【技术实现步骤摘要】
本技术涉及抛光设备和水处理的，尤其涉及一种半导体衬底精密抛光机的水箱系统。
技术介绍
1、半导体衬底精密抛光机在工作过程中会产生不同的液体，比如在修盘时会有切削液，清洗设备过程中会有清洗废水等。液体中可能有切削产生的铁屑和废渣、管道中的杂质等，此时需要过滤固废，再集中处理排放。研磨过程中的辅助研磨液、抛光过程中的抛光液等可能需要回收利用，且研磨液和抛光液需要不断搅拌防止沉淀。
技术实现思路
1、为克服现有技术的缺陷，本技术要解决的技术问题是提供了一种半导体衬底精密抛光机的水箱系统，其能够分离半导体衬底精密抛光机在工作过程中产生的不同种类物质，可过滤液体中固废再集中处理排放，对研磨过程中研磨液、抛光液等回收利用，防止研磨液、抛光液沉淀，并且结构紧凑、占地面积小。
2、本技术的技术方案是：一种半导体衬底精密抛光机的水箱系统，其安装在半导体衬底精密抛光机的液体排出管道的下方，且包括：电动水泵、搅拌部件、过滤槽、水箱箱体；
3、电动水泵、搅拌部件、过滤槽均安装固定在水箱箱体的箱盖上，过滤槽的横截面为长方形，其底部和四周设有过滤网，过滤槽对准半导体衬底精密抛光机的液体排出管道，排出的物质通过过滤槽的过滤网滤掉杂质进入水箱箱体内，通过电动水泵将水箱箱体内的物质抽出，经过水管到半导体衬底精密抛光机需要该介质的位置处，搅拌部件通过电机驱动叶轮来对水箱箱体内液体物质进行搅拌，水箱箱体具有常闭盖子。
4、本技术的电动水泵、搅拌部件、过滤槽均安装固定在水箱箱体的箱盖上
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1.一种半导体衬底精密抛光机的水箱系统，其特征在于：其安装在半导体衬底精密抛光机的液体排出管道(6)的下方，且包括：电动水泵(1)、搅拌部件(2)、过滤槽(3)、水箱箱体(4)；
2.根据权利要求1所述的半导体衬底精密抛光机的水箱系统，其特征在于：该水箱系统还包括万向轮(5)，其固定在水箱箱体的底部。
3.根据权利要求2所述的半导体衬底精密抛光机的水箱系统，其特征在于：所述过滤槽的前面、后面、左面、右面、底面均开设两个矩形孔。
4.根据权利要求3所述的半导体衬底精密抛光机的水箱系统，其特征在于：在所述过滤槽的左面、右面分别设置提手(32)。
【技术特征摘要】
1.一种半导体衬底精密抛光机的水箱系统，其特征在于：其安装在半导体衬底精密抛光机的液体排出管道(6)的下方，且包括：电动水泵(1)、搅拌部件(2)、过滤槽(3)、水箱箱体(4)；
2.根据权利要求1所述的半导体衬底精密抛光机的水箱系统，其特征在于：该水箱系统还包括万向轮(5)，其...
【专利技术属性】
技术研发人员：郭胜安，雷立猛，赖任延，喻明清，
申请(专利权)人：湖南金岭机床科技集团有限公司，
类型：新型
国别省市：
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