和导流装置,坩埚用于产生蒸镀气体,坩埚盖用于覆盖坩埚的顶部,M个坩埚喷嘴设置在坩埚盖上,用于使得蒸镀气体从坩埚中喷出,M为正整数;导流装置设置于坩埚中,导流装置包括:导流板和N个导流件,导流板上开设N个导流孔,N个导流件通过至少两个支撑件设置于导流板上,N个导流件用于吸附或反射穿过N个导流孔的蒸镀气体中的杂质颗粒,N为小于或等于M的正整数。该蒸镀装置能够有效阻挡杂质颗粒从坩埚喷嘴喷出,从而提高了蒸镀膜层的稳定性和均匀性,改善了显示面板的性能和良率。

【技术实现步骤摘要】

本申请涉及蒸镀设备,并且,更具体地,涉及一种蒸镀装置和蒸镀方法


技术介绍

1、有机发光半导体(organic light emitting diode,oled)由于同时具备响应时间快,可视角度大,对比度高,重量轻,功耗低等特点,是当下显示器件研究热门领域之一,并且,由于其特有的柔性,可以制造出可弯曲、可折叠的显示屏,这使其在可穿戴设备、柔性电子设备以及曲面显示设备等新型应用中展现出巨大的潜力。

2、目前,在制备oled显示面板的过程中,需要将各层有机发光材料均匀蒸镀到基板上,即需要在基板下方设置蒸镀装置,蒸镀装置内的蒸镀材料经过加热后蒸发或气化,从蒸镀装置的喷嘴喷出,使得材料均匀地附着在基板上,以形成高质量的膜层。

3、然而,在上述过程中,部分有机材料或金属材料受热蒸发后可能出现灰化或部分变质的现象,产生杂质颗粒,这些杂质颗粒和有效材料共同经由喷嘴蒸发,沉积到基板上,这将影响显示面板的性能和良率。


技术实现思路

1、本申请提供一种蒸镀装置和蒸镀方法,该蒸镀装置能够有效阻挡杂质颗粒从坩埚喷嘴喷出,从而提高了蒸镀膜层的稳定性和均匀性,改善了显示面板的性能和良率。

2、第一方面,提供了一种蒸镀装置,所述装置包括:坩埚、坩埚盖、m个坩埚喷嘴和导流装置,所述坩埚用于产生蒸镀气体,所述坩埚盖用于覆盖所述坩埚的顶部,所述m个坩埚喷嘴设置在所述坩埚盖上,用于使得所述蒸镀气体从所述坩埚中喷出,m为正整数;所述导流装置设置于所述坩埚中,所述导流装置包括:导流板和n个导流件,所述导流板上开设n个导流孔,所述n个导流件通过至少两个支撑件设置于所述导流板上,所述n个导流件用于吸附或反射穿过所述n个导流孔的蒸镀气体中的杂质颗粒,n为小于或等于m的正整数。

3、本申请实施例中,由于n个导流件可以吸附和反射穿过n个导流孔的蒸镀气体中的杂质颗粒,使得导流装置能够有效阻挡杂质颗粒从坩埚喷嘴喷出,从而提高了蒸镀膜层的稳定性和均匀性,改善了显示面板的性能和良率。

4、结合第一方面,在第一方面的某些实现方式中,所述n个导流件的横截面面积大于或等于所述n个导流孔的横截面面积。

5、本申请实施例中,通过设置n个导流件的横截面积之和大于或等于n个导流孔的横截面积,使得n个导流件能够更有效地吸附或反射穿过n个导流孔的蒸镀气体中的杂质颗粒,从而提高了蒸镀膜层的稳定性和均匀性。

6、结合第一方面,在第一方面的某些实现方式中,所述n个导流件包括至少一个第一导流件,所述至少一个第一导流件为圆台形状,所述圆台包括底面和侧面;所述底面通过所述至少两个支撑件设置于所述导流板上,所述圆台的母线与所述底面所在平面的夹角小于或等于45度。

7、本申请实施例中,通过将至少一个第一导流件设置为圆台形状,这样,蒸镀气体可以被圆台的底面吸附或反射,另一方面,从导流装置侧面经过的蒸镀气体可以被圆台的侧面进一步吸附和反射,通过这样的方式,有利于提高导流装置吸附和反射杂质颗粒的效果,从而进一步改善了显示面板的性能和良率。

8、结合第一方面,在第一方面的某些实现方式中,所述n个导流孔的横截面面积之和大于或等于所述导流板横截面面积的百分之二。

9、本申请实施例中,通过设置n个导流孔的横截面面积大于或等于导流板横截面面积的百分之二,能够缩短蒸镀的时间,提高蒸镀装置蒸镀的效率。

10、结合第一方面,在第一方面的某些实现方式中,在所述n个导流孔的横截面为圆形的情况下,所述至少两个支撑件的长度小于或等于所述圆形的半径,或者在所述n个导流孔的横截面为多边形的情况下,所述至少两个支撑件的长度小于或等于所述多边形对角线长度的二分之一。

11、本申请实施例中,基于导流孔形状设置支撑件的长度,能够确保支撑件具备良好的结构强度和稳定性,防止支撑件因过长导致的弯曲、变形或振动等问题,进而提高了整个蒸镀装置的性能。

12、结合第一方面,在第一方面的某些实现方式中,所述蒸镀装置为线源蒸镀装置,所述坩埚盖和所述导流板的横截面为矩形;所述m个坩埚喷嘴沿所述坩埚盖的长度方向排列,以及所述n个导流孔沿所述导流板的长度方向排列。

13、结合第一方面,在第一方面的某些实现方式中,所述蒸镀装置为点源蒸镀装置,所述导流板的横截面为圆形。

14、结合第一方面,在第一方面的某些实现方式中,所述装置还包括阻挡结构;所述阻挡结构设置于所述m个坩埚喷嘴的上方,所述阻挡结构包括q个通孔,所述阻挡结构用于阻挡所述蒸镀气体中的杂质颗粒,q为正整数。

15、本申请实施例中,通过在m个坩埚喷嘴上方设置阻挡结构,该阻挡结构可以进一步阻挡蒸镀气体中的杂质颗粒,从而进一步降低杂质颗粒随有效蒸镀材料一起沉积到基板的概率,从而能够提高了蒸镀膜层的稳定性和均匀性,改善了显示面板的性能和良率。

16、结合第一方面,在第一方面的某些实现方式中,所述q个通孔的直径大于或等于45微米,小于或等于1000微米。

17、本申请实施例中,通过设置阻挡结构中q个通孔的直径,能够控制阻挡结构的性能,从而使得阻挡结构可以适用于不同的应用场景下。

18、第二方面,提供了一种蒸镀方法,该方法包括:使用上述第一方面中任意一种实现方式中的蒸镀装置蒸发或气化材料,该材料包括有机材料和/或金属材料。

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【技术保护点】

1.一种蒸镀装置,其特征在于,所述装置包括:坩埚、坩埚盖、M个坩埚喷嘴和导流装置,所述坩埚用于产生蒸镀气体,所述坩埚盖用于覆盖所述坩埚的顶部,所述M个坩埚喷嘴设置在所述坩埚盖上,用于使得所述蒸镀气体从所述坩埚中喷出,M为正整数;

2.如权利要求1所述的蒸镀装置,其特征在于,所述N个导流件的横截面面积大于或等于所述N个导流孔的横截面面积。

3.如权利要求2所述的蒸镀装置,其特征在于,所述N个导流件包括至少一个第一导流件,所述至少一个第一导流件为圆台形状,所述圆台包括底面和侧面;

4.如权利要求1至3中任一项所述的蒸镀装置,其特征在于,所述N个导流孔的横截面面积之和大于或等于所述导流板横截面面积的百分之二。

5.如权利要求1至4中任一项所述的蒸镀装置,其特征在于,

6.如权利要求1至5中任一项所述的蒸镀装置,其特征在于,所述蒸镀装置为线源蒸镀装置,所述坩埚盖和所述导流板的横截面为矩形;

7.如权利要求1至6中任一项所述的蒸镀装置,其特征在于,所述蒸镀装置为点源蒸镀装置,所述导流板的横截面为圆形。

8.如权利要求1至7中任一项所述的蒸镀装置,其特征在于,所述装置还包括阻挡结构;

9.如权利要求8所述的蒸镀装置,其特征在于,所述Q个通孔的直径大于或等于45微米,小于或等于1000微米。

10.一种蒸镀方法,其特征在于,所述方法包括:使用如权利要求1至9中任一项所述的蒸镀装置蒸发或气化材料,所述材料包括有机材料和/或金属材料。

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【技术特征摘要】

1.一种蒸镀装置,其特征在于,所述装置包括:坩埚、坩埚盖、m个坩埚喷嘴和导流装置,所述坩埚用于产生蒸镀气体,所述坩埚盖用于覆盖所述坩埚的顶部,所述m个坩埚喷嘴设置在所述坩埚盖上,用于使得所述蒸镀气体从所述坩埚中喷出,m为正整数;

2.如权利要求1所述的蒸镀装置,其特征在于,所述n个导流件的横截面面积大于或等于所述n个导流孔的横截面面积。

3.如权利要求2所述的蒸镀装置,其特征在于,所述n个导流件包括至少一个第一导流件,所述至少一个第一导流件为圆台形状,所述圆台包括底面和侧面;

4.如权利要求1至3中任一项所述的蒸镀装置,其特征在于,所述n个导流孔的横截面面积之和大于或等于所述导流板横截面面积的百分之二。

5.如权利要...

【专利技术属性】
技术研发人员:陈爱国廖先江崔家宾张金中刘佳宁
申请(专利权)人:京东方科技集团股份有限公司
类型:发明
国别省市:

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